本文關(guān)鍵詞：銅電致化學(xué)拋光拋光液的成分及其作用

  更多相關(guān)文章： 電致化學(xué)拋光 電化學(xué)反應(yīng) 拋光液 粗糙度

【摘要】：電致化學(xué)拋光是通過電化學(xué)反應(yīng)生成刻蝕劑并利用擴(kuò)散控制反應(yīng)實(shí)現(xiàn)工件表面無應(yīng)力拋光的新方法,拋光液的特性則是實(shí)現(xiàn)擴(kuò)散控制反應(yīng)和可控去除的關(guān)鍵因素。分析電致化學(xué)拋光的基本原理,并根據(jù)理論模型提出了拋光液所應(yīng)具備的基本條件。針對(duì)銅的電致化學(xué)拋光,提出以FeSO_4為電活性中介體,H_2SO_4為p H調(diào)節(jié)劑,BTA為側(cè)向電子傳導(dǎo)抑制劑的拋光液。通過使用XRD以及XPS等表征手段對(duì)加工后的表面進(jìn)行分析,研究了銅拋光液中的p H調(diào)節(jié)劑H_2SO_4以及側(cè)向電子傳導(dǎo)抑制劑BTA的作用機(jī)理。研究結(jié)果表明,pH調(diào)節(jié)劑H_2SO_4的主要功能為去除Cu表面的氧化層,從而促進(jìn)刻蝕反應(yīng)的進(jìn)行,而BTA則通過吸附于銅工件表面,從而有效地抑制了加工過程中的側(cè)向電子傳導(dǎo)。
【作者單位】： 大連理工大學(xué)精密與特種加工教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】： 電致化學(xué)拋光 電化學(xué)反應(yīng) 拋光液 粗糙度
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金(91523102,51475076) 遼寧省教育廳重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室基礎(chǔ)研究(LZ2015026)資助項(xiàng)目
【分類號(hào)】：TN305.2
【正文快照】： 0前言*銅具有良好的熱學(xué)以及電學(xué)性能,在微機(jī)電系統(tǒng)和極大規(guī)模集成電路制造中得到廣泛應(yīng)用[1-3]。在這些領(lǐng)域中銅經(jīng)常需要進(jìn)行拋光加工,從而獲得超光滑無缺陷無應(yīng)力表面�；瘜W(xué)機(jī)械拋光(Chemicalmechanical polishing,CMP)技術(shù)利用化學(xué)和機(jī)械的協(xié)同作用實(shí)現(xiàn)對(duì)工件表面的拋光,由

【相似文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 陳葆梅;;紅外晶體窗口的化學(xué)拋光[J];激光與紅外;1982年02期

2 陳新;;藍(lán)寶石和尖晶石的化學(xué)拋光[J];微電子學(xué);1972年Z1期

3 湯英童;袁順山;熊長(zhǎng)新;;微晶玻璃試片的化學(xué)拋光研究[J];光學(xué)與光電技術(shù);2014年03期

4 楊春林;侯晶;周禮書;;連續(xù)位相板數(shù)控化學(xué)拋光制造技術(shù)研究[J];光電工程;2010年08期

5 張洪治;InP(100)的化學(xué)減薄與化學(xué)拋光[J];固體電子學(xué)研究與進(jìn)展;1983年01期

6 項(xiàng)震;聶傳繼;侯晶;;基于Marangoni效應(yīng)的光學(xué)元件化學(xué)拋光工藝研究[J];光電子.激光;2007年10期

7 程鵬;王燕華;趙超;孔忠弟;;InSb晶片化學(xué)拋光研究[J];紅外;2009年07期

8 雷勝瓊;張星燦;;化學(xué)拋光InSb晶片的掃描電鏡觀測(cè)[J];半導(dǎo)體光電;1992年03期

9 侯晶,許喬,雷向陽,周禮書,張清華,王健;基于Marangoni界面效應(yīng)的數(shù)控化學(xué)拋光去除函數(shù)的研究[J];強(qiáng)激光與粒子束;2005年04期

10 劉安福;;工業(yè)純鋁L4M的化學(xué)拋光[J];通信技術(shù);1984年Z1期

中國(guó)重要會(huì)議論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 楊慶富;;化學(xué)拋光在鈦合金高倍組織檢測(cè)中的應(yīng)用[A];探索創(chuàng)新交流－－中國(guó)航空學(xué)會(huì)青年科技論壇文集[C];2004年

