本文關(guān)鍵詞：高效率ArF準(zhǔn)分子激光復(fù)合腔技術(shù)研究，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：短波長(zhǎng)、高光子能量的Ar F準(zhǔn)分子激光在集成電路光刻、材料加工、激光醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用。結(jié)合線寬壓窄技術(shù)方案設(shè)計(jì)了193 nm Ar F準(zhǔn)分子激光器復(fù)合腔結(jié)構(gòu),理論分析了復(fù)合腔結(jié)構(gòu)能量提升的原理。針對(duì)準(zhǔn)分子激光器的長(zhǎng)腔特性,提出了實(shí)現(xiàn)其復(fù)合腔窄帶激光模式鎖定的解決方案,并進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證。與通常插入色散元件的單窄帶腔相比,鎖定后的準(zhǔn)分子激光復(fù)合腔在輸出線寬基本不變的情況下能量提高了4.02倍,激光效率大幅提升,能量穩(wěn)定性也大幅優(yōu)化。
【作者單位】： 中國(guó)科學(xué)院光電研究院;北京市準(zhǔn)分子激光工程技術(shù)研究中心;
【關(guān)鍵詞】： 激光器 準(zhǔn)分子激光器 復(fù)合腔 高效率 窄線寬
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金(61405202) 北京市科技專項(xiàng)(Z141104004414069)
【分類號(hào)】：TN248
【正文快照】： 1引言由于準(zhǔn)分子激光波長(zhǎng)短、光子能量高,且常規(guī)材料對(duì)位于紫外波段的激光輻射具有較高的吸收率,因此準(zhǔn)分子激光在集成電路光刻、精密微細(xì)加工及醫(yī)療等領(lǐng)域被廣泛應(yīng)用[1]。自1970年Basov等[2-4]利用強(qiáng)流電子束激發(fā)液態(tài)氙得到Xe準(zhǔn)分子激光輸出以來(lái),深紫外波段準(zhǔn)分子激光技術(shù)得

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本文編號(hào)：443284