石墨烯光調(diào)制器的研究
本文關(guān)鍵詞:石墨烯光調(diào)制器的研究,,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。
【摘要】:近年來(lái),石墨烯在光電器件中的應(yīng)用受到了廣泛的關(guān)注,它表現(xiàn)出諸多優(yōu)異的光電特性,使其在下一代微納光電子領(lǐng)域有著巨大的潛力。自2011年起,一系列基于石墨烯的光調(diào)制器先后被成功研制出來(lái),這已顯示出其優(yōu)異的性能和良好的應(yīng)用前景。然而,這類器件面臨著石墨烯-光的相互作用較弱,調(diào)制速率較慢,工藝步驟較為復(fù)雜,成品率較低等問題。為解決這幾個(gè)問題,本文采用微環(huán)諧振腔作為基底,以石墨烯作為有源材料,來(lái)制備高性能的石墨烯光調(diào)制器。具體的研究?jī)?nèi)容如下:1.基于微環(huán)結(jié)構(gòu)的石墨烯電光調(diào)制器的研究為加強(qiáng)石墨烯與光場(chǎng)的相互作用強(qiáng)度,提升器件的調(diào)制深度,從而減小器件的尺寸,本研究采用微環(huán)諧振腔與石墨烯的復(fù)合結(jié)構(gòu)。此結(jié)構(gòu)因?yàn)槠洫?dú)特的諧振特性,往往有著超高的消光比以及極小的器件尺寸。我們成功制備了基于微環(huán)結(jié)構(gòu)的石墨烯電光調(diào)制器,它的調(diào)制深度和調(diào)制速率分別可達(dá)2 dB以及125 MHz,器件面積僅為13μm2,為日后光電子集成回路的應(yīng)用提供了一種可行的思路。2.基于微環(huán)結(jié)構(gòu)的石墨烯熱光調(diào)制器的研究石墨烯不但擁有優(yōu)異的光電性質(zhì),其在熱力學(xué)方面的性能也很卓越,尤其是它的熱導(dǎo)率。本研究將這一特性與硅材料顯著的熱光效應(yīng)相結(jié)合,以制備高性能的熱光調(diào)制器。最終,它的調(diào)制深度和10%-90%上升時(shí)間(90%-10%下降時(shí)間)分別可達(dá)7 dB以及750 ns(800 ns),器件面積僅為10μm2。與傳統(tǒng)的熱光調(diào)制器相比,它除了在性能上有所提升,還大大減少了器件的工藝復(fù)雜性。該器件可以很好的被應(yīng)用于波長(zhǎng)濾波器以及陣列開關(guān)等領(lǐng)域。
【關(guān)鍵詞】:石墨烯 光調(diào)制器 調(diào)制深度 調(diào)制速率 器件尺寸
【學(xué)位授予單位】:蘇州大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號(hào)】:TN761;O613.71
【目錄】:
- 摘要4-5
- Abstract5-9
- 第一章 緒論9-26
- 1.1 光調(diào)制器的發(fā)展概述9-10
- 1.2 石墨烯電光調(diào)制器的工作機(jī)理分析10-15
- 1.2.1 石墨烯的能帶結(jié)構(gòu)與電學(xué)調(diào)諧特性10-13
- 1.2.2 微環(huán)諧振腔的諧振特性13-15
- 1.3 石墨烯電光調(diào)制器的研究進(jìn)展15-24
- 1.3.1 基于直波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的石墨烯電光調(diào)制器15-18
- 1.3.2 基于微環(huán)及馬赫-曾德結(jié)構(gòu)的石墨烯電光調(diào)制器18-21
- 1.3.3 基于平面結(jié)構(gòu)的石墨烯電光調(diào)制器21-24
- 1.4 選題依據(jù)和研究?jī)?nèi)容24-26
- 第二章 石墨烯的制備和性能研究26-40
- 2.1 引言26-27
- 2.2 實(shí)驗(yàn)裝置介紹27-30
- 2.2.1 化學(xué)氣相沉積管式爐系統(tǒng)27-28
- 2.2.2 光學(xué)顯微鏡28-29
- 2.2.3 共聚焦拉曼光譜儀29
- 2.2.4 掃描電子顯微鏡29-30
- 2.3 實(shí)驗(yàn)部分30-33
- 2.3.1 銅箔上制備石墨烯方案30-32
- 2.3.2 非金屬基底上 PECVD 法制備石墨烯方案32-33
- 2.4 結(jié)果與討論33-38
- 2.4.1 銅箔上制備石墨烯33-36
- 2.4.2 非金屬基底上 PECVD 法制備石墨烯36-38
- 2.5 本章小結(jié)38-40
- 第三章 石墨烯電光調(diào)制器的制備與性能研究40-59
- 3.1 引言40
- 3.2 實(shí)驗(yàn)裝置介紹40-45
- 3.2.1 電子束曝光系統(tǒng)40-41
- 3.2.2 電感耦合等離子體刻蝕41-42
- 3.2.3 光刻機(jī)系統(tǒng)42
- 3.2.4 熱蒸發(fā)系統(tǒng)42-43
- 3.2.5 原子層沉積系統(tǒng)43-44
- 3.2.6 光調(diào)制器的測(cè)試系統(tǒng)44-45
- 3.3 實(shí)驗(yàn)部分45-54
- 3.3.1 光柵與器件的仿真45-47
- 3.3.2 微環(huán)諧振腔的制備及測(cè)試47-51
- 3.3.3 石墨烯電光調(diào)制器的制備及測(cè)試51-54
- 3.4 結(jié)果與討論54-57
- 3.4.1 器件結(jié)構(gòu)的表征54-55
- 3.4.2 器件的靜態(tài)調(diào)制特性55
- 3.4.3 器件的動(dòng)態(tài)調(diào)制特性55-57
- 3.5 本章小結(jié)57-59
- 第四章 石墨烯熱光調(diào)制器的制備與性能研究59-69
- 4.1 引言59
- 4.2 實(shí)驗(yàn)部分59-61
- 4.3 結(jié)果與討論61-68
- 4.3.1 器件結(jié)構(gòu)的表征61-62
- 4.3.2 器件的靜態(tài)調(diào)制特性62-64
- 4.3.3 器件的動(dòng)態(tài)調(diào)制特性64-65
- 4.3.4 器件的仿真65-68
- 4.4 本章小結(jié)68-69
- 第五章 總結(jié)與展望69-71
- 參考文獻(xiàn)71-80
- 攻讀學(xué)位期間本人出版或公開發(fā)表的論著、論文80-81
- 致謝81-82
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