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摻鉑和電子輻照對(duì)快恢復(fù)二極管性能的影響

發(fā)布時(shí)間:2017-09-29 02:19

  本文關(guān)鍵詞:摻鉑和電子輻照對(duì)快恢復(fù)二極管性能的影響


  更多相關(guān)文章: 壽命控制 擴(kuò)鉑 電子輻照 快恢復(fù)二極管(FRD) 深能級(jí)瞬態(tài)譜(DLTS)


【摘要】:壽命控制技術(shù)是現(xiàn)在廣泛使用的方法,該方法旨在減少快恢復(fù)二極管(FRD)基區(qū)載流子壽命從而實(shí)現(xiàn)更小的反向恢復(fù)時(shí)間,同時(shí)不可避免地引起其他性能的變化。通過高能電子輻照和擴(kuò)鉑對(duì)1 200 V FRD進(jìn)行了壽命控制,并對(duì)鉑擴(kuò)散和電子輻照樣品在正向壓降溫度特性、靜態(tài)和反向恢復(fù)特性等方面進(jìn)行了對(duì)比分析,發(fā)現(xiàn)鉑擴(kuò)散樣品隨擴(kuò)鉑溫度的增加,其擊穿電壓變大;高能電子輻照器件呈現(xiàn)電壓正溫度系數(shù),其正向壓降和反向恢復(fù)時(shí)間(VF-trr)折中曲線更靠近原點(diǎn)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,高能電子輻照樣品具有更好的溫度系數(shù)、更好的VF-trr折中特性,然而反向電流在125℃卻高達(dá)約210μA。
【作者單位】: 北京工業(yè)大學(xué)電子信息與控制工程學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】壽命控制 擴(kuò)鉑 電子輻照 快恢復(fù)二極管(FRD) 深能級(jí)瞬態(tài)譜(DLTS)
【基金】:中國教育部博士基金資助項(xiàng)目(20111103120016) 國家電網(wǎng)公司科技項(xiàng)目(5455DW140003)
【分類號(hào)】:TN31
【正文快照】: 0引言快恢復(fù)二極管(fast recovery diode,FRD)作為開關(guān)器件被廣泛應(yīng)用于功率電子系統(tǒng)中。由于功率半導(dǎo)體器件開關(guān)速度的提高,特別是金屬-氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(metal-oxide-semiconductorfield-effect transistor,MOSFET)和高速絕緣柵雙極型晶體管(insulated gate bipolar

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3 李丹明;薛玉雄;賀德衍;王驥;田海;;電子輻照下氧化鋅涂層光學(xué)特性變化的解析[J];真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào);2011年01期

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10 蔡莉莉;馮翠菊;陳貴鋒;;熱處理氣氛對(duì)電子輻照直拉硅中氧沉淀的影響[J];硅酸鹽通報(bào);2014年07期

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3 劉昕;孔祥山;張s

本文編號(hào):939420


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