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表面處理對(duì)Au-CdZnTe電極接觸性能的影響

發(fā)布時(shí)間:2017-08-17 17:29

  本文關(guān)鍵詞:表面處理對(duì)Au-CdZnTe電極接觸性能的影響


  更多相關(guān)文章: 碲鋅鎘 表面處理 機(jī)械化學(xué)拋光 歐姆接觸


【摘要】:碲鋅鎘(CdZnTe)是制備X射線、γ射線探測(cè)器的一種理想半導(dǎo)體材料。CdZnTe歐姆接觸電極是制備CdZnTe核輻射探測(cè)器的關(guān)鍵技術(shù)之一。表面加工狀態(tài)是影響歐姆接觸性能的重要因素,文中研究了4種表面處理工藝對(duì)Au-CdZnTe電極接觸性能的影響。研究發(fā)現(xiàn)對(duì)晶片表面進(jìn)行溴甲醇腐蝕處理和機(jī)械化學(xué)拋光均有助于提升Au-CdZnTe電極歐姆接觸性能。對(duì)晶片進(jìn)行機(jī)械化學(xué)拋光后再進(jìn)行溴甲醇腐蝕處理,使用這種晶片所制備的電極具有更加優(yōu)良的綜合電學(xué)性能。
【作者單位】: 上海大學(xué)材料學(xué)院;中國(guó)科學(xué)院紅外成像材料與器件重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】碲鋅鎘 表面處理 機(jī)械化學(xué)拋光 歐姆接觸
【基金】:紅外成像材料與器件重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室開(kāi)放基金資助項(xiàng)目(IIMDKFJJ-12-01)
【分類號(hào)】:TN304.2
【正文快照】:

【相似文獻(xiàn)】

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4 李萬(wàn)萬(wàn),桑文斌,閔嘉華,郁芳,張斌,王昆黍,曹澤淳;垂直布里奇曼法生長(zhǎng)CdZnTe晶體時(shí)坩堝下降速度的優(yōu)化研究[J];無(wú)機(jī)材料學(xué)報(bào);2004年04期

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9 丁洪林;申越;吳喜泉;;CdZnTe探測(cè)器在科學(xué)研究和核技術(shù)應(yīng)用中的作用和地位[A];全國(guó)第五屆核儀器及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];2005年

10 王光祺;李紅日;程翠然;曹雪朋;張偉;羅杰;鄧智;;基于ASIC的CdZnTe像素探測(cè)器的研制[A];第十六屆全國(guó)核電子學(xué)與核探測(cè)技術(shù)學(xué)術(shù)年會(huì)論文集(上冊(cè))[C];2012年

中國(guó)博士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前6條

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2 黎淼;面元像素CdZnTe高能輻射探測(cè)器原理、系統(tǒng)及特性研究[D];重慶大學(xué);2012年

3 汪曉芹;CdZnTe晶片表面化學(xué)處理及歐姆接觸特性的研究[D];西北工業(yè)大學(xué);2006年

4 盛鋒鋒;CdZnTe材料缺陷特性及熱處理技術(shù)研究[D];中國(guó)科學(xué)院研究生院(上海技術(shù)物理研究所);2014年

5 徐凌燕;CdZnTe晶體中的深能級(jí)缺陷及其對(duì)光電性能的影響[D];西北工業(yè)大學(xué);2014年

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中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 潘松海;鋁誘導(dǎo)CdZnTe多晶薄膜的制備及物理特性研究[D];北京化工大學(xué);2013年

2 張興剛;CdZnTe半導(dǎo)體探測(cè)器電極研究[D];西北工業(yè)大學(xué);2006年

3 伍順發(fā);CdZnTe晶體分離結(jié)晶界面形狀計(jì)算及穩(wěn)定性分析[D];重慶大學(xué);2008年

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5 陳繼權(quán);CdZnTe晶體歐姆接觸薄膜電極的制備工藝與性能研究[D];西北工業(yè)大學(xué);2004年

6 陳俊;CdZnTe晶體的表面處理和鈍化研究[D];四川大學(xué);2006年

7 孫金池;Cu/Ag合金薄膜用作CdZnTe探測(cè)器電極的研究[D];西北工業(yè)大學(xué);2005年

8 李鋒;CdZnTe探測(cè)器在X射線熒光分析中的應(yīng)用研究[D];國(guó)防科學(xué)技術(shù)大學(xué);2005年

9 文錦雄;常重力條件下分離結(jié)晶法制備CdZnTe晶體的全局?jǐn)?shù)值分析[D];重慶大學(xué);2012年

10 黃平;利用88-100keV能區(qū)CdZnTe能譜測(cè)定鈾富集度[D];中國(guó)原子能科學(xué)研究院;2003年



本文編號(hào):690249

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