本文關(guān)鍵詞：基于NBL電子束曝光系統(tǒng)合軸研究，，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：詳述了電子束曝光系統(tǒng)的原理、種類、系統(tǒng)的構(gòu)成和合軸的原理,以及如何使NBL(微納投影)電子束曝光系統(tǒng)更好、更快地進(jìn)行合軸,從而使NBL電子束曝光機(jī)處于最佳工作狀態(tài)。
【作者單位】： 中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第五十五研究所;
【關(guān)鍵詞】： 電子束 曝光系統(tǒng) 微納投影(NBL) 合軸
【分類號(hào)】：TN305.7
【正文快照】： 在過去的幾年中,半導(dǎo)體技術(shù)取得了飛速的發(fā)展,已正式進(jìn)入納米階段,因?yàn)閳D形曝光技術(shù)、材料刻蝕技術(shù)、薄膜生成技術(shù)、離子注入技術(shù)和粘結(jié)互連技術(shù)等領(lǐng)域相關(guān)的半導(dǎo)體加工技術(shù)取得了飛速發(fā)展。在這些加工技術(shù)中,圖形曝光技術(shù)是半導(dǎo)體制造技術(shù)發(fā)展的主要推動(dòng)者,由于曝光圖形的線

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本文編號(hào)：447391