本文關鍵詞：一種耐高溫紫外正型光刻膠及光刻工藝

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【摘要】：光刻膠作為光刻技術中的關鍵性基礎材料,其配方組成和光刻工藝對光刻膠的分辨率等性能有重要影響.以自制的酰胺-酰亞胺聚合物作為成膜樹脂,與感光劑2,1,5-磺酰氯的衍生物等其他成分按一定比例配制成光刻膠,通過研究不同配比、不同光刻工藝條件下的光刻性能,得到了該光刻膠的最佳配方組成及最佳光刻工藝條件.該光刻膠的成像反差可達到約3.35;在最佳配方組成和最佳光刻工藝條件下,采用接觸式曝光,可以獲得最大約1?m的線寬分辨率,同時該光刻膠具有良好的耐熱性,270℃高溫下堅膜30 min,光刻圖形未發(fā)現(xiàn)明顯塌邊現(xiàn)象.
【作者單位】： 華中科技大學光學與電子信息學院武漢光電國家實驗室;
【關鍵詞】： 紫外正型光刻膠 酰胺-酰亞胺樹脂 光刻工藝
【基金】：國家自然科學基金(51172081,51473058和51135005)資助
【分類號】：TN305.7
【正文快照】： 近年來,隨著微電子技術的快速發(fā)展,圖形的分辨率要求越來越高,因此對光刻膠的要求也越來越高.國外對光刻膠的研究已經(jīng)相當成熟,投入商用的紫外正型光刻膠最高分辨率可達亞微米級別,如日本JSR公司的PFR系列、美國安智公司的AZ系列等.國內(nèi)從事光刻膠研制工作并已經(jīng)商業(yè)化生產(chǎn)的

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