發(fā)布時間：2024-01-04 19:29

　　石墨烯,單原子層厚度的二維碳晶體,自2004年被發(fā)現(xiàn)以來,在材料科學和現(xiàn)代物理學領域備受關注。它具有優(yōu)異的電子學、光學、熱力學等性能,使其在電子信息、能源通信和生物醫(yī)藥等領域有著廣泛的應用前景。石墨烯基電子器件是石墨烯應用領域的重中之重,然而經(jīng)過近十年的研究卻仍無法實現(xiàn)規(guī)模化應用,主要原因是傳統(tǒng)工藝無法滿足新型納米材料生產(chǎn)及相關器件加工的工業(yè)制造要求,尤其在石墨烯的大規(guī)模制備,圖案化成形,電學性能調控等方面存在較大的難題。氧化石墨烯(GO)還原法具有溶液工藝兼容性強,易調控,可規(guī)模化生產(chǎn)等優(yōu)點,被廣泛有效地應用于石墨烯的制備。傳統(tǒng)的GO還原方法有熱處理和化學還原兩種,前者需要借助于惰性氣體下高溫退火(>1000℃),能量消耗大;后者需要應用化學還原劑,存在殘余污染。而且,這兩種方法對石墨烯基器件工業(yè)制造技術的兼容性差,需要獨立的圖案化處理環(huán)節(jié),增加了器件制備的工藝復雜性。近年來,激光直寫還原技術的出現(xiàn)解決了這些難題,只需要一次直寫處理就可以將絕緣GO還原成導電石墨烯并將其制成任意微圖案,且不需要任何預先設計制作的圖案化基底或蔭罩,具有潔凈無污染、低成本、易操作、高穩(wěn)定性和靈活性等...

【文章頁數(shù)】：67 頁

【學位級別】：碩士

本文編號：3876935