發(fā)布時(shí)間：2017-09-21 12:36

  本文關(guān)鍵詞：離子色譜法測(cè)定蝕刻槽廢氫氟酸中的六氟硅酸

  更多相關(guān)文章： 離子色譜 紫外檢測(cè)器 電導(dǎo)檢測(cè)器 六氟硅酸

【摘要】：建立了一種新的檢測(cè)蝕刻槽廢氫氟酸中六氟硅酸的離子色譜方法。色譜柱為Metrosep A Supp 7陰離子交換柱,流動(dòng)相為3.2 mmol/L碳酸鈉-1.0 mmol/L碳酸氫鈉,流速為0.7 m L/min。六氟硅酸經(jīng)過抑制型電導(dǎo)檢測(cè)器后進(jìn)行衍生化反應(yīng),在360 nm波長(zhǎng)下用紫外檢測(cè)器檢測(cè)。六氟硅酸的線性范圍為2.4~120 mg/L,相關(guān)系數(shù)r2大于0.999,定量限為0.24 mg/L,平均加標(biāo)回收率為97.2%。本方法還可以同時(shí)利用電導(dǎo)檢測(cè)器檢測(cè)廢氫氟酸中的氫氟酸、醋酸、鹽酸、硝酸、磷酸和硫酸的含量。該方法快速、準(zhǔn)確,適用于蝕刻槽液中六氟硅酸的檢測(cè)。
【作者單位】： 瑞士萬通中國(guó)有限公司;
【關(guān)鍵詞】： 離子色譜 紫外檢測(cè)器 電導(dǎo)檢測(cè)器 六氟硅酸
【分類號(hào)】：TN305;O657.75
【正文快照】： 在半導(dǎo)體制作過程中,單晶硅與多晶硅的蝕刻通常利用硝酸與氫氟酸的混合液來進(jìn)行,氫氟酸將形成的二氧化硅溶解去除,生成六氟硅酸[1]。因此監(jiān)控槽液中六氟硅酸、氫氟酸等酸的含量對(duì)生產(chǎn)過程的控制有重要意義。六氟硅酸可用酸堿滴定法測(cè)定[2],但該方法在復(fù)雜的混酸體系中有一定的

【相似文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前3條

1 俞錦成;;氟硅酸鋇容量法測(cè)定硅鐵中硅[J];鐵合金;1985年03期

2 王德泳;王獻(xiàn)科;;氟硅酸鋇容量法測(cè)定二氧化硅[J];新疆有色金屬;1990年01期

3 ;[J];;年期

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本文編號(hào)：894563