本文關(guān)鍵詞：自適應(yīng)紅外隱身系統(tǒng)的背景投影建模，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：實(shí)現(xiàn)目標(biāo)自適應(yīng)紅外隱身的第一步是獲取遮擋背景圖像,這部分圖像是觀察者處于某一視點(diǎn)觀察目標(biāo)時(shí),被目標(biāo)所遮擋住的背景。而當(dāng)觀察者在不同的視點(diǎn)觀察目標(biāo)時(shí),被目標(biāo)所遮擋住的背景是不同的,目標(biāo)與遮擋背景滿足透視投影的關(guān)系。為求得目標(biāo)與遮擋背景的關(guān)系,首先建立了三套坐標(biāo)系,即目標(biāo)本體坐標(biāo)系、視點(diǎn)坐標(biāo)系以及熱像儀坐標(biāo)系,然后通過推導(dǎo)三套坐標(biāo)系之間的轉(zhuǎn)換關(guān)系,建立了目標(biāo)表面各點(diǎn)與熱像儀獲取背景圖像點(diǎn)之間的對應(yīng)模型,從而實(shí)現(xiàn)了遮擋背景的獲取。最后通過實(shí)驗(yàn)對該模型進(jìn)行了驗(yàn)證,結(jié)果表明:該模型能夠正確獲取不同視點(diǎn)下的遮擋背景,為工程應(yīng)用奠定了基礎(chǔ)。
【作者單位】： 軍械工程學(xué)院電子與光學(xué)工程系;
【關(guān)鍵詞】： 紅外隱身 自適應(yīng) 坐標(biāo)變換 背景投影
【分類號】：TN219;TP391.41
【正文快照】： 0引言傳統(tǒng)的紅外隱身技術(shù)一般是通過降低目標(biāo)的紅外輻射強(qiáng)度的方式來實(shí)現(xiàn)目標(biāo)的紅外隱身,降低目標(biāo)紅外輻射強(qiáng)度可通過控制目標(biāo)發(fā)射率和控制目標(biāo)溫度兩種方法實(shí)現(xiàn)[1],如采用具有低發(fā)射率的隱身涂料對目標(biāo)發(fā)射率進(jìn)行控制以及采用隔熱、吸熱材料對目標(biāo)溫度進(jìn)行控制等,但是隨著紅

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