2 何家康;;過氧化氫在化學(xué)拋光中的應(yīng)用[A];貴陽電鍍協(xié)會(huì)成立二十周年年會(huì)論文集[C];2004年

3 鄭秋云;李明軍;舒適;;一類機(jī)械化學(xué)拋光的磁流體模型及其數(shù)值模擬[A];第五屆全國(guó)青年計(jì)算物理學(xué)術(shù)交流會(huì)論文摘要[C];2008年

4 馬洪芳;紀(jì)立杰;董翠謙;;鋁合金的化學(xué)拋光[A];2001年全國(guó)電子電鍍年會(huì)論文集[C];2001年

5 蔣建忠;趙永武;;機(jī)械化學(xué)拋光過程單分子層材料吸附去除初理分析及建模[A];2006全國(guó)摩擦學(xué)學(xué)術(shù)會(huì)議論文集（一）[C];2006年

6 侯晶;許喬;雷向陽;周禮書;張清華;王健;;高精度數(shù)控化學(xué)拋光技術(shù)[A];中國(guó)工程物理研究院科技年報(bào)（2003）[C];2003年

7 侯晶;許喬;張清華;雷向陽;周禮書;陳寧;;高精度數(shù)控化學(xué)拋光技術(shù)[A];中國(guó)工程物理研究院科技年報(bào)（2005）[C];2005年

8 王興華;易君明;;電磁純鐵化學(xué)拋光工藝研究[A];貴陽電鍍協(xié)會(huì)成立二十周年年會(huì)論文集[C];2004年

9 王興華;易君明;;電磁純鐵化學(xué)拋光工藝研究[A];2004年全國(guó)電子電鍍學(xué)術(shù)研討會(huì)論文集[C];2004年

10 屈戰(zhàn)民;;新型不銹鋼化學(xué)拋光劑工藝研究[A];天津市電鍍工程學(xué)會(huì)第九屆學(xué)術(shù)年會(huì)論文集[C];2002年

中國(guó)重要報(bào)紙全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前2條

1 見習(xí)記者 薛花 實(shí)習(xí)生 梁惠明;研發(fā)新工藝實(shí)現(xiàn)無污染排放[N];西江日?qǐng)?bào);2014年

2 李鵬;詳解拋光工藝[N];中國(guó)黃金報(bào);2010年

中國(guó)博士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前1條

1 馬寶麗;化學(xué)輔助軟磨粒流拋光技術(shù)研究[D];浙江工業(yè)大學(xué);2013年

中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 張艷紅;鋁制品化學(xué)拋光新工藝的研究[D];山西大學(xué);2009年

2 龐洪濤;鋁及鋁合金環(huán)保型化學(xué)拋光研究[D];機(jī)械科學(xué)研究院;2002年

3 劉東光;H_2SO_4-H_3PO_4為基液的模具鋼化學(xué)拋光工藝研究[D];武漢理工大學(xué);2008年

4 馬海生;鎳毛細(xì)管內(nèi)表面的化學(xué)拋光研究[D];燕山大學(xué);2015年

5 蔡吉慶;靜壓液浮大面積電致化學(xué)拋光試驗(yàn)臺(tái)研制[D];大連理工大學(xué);2015年

6 梁桂蘭;黃銅線和紫銅線的化學(xué)拋光新工藝[D];華南理工大學(xué);2012年

7 聶傳繼;基于Marangoni效應(yīng)的數(shù)控化學(xué)拋光工藝研究[D];浙江大學(xué);2007年

8 宋曉敏;AM60鎂合金化學(xué)拋光及化學(xué)轉(zhuǎn)化膜的研究[D];湖南大學(xué);2009年

9 郭艷軍;磁力驅(qū)動(dòng)下的化學(xué)機(jī)械光整加工技術(shù)研究[D];大連理工大學(xué);2012年

10 曾東;口腔鑄鈦修復(fù)體化學(xué)拋光的實(shí)驗(yàn)研究[D];天津醫(yī)科大學(xué);2002年

，

本文編號(hào)：802988