室溫條件下射頻磁控濺射法制備AZO薄膜的結(jié)構(gòu)與光電性能(英文)
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【摘要】:采用高致密度靶材在室溫條件下玻璃襯底上RF磁控濺射制備鋁摻雜氧化鋅(AZO)薄膜。用X射線衍射儀、冷場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡、紫外可見光分光光度計(jì)、四探針測(cè)試儀和霍爾測(cè)試儀分析表征薄膜的顯微組織、表面形貌和光電學(xué)性能。結(jié)果表明,所制備的薄膜均為多晶六方纖鋅礦結(jié)構(gòu),濺射功率對(duì)AZO薄膜的光電學(xué)性能,尤其是電學(xué)性能有重要影響。不同濺射功率下薄膜可見光平均透過率均大于85%,當(dāng)濺射功率為200 W時(shí),獲得最小電阻率4.5×10~(-4)?·cm和87.1%的透過率。AZO薄膜禁帶寬度隨濺射功率不同在3.48~3.68 e V范圍內(nèi)變化。
【作者單位】: 三峽大學(xué)材料與化工學(xué)院;桂林理工大學(xué)廣西新能源與建筑節(jié)能重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】: AZO薄膜 顯微組織 光電學(xué)性能 RF磁控濺射
【基金】:supported by open research fund from Guangxi Key Laboratory of New Energy and Building Energy Saving, China
【分類號(hào)】:TN304.055
【正文快照】: 1 Introduction The transparent conducting oxide(TCO)thin films are widely used in a variety of promising applications,such as flat-panel displays,organic light-emitting devices and solar cells,due to their excellent photoelectric properties.The typical
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,本文編號(hào):605444
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