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磁控濺射ZnO薄膜及其微觀結(jié)構(gòu)與光電特性

發(fā)布時(shí)間:2017-07-28 16:33

  本文關(guān)鍵詞:磁控濺射ZnO薄膜及其微觀結(jié)構(gòu)與光電特性


  更多相關(guān)文章: ZnO薄膜 濺射氣壓 微觀結(jié)構(gòu) 透過(guò)率 方阻


【摘要】:為了研究氧氣與氬氣的比例和濺射氣壓對(duì)Zn O薄膜的微觀結(jié)構(gòu)及光電特性的影響,在氧化銦錫(ITO)玻璃上采用射頻感應(yīng)耦合離子源增強(qiáng)磁控濺射方法鍍上具有一定c軸擇優(yōu)取向的Zn O薄膜,用X射線衍射儀(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、四探針測(cè)試儀、紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)表征薄膜微觀結(jié)構(gòu)與光電特性。結(jié)果表明隨著氧分壓的增加,薄膜表面的平整度先增加后減小,沿(002)方向生長(zhǎng)的Zn O薄膜結(jié)晶度、晶粒尺寸先增加后減小,方阻先減小后增大,晶粒尺寸、方阻等值在O2和Ar的體積流量比為15∶60時(shí)達(dá)到極值。實(shí)驗(yàn)中改變?yōu)R射時(shí)的氣壓值,發(fā)現(xiàn)較大的濺射氣壓有利于磁控濺射的進(jìn)行,有利于獲得純凈的Zn O薄膜,在可見(jiàn)光范圍內(nèi)有的樣品平均透過(guò)率超過(guò)90%。
【作者單位】: 華南師范大學(xué)物理與電信工程學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】ZnO薄膜 濺射氣壓 微觀結(jié)構(gòu) 透過(guò)率 方阻
【基金】:國(guó)家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(61072028) 廣東省自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(S2013010012548)
【分類號(hào)】:TN304.21
【正文快照】: 0引言透明導(dǎo)電薄膜在太陽(yáng)電池、低波長(zhǎng)激光器、光纖通信等許多領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用[1]。Zn O在自然界中儲(chǔ)量豐富,具有較好的化學(xué)、機(jī)械穩(wěn)定性,以及優(yōu)異的光電特性,因此Zn O薄膜成為了透明導(dǎo)電薄膜的研究熱點(diǎn)。低電阻率的Zn O薄膜甚至可以取代傳統(tǒng)的透明導(dǎo)電ITO薄膜而成為太陽(yáng)電

【相似文獻(xiàn)】

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本文編號(hào):585009

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