本文關(guān)鍵詞：光纖陣列的超聲橢圓振動(dòng)輔助化學(xué)機(jī)械拋光

  更多相關(guān)文章： 光纖陣列 超聲橢圓振動(dòng) 化學(xué)機(jī)械拋光 表面粗糙度

【摘要】：為了獲得平整的光纖陣列端面,設(shè)計(jì)了一套超聲橢圓振動(dòng)輔助化學(xué)拋光系統(tǒng),并進(jìn)行常規(guī)化學(xué)機(jī)械拋光和超聲橢圓振動(dòng)輔助化學(xué)機(jī)械拋光的對(duì)照試驗(yàn)。結(jié)果表明,應(yīng)用超聲橢圓振動(dòng)輔助化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)加工光纖陣列,選擇合理的拋光工藝參數(shù),可獲得質(zhì)量較好的光纖陣列端面,相比于常規(guī)化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù),光纖的表面粗糙度降低了25%。采用單因素試驗(yàn)法,分別研究了拋光粒子材料及拋光液酸堿性對(duì)于超聲橢圓振動(dòng)輔助化學(xué)機(jī)械拋光的作用效果,并利用Vecco表面輪廓儀對(duì)拋光后光纖陣列端面進(jìn)行觀察和分析。采用正交試驗(yàn)法獲得了一組超聲橢圓振動(dòng)輔助化學(xué)機(jī)械拋光光纖陣列的優(yōu)化工藝參數(shù),最佳工藝參數(shù)組為:超聲振動(dòng)頻率25 k Hz,拋光液流量35 m L/min,拋光壓力50 k Pa,拋光盤轉(zhuǎn)速20 r/min,拋光粒子質(zhì)量分?jǐn)?shù)0.5%。
【作者單位】： 中南大學(xué)機(jī)電工程學(xué)院;中南大學(xué)高性能復(fù)雜制造國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】： 光纖陣列 超聲橢圓振動(dòng) 化學(xué)機(jī)械拋光 表面粗糙度
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金(51275534) 湖南省自然科學(xué)基金(2015JJ2153)
【分類號(hào)】：TN305.2
【正文快照】：

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本文編號(hào)：959462