本文關(guān)鍵詞：低比表面積納米二氧化硅的制備研究

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【摘要】：以含有Si—O—Si鍵及Si—Si鍵的物質(zhì)為原料,采用氣相法制備低比表面積納米二氧化硅�？疾觳煌肿咏Y(jié)構(gòu)對最終樣品粒度、比表面積的影響。采用低溫氮吸附、納米粒度測試等手段對樣品進行了表征。結(jié)果表明,Si—O—Si形式的分子結(jié)構(gòu)更有利于形成低比表面積的納米二氧化硅,分子中取代基團對樣品孔特性及粒度也有明顯影響。
【作者單位】： 寧夏勝藍化工環(huán)保科技有限公司;寧波大學(xué)建筑工程與環(huán)境學(xué)院;
【基金】：科技部科技型中小企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新基金(11C26216406395)
【分類號】：TB383.1;TQ127.2
【正文快照】： 納米二氧化硅在工業(yè)領(lǐng)域有著重要的應(yīng)用,比如高分子復(fù)合材料、塑料、橡膠、涂料、油墨、電子封裝材料、陶瓷、密封劑、食品等[1-2]。目前商業(yè)化的納米二氧化硅(氣相法白炭黑或沉淀法白炭黑)都具有較大的比表面積[3]。與上述高比表面二氧化硅不同,在一些特殊領(lǐng)域需要使用比表面

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