磁控濺鍍PVD涂層磨蝕行為及機制研究
【圖文】:
重慶大學(xué)碩士學(xué)位論文 1 緒 論沉積能量進(jìn)一步增加,,原子具有很高表面擴(kuò)散能力并開始進(jìn)行體擴(kuò)散,形成均勻柱狀晶(II 區(qū)),此時晶粒內(nèi)部缺陷少且柱狀晶邊界非常致密,力學(xué)性能得到了提高。繼續(xù)增加沉積溫度,原子體擴(kuò)散能力提高,出現(xiàn)了再結(jié)晶等軸晶組織。隨著沉積原子擴(kuò)散能力提高,涂層結(jié)晶性、致密度以及力學(xué)性能等均會提升。
.2 采用 MPPMS+PDCMS 沉積的不同 Si 含量的 CrSiN 涂層截面 TEM:(a) 4.8 at.%, at.%, (c) 10.2 at.%, and (d) 20 at.%.[9]Fig. 1.2 Cross-sectional TEM micrographs of the CrSiN coatings deposited usingPPMS+PDCMS with different Si contents: (a) 4.8 at.%, (b) 6.7 at.%, (c) 10.2 at.%, and (dat.%.除了成分控制,在生長過程中原子擴(kuò)散動能對涂層結(jié)構(gòu)也有重要影響,增加,入射離子動能增加,通過沖擊動量轉(zhuǎn)化,原子遷移和擴(kuò)散增加,積過程中將會發(fā)生原子重排和形核,從而達(dá)到涂層結(jié)構(gòu)致密化的目的。偏壓對涂層 Cr-Si-N 涂層結(jié)構(gòu)的影響可由圖 1.3 表示。
【學(xué)位授予單位】:重慶大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:P75
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7 莊均s
本文編號:2595526
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