本文關(guān)鍵詞：光學(xué)石英玻璃CMP拋光液的研究

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【摘要】：針對(duì)光學(xué)石英玻璃在表面化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)過(guò)程中易出現(xiàn)表面及亞表面損傷和蝕坑等缺陷問(wèn)題,提出了采用低拋光壓力和低磨料體積分?jǐn)?shù)的CMP方法。機(jī)械作用是引起表面及亞表面損傷的關(guān)鍵因素,低拋光壓力可以有效降低拋光過(guò)程中施于晶體表面的機(jī)械作用,拋光液中低磨料體積分?jǐn)?shù)既可降低一定的機(jī)械作用又可降低由于高磨料體積分?jǐn)?shù)引起的表面沾污。在降低機(jī)械作用的基礎(chǔ)上,為獲得較高的去除速率和較佳的表面質(zhì)量,選用大分子胺堿作為pH調(diào)節(jié)劑,以增加質(zhì)量傳遞作用。通過(guò)大量實(shí)驗(yàn)證實(shí),粒徑60 nm的硅溶膠磨料體積分?jǐn)?shù)為8%、活性劑體積分?jǐn)?shù)為5%、螯合劑體積分?jǐn)?shù)為1%、pH值為9和拋光壓力為1 psi(1 psi=6 895 Pa)的條件下,可獲得較高的去除速率和較佳的表面質(zhì)量,此時(shí)的去除速率為52.8 nm/min、表面粗糙度為0.126 nm。此結(jié)果可對(duì)業(yè)內(nèi)此類材料的超精密加工提供一定的參考。
【作者單位】： 河北工業(yè)大學(xué)電子信息工程學(xué)院;天津市電子材料與器件重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】： 石英玻璃 化學(xué)機(jī)械拋光(CMP) 表面缺陷 去除速率 表面粗糙度
【基金】：國(guó)家02重大專項(xiàng)(2016ZX02301003-004-007) 河北省自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(E2013202247,F2015202267) 天津市自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(16JCYBJC16100)
【分類號(hào)】：TN305.2
【正文快照】： 2.天津市電子材料與器件重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,天津300130)0引言光學(xué)石英玻璃在紫外、可見(jiàn)和近紅外光譜區(qū)域(波長(zhǎng)185~3 500 nm)有優(yōu)異的透過(guò)性能,并具有耐高溫、熱膨脹系數(shù)極小、化學(xué)性能穩(wěn)定、耐輻射等獨(dú)特優(yōu)點(diǎn),是光學(xué)精密器件常用的光學(xué)及襯底材料,被廣泛用于空間、航空航天、探測(cè)系統(tǒng)

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本文編號(hào)：515099