本文關鍵詞：高精度深紫外光學透射率測量裝置的研制，，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：為了精確控制曝光劑量,需要精確測量光刻系統(tǒng)的光學透射率。采用了雙光路對比的方法進行透射率測量,有效地消除了準分子激光器能量波動帶來的透射率測量誤差。并通過加入起偏器,消除了準分子激光器偏振態(tài)不穩(wěn)定帶來的誤差。搭建了深紫外光學透射率測量裝置,對1片可計算透射率的光學樣品進行透射率測量,其測量結(jié)果與透射率理論計算結(jié)果基本一致。測量結(jié)果顯示,該裝置的測量重復性可達到0.3%。通過分光光度計對該光學樣品進行測量,通過結(jié)果對比,該裝置的測量結(jié)果與分光光度計的測量結(jié)果相差0.28%。另外,該裝置應用靈活,可以測量光學系統(tǒng)的透射率,具有不受待測光學樣品尺寸影響的優(yōu)點。
【作者單位】： 中國科學院上海光學精密機械研究所;中國科學院大學;
【關鍵詞】： 物理光學 深紫外 透射率測量 雙路對比 重復性 高精度
【分類號】：TN305.7
【正文快照】： 1引言深紫外(UV)光學多應用于激光剝蝕系統(tǒng),醫(yī)療手術等領域,在光刻領域應用尤其廣泛。回顧光刻機的發(fā)展,為了縮短曝光波長以提高光刻分辨率,曝光光源已從436 nm和365 nm紫外與近紫外汞燈發(fā)展到目前的248 nm和193 nm深紫外準分子激光器,再發(fā)展到13.5 nm的極紫外光源[1-4]。在目

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