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摻鉑和電子輻照對快恢復(fù)二極管性能的影響

發(fā)布時間:2017-09-29 02:19

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【摘要】:壽命控制技術(shù)是現(xiàn)在廣泛使用的方法,該方法旨在減少快恢復(fù)二極管(FRD)基區(qū)載流子壽命從而實現(xiàn)更小的反向恢復(fù)時間,同時不可避免地引起其他性能的變化。通過高能電子輻照和擴鉑對1 200 V FRD進(jìn)行了壽命控制,并對鉑擴散和電子輻照樣品在正向壓降溫度特性、靜態(tài)和反向恢復(fù)特性等方面進(jìn)行了對比分析,發(fā)現(xiàn)鉑擴散樣品隨擴鉑溫度的增加,其擊穿電壓變大;高能電子輻照器件呈現(xiàn)電壓正溫度系數(shù),其正向壓降和反向恢復(fù)時間(VF-trr)折中曲線更靠近原點。實驗結(jié)果表明,高能電子輻照樣品具有更好的溫度系數(shù)、更好的VF-trr折中特性,然而反向電流在125℃卻高達(dá)約210μA。
【作者單位】: 北京工業(yè)大學(xué)電子信息與控制工程學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】壽命控制 擴鉑 電子輻照 快恢復(fù)二極管(FRD) 深能級瞬態(tài)譜(DLTS)
【基金】:中國教育部博士基金資助項目(20111103120016) 國家電網(wǎng)公司科技項目(5455DW140003)
【分類號】:TN31
【正文快照】: 0引言快恢復(fù)二極管(fast recovery diode,FRD)作為開關(guān)器件被廣泛應(yīng)用于功率電子系統(tǒng)中。由于功率半導(dǎo)體器件開關(guān)速度的提高,特別是金屬-氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(metal-oxide-semiconductorfield-effect transistor,MOSFET)和高速絕緣柵雙極型晶體管(insulated gate bipolar

【相似文獻(xiàn)】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前10條

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2 莫長濤,李鋼;電子輻照快速恢復(fù)二極管[J];半導(dǎo)體技術(shù);1997年05期

3 李丹明;薛玉雄;賀德衍;王驥;田海;;電子輻照下氧化鋅涂層光學(xué)特性變化的解析[J];真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報;2011年01期

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6 盛篪,陳巧珍,孫恒慧,張增光;高阻n型硅的電子輻照[J];半導(dǎo)體學(xué)報;1982年06期

7 王忠安,金泗軒,蘭李橋;電子輻照晶體管的穩(wěn)定性[J];半導(dǎo)體技術(shù);1988年06期

8 崔學(xué)妤;;電子輻照改善硅功率器件性能的研究[J];哈爾濱師范大學(xué)自然科學(xué)學(xué)報;1985年02期

9 蔡莉莉;陳貴鋒;李養(yǎng)賢;;快速熱處理對電子輻照直拉硅中氧沉淀的影響[J];硅酸鹽學(xué)報;2010年02期

10 蔡莉莉;馮翠菊;陳貴鋒;;熱處理氣氛對電子輻照直拉硅中氧沉淀的影響[J];硅酸鹽通報;2014年07期

中國重要會議論文全文數(shù)據(jù)庫 前8條

1 邵云東;王柱;蘇本法;;電子輻照在研究半導(dǎo)體材料微結(jié)構(gòu)中的應(yīng)用[A];第九屆全國正電子譜學(xué)會議論文集[C];2005年

2 蔡莉莉;李養(yǎng)賢;陳貴鋒;李興華;郝建剛;張昱;;電子輻照直拉硅中空位型缺陷的紅外光譜研究[A];第14屆全國晶體生長與材料學(xué)術(shù)會議論文集[C];2006年

3 劉昕;孔祥山;張s

本文編號:939420


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