基于LIGBT結(jié)構(gòu)的ESD防護(hù)研究
【文章頁(yè)數(shù)】:72 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
圖1.1的餅狀圖中可以清晰地看見(jiàn)不同因素分別造成硅基集成電路失效損壞所對(duì)應(yīng)的比
研究背景及意義隨著半導(dǎo)體工藝技術(shù)的突破及發(fā)展,器件及芯片尺寸越來(lái)越小且集成度也越來(lái)越高[1],導(dǎo)致芯片的可靠性設(shè)計(jì)成為一大難題,其中靜電放電(ESD,ElectrostaticDischarge)是影響可靠性的原因之一[2-3]。所謂ESD過(guò)程就是電荷在兩物體之間迅速發(fā)生轉(zhuǎn)....
圖1.1集成電路失效對(duì)應(yīng)比例關(guān)系
圖1.1集成電路失效對(duì)應(yīng)比例關(guān)系圖1.2ESD設(shè)計(jì)窗口及成本與工藝節(jié)點(diǎn)關(guān)系D防護(hù)設(shè)計(jì)的巨大挑戰(zhàn)體現(xiàn)在以下三個(gè)方面:ESD事件是一個(gè)復(fù)雜的物理過(guò)程模來(lái)進(jìn)行深入分析[9];其次,ESD放電過(guò)程很短,因此準(zhǔn)靜態(tài)模型是不適用的;導(dǎo)體工藝下ESD的防護(hù)也是不能通用的,....
圖1.2ESD設(shè)計(jì)窗口及成本與工藝節(jié)點(diǎn)關(guān)系
圖1.1集成電路失效對(duì)應(yīng)比例關(guān)系圖1.2ESD設(shè)計(jì)窗口及成本與工藝節(jié)點(diǎn)關(guān)系D防護(hù)設(shè)計(jì)的巨大挑戰(zhàn)體現(xiàn)在以下三個(gè)方面:ESD事件是一個(gè)復(fù)雜的物理過(guò)程模來(lái)進(jìn)行深入分析[9];其次,ESD放電過(guò)程很短,因此準(zhǔn)靜態(tài)模型是不適用的;導(dǎo)體工藝下ESD的防護(hù)也是不能通用的,....
圖1.3MOS-IGBT-SCR復(fù)合器件的結(jié)構(gòu)示意圖及其等效電路圖
南京郵電大學(xué)碩士研究生學(xué)位論文緒論對(duì)芯片系統(tǒng)級(jí)的ESD防護(hù)的研究[42],也包括電路的防護(hù)[43-44]。東南大學(xué)主要從電路的ESD防護(hù)設(shè)計(jì)以及器件的防護(hù)進(jìn)行了研究[45-46]。電子科技大學(xué)主要是針對(duì)器件的ESD創(chuàng)新防護(hù)[47]。近年來(lái)隨著對(duì)ESD問(wèn)題不斷的深....
本文編號(hào):3907966
本文鏈接:http://sikaile.net/kejilunwen/dianzigongchenglunwen/3907966.html