AZ91D鎂合金無(wú)氰預(yù)鍍銅工藝的研究
本文關(guān)鍵詞:AZ91D鎂合金無(wú)氰預(yù)鍍銅工藝的研究 出處:《電鍍與環(huán)保》2016年01期 論文類型:期刊論文
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【摘要】:為了優(yōu)化鎂合金無(wú)氰預(yù)鍍銅工藝,分別探討了電流密度、溫度、pH值、時(shí)間對(duì)預(yù)鍍銅層厚度及結(jié)合強(qiáng)度的影響。得到的最佳電鍍工藝參數(shù)為:電流密度1.5A/dm2,溫度40℃,pH值8.5,時(shí)間20min。此時(shí),鍍銅層的綜合性能最好。
[Abstract]:In order to optimize the process of cyanide free copper plating for magnesium alloy, the influence of current density, temperature, pH value and time on the thickness and bonding strength of the pre plated copper layer were investigated. The optimum electroplating parameters are as follows: current density 1.5A/dm2, temperature 40 C, pH value 8.5, time 20min. At this time, the comprehensive performance of the copper plating layer is the best.
【作者單位】: 遼寧工程技術(shù)大學(xué)礦業(yè)技術(shù)學(xué)院;
【分類號(hào)】:TQ153.14
【正文快照】: YANG Sen,SU Di,LI Yan-li(Mining Industry and Technology Institute,Liaoning Technical University,Huludao 125105,China)0前言鎂合金的電位很低,在高于室溫或潮濕的環(huán)境中極易被氧化。這層氧化膜的存在會(huì)降低鍍層與鎂合金基體間的結(jié)合強(qiáng)度。目前可以通過(guò)適當(dāng)?shù)那疤幚韥?lái)
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,本文編號(hào):1340479
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