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基于近場散射的顆粒粒度測量方法研究

發(fā)布時間:2017-07-17 10:27

  本文關鍵詞:基于近場散射的顆粒粒度測量方法研究


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【摘要】:顆粒粒徑問題廣泛存在于能源、化工、冶金、制藥和農業(yè)育苗等領域,準確地控制和掌握顆粒的粒徑信息,有助于提升產品的性能和質量,降低能源的消耗、改善環(huán)境、保障人類身體健康。光散射法因具有適用性強、粒度測量范圍寬、測量重復性好、快速實時、自動化和智能化程度高、干擾因素少、不接觸樣品、可實現(xiàn)在線測量等優(yōu)點而得到充分重視。本文主要研究了基于近場散射的顆粒粒徑測量方法,旨在克服傳統(tǒng)前向小角散射中心光過強、雜散光干擾、散射角過小等缺點,提供一種新型有效地測量前向散射光的方法。介紹了近場散射基本概念,分析了近場散斑尺寸大小與顆粒粒徑的關系;基于快速傅里葉變換,從數(shù)學角度得出近場散斑圖像功率譜與遠場散射光強的關系,為近場散射法測量前向散射光提供了理論支撐;研究了Mie散射理論,分析了不同粒徑參數(shù)、折射率及入射波長下散射光強分布規(guī)律,計算了單顆粒在不同散射波矢、不同粒徑下的散射光強值,作為粒徑反演的理論光強值。闡述了粒徑反演問題的獨立模式算法,分析了傳統(tǒng)Chahine算法在反演單峰寬分布和雙峰分布時對噪聲極其敏感,容易出現(xiàn)振蕩、偽峰等不利現(xiàn)象。提出了以SIRT算法來實現(xiàn)正則化法非負約束條件,將非負正則化解作為Chahine算法的初始值,對正則化方程進行迭代的優(yōu)化算法,并對Johnson.SB分布函數(shù)的單峰寬分布和雙峰分布進行模擬驗證,模擬結果表明:優(yōu)化后的Chahine算法都比傳統(tǒng)Chahine算法的反演誤差要小,曲線相關系數(shù)要高,抗噪能力要強;诮鼒錾⑸錅y量原理,設計并搭建了顆粒粒徑測量系統(tǒng),包括激光器、空間濾波器、顯微物鏡和CCD、計算機等,給出了光學元件參數(shù)選取的原則。與傳統(tǒng)的前向小角散射系統(tǒng)相比,近場散射測量系統(tǒng)結構緊湊、裝置簡單、弱化了光路的對準問題,最大散射角增至40.5。。最后,利用已知粒徑(39.2μm和67.3μm)的標準顆粒對測量系統(tǒng)的準確性進行了單峰分布測量的驗證,測量誤差在5%之內;對于粒徑為39.2μm和67.3 μm的混合顆粒進行了雙峰分布驗證,在43.3μm和74.1μm處出現(xiàn)峰值,測量誤差在10%左右。
【關鍵詞】:粒徑測量 近場散射 快速傅里葉 Chahine算法優(yōu)化
【學位授予單位】:東南大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2016
【分類號】:TK12
【目錄】:
  • 摘要5-6
  • Abstract6-9
  • 第一章 緒論9-18
  • 1.1 課題研究背景及意義9
  • 1.2 顆粒粒徑測量技術的研究現(xiàn)狀9-13
  • 1.2.1 篩分法10-11
  • 1.2.2 光學成像法11
  • 1.2.3 沉降法11
  • 1.2.4 電感應法11-12
  • 1.2.5 光散射法12-13
  • 1.3 光散射顆粒粒徑測量技術的研究現(xiàn)狀13-17
  • 1.3.1 靜態(tài)光散射顆粒粒度測量技術13-15
  • 1.3.2 動態(tài)光散射法顆粒粒度測量技術15-16
  • 1.3.3 光散射顆粒粒度測量技術存在的主要問題16-17
  • 1.4 本文的主要研究內容及組織結構17-18
  • 第二章 基于近場散射的顆粒粒徑測量原理18-30
  • 2.1 近場散射基本理論18-21
  • 2.1.1 近場散射概念18
  • 2.1.2 功率譜與散射光強的關系18-21
  • 2.2 近場散射顆粒粒徑測量原理21-23
  • 2.3 Mie散射理論及光強計算23-28
  • 2.3.1 基本理論23-25
  • 2.3.2 Mie散射光強的數(shù)值計算25-26
  • 2.3.3 Mie散射光強分布規(guī)律26-28
  • 2.4 本章小結28-30
  • 第三章 顆粒粒徑反演算法及仿真30-41
  • 3.1 顆粒群的粒徑分布函數(shù)30-31
  • 3.2 顆粒粒徑的一般反演算法31-33
  • 3.2.1 非獨立模式算法31-32
  • 3.2.2 獨立模式算法32-33
  • 3.3 Chahine顆粒粒徑反演算法優(yōu)化33-40
  • 3.3.1 正則化思想33-34
  • 3.3.2 正則化參數(shù)選擇策略34-35
  • 3.3.3 非負約束條件35-36
  • 3.3.4 Chahine算法優(yōu)化與仿真36-40
  • 3.4 本章小結40-41
  • 第四章 近場散射顆粒粒徑測量系統(tǒng)的設計41-49
  • 4.1 光路系統(tǒng)41
  • 4.2 光源系統(tǒng)41-44
  • 4.2.1 激光器41-42
  • 4.2.2 空間濾波器與準直擴束42-44
  • 4.3 樣品區(qū)44-45
  • 4.4 圖像采集計算系統(tǒng)45-48
  • 4.4.1 顯微物鏡45-46
  • 4.4.2 CCD圖像傳感器46-48
  • 4.5 本章小結48-49
  • 第五章 近場散射顆粒粒徑測量的實驗研究49-59
  • 5.1 近場圖像的處理49-55
  • 5.1.1 雜散光影響的消除49-51
  • 5.1.2 遠場散射強度的獲取51-55
  • 5.2 實驗結果與討論55-57
  • 5.2.1 單峰分布顆粒系溶液56-57
  • 5.2.2 雙峰分布顆粒系溶液57
  • 5.3 本章小結57-59
  • 第六章 總結與展望59-61
  • 6.1 總結59
  • 6.2 展望59-61
  • 致謝61-62
  • 參考文獻62-66
  • 作者簡介66

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本文編號:553165

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