本文關(guān)鍵詞：RZJ-304光刻膠壓電霧化噴涂工藝及其應(yīng)用

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【摘要】：在自主搭建的壓電霧化噴涂系統(tǒng)上,以RZJ-304正性光刻膠為研究對象,圓形拋光硅片為基材,研究了稀釋體積比、預(yù)熱溫度以及噴涂層數(shù)對光刻膠薄膜平均厚度及均勻性的影響,并得到最佳工藝參數(shù)。以具有方形結(jié)構(gòu)的拋光硅片為基材,分別進行壓電霧化噴涂法和離心旋轉(zhuǎn)法涂膠,并進行圖案光刻,結(jié)果表明壓電霧化噴涂法可以在非圓形形貌上得到清晰完整的圖案,克服了傳統(tǒng)離心旋轉(zhuǎn)法無法在非圓形面上涂膠的缺陷,驗證了壓電霧化噴涂法在非圓形形貌應(yīng)用中的可行性。
【作者單位】： 蘇州大學江蘇省機器人與微系統(tǒng)研究中心;蘇州大學蘇州納米科技協(xié)同創(chuàng)新中心;
【關(guān)鍵詞】： 正性光刻膠 壓電霧化噴涂 平均厚度 均勻性 拋光硅片 方形結(jié)構(gòu)
【基金】：國家自然科學基金儀器重大專項(61327811) 蘇州市科學發(fā)展計劃納米技術(shù)專項(ZXG201433) 歐盟第七框架國際合作基金(PIRSES-GA-2013-612641)
【分類號】：TN305.7
【正文快照】： 近年來,隨著微機電系統(tǒng)(Micro electro-mechanical systems,MEMS)和先進封裝技術(shù)的迅速發(fā)展,光刻得到了廣泛的應(yīng)用,對光刻膠的涂覆要求變得愈來愈嚴格,而目前適用于圓形平面涂膠的傳統(tǒng)離心旋轉(zhuǎn)法已無法滿足非圓形面上的涂膠[1-2]。如在具有方形形貌結(jié)構(gòu)上旋涂時,離心狀態(tài)下的

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本文編號：869381