近年來(lái),隨著芯片集成度的不斷提高,基于數(shù)字微鏡器件(DMD,Digital Micromirror Device)的新型無(wú)掩膜光刻技術(shù)受到人們的普遍關(guān)注。DMD具有響應(yīng)時(shí)間短、分辨率高以及光學(xué)效率高等優(yōu)點(diǎn)。DMD光刻技術(shù)降低了傳統(tǒng)光刻技術(shù)在制作和加工掩膜版方面的困難和成本,使光刻技術(shù)繁瑣的工藝流程得以簡(jiǎn)化,提高了光刻機(jī)的工作效率。勻光系統(tǒng)作為光刻機(jī)中的重要組件,是必不可少的。激光直接發(fā)出的光強(qiáng)通常是不均勻的,這種不均勻的光直接入射在DMD上進(jìn)行光刻會(huì)造成刻寫(xiě)線寬與圖案分辨率不一致,影響光刻效果。微透鏡陣列是一種常見(jiàn)的勻光系統(tǒng),但在應(yīng)用于DMD光刻機(jī)時(shí)存在一些問(wèn)題:首先,由于傳統(tǒng)微透鏡陣列中的子透鏡采取周期排列的方式,在對(duì)相干光勻化時(shí)會(huì)出現(xiàn)比較明顯的干涉條紋,影響勻光效果;其次,傳統(tǒng)微透鏡陣列勻光系統(tǒng)包含組件較多、占用體積大、難于集成;最后,在DMD光刻機(jī)中,DMD與主光軸光軸的垂面成24°,傳統(tǒng)微透鏡陣列勻光系統(tǒng)在與主光軸不垂直的方向不能獲得均勻性較好的光斑。本文圍解決繞傳統(tǒng)微透鏡陣列勻光系統(tǒng)應(yīng)用于DMD光刻機(jī)的這些不足之處展開(kāi)深入的研究,并且提出相應(yīng)的解決方案:(1)本文針對(duì)傳統(tǒng)微透...

【文章頁(yè)數(shù)】：50 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
ABSTRACT
第一章 緒論
    1.1 研究背景
    1.2 光刻技術(shù)
    1.3 基于DMD的無(wú)掩膜光刻技術(shù)
        1.3.1 光源
        1.3.2 DMD器件
        1.3.3 光學(xué)成像系統(tǒng)
        1.3.4 勻光系統(tǒng)
    1.4 論文主要內(nèi)容
第二章 半導(dǎo)體激光器光源模塊的設(shè)計(jì)
    2.1 半導(dǎo)體激光器信號(hào)處理以及控制系統(tǒng)
        2.1.1 溫度控制
        2.1.2 光源輸出強(qiáng)度控制
        2.1.3 光源輸出模式控制
    2.2 傳統(tǒng)微透鏡陣勻光系統(tǒng)
        2.2.1 勻光原理
        2.2.2 模擬仿真
    2.3 隨機(jī)微透鏡陣列勻光系統(tǒng)
        2.3.1 模擬仿真
        2.3.2 實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證
    2.4 本章小結(jié)
第三章 自由曲面透鏡的設(shè)計(jì)
    3.1 非成像光學(xué)與自由曲面簡(jiǎn)介
    3.2 非成像光學(xué)的基本定律
        3.2.1 邊緣光線原理
        3.2.2 能量守恒定律
    3.3 入射光為平行光的自由曲面透鏡設(shè)計(jì)
        3.3.1 能量映射網(wǎng)格的構(gòu)建
        3.3.2 求解面型點(diǎn)
    3.4 光源為點(diǎn)光源的自由曲面設(shè)計(jì)
    3.5 模擬仿真
    3.6 本章小結(jié)
第四章 自由曲面微透鏡陣列勻光系統(tǒng)的設(shè)計(jì)
    4.1 自由曲面微透鏡陣列的參數(shù)
    4.2 自由曲面周期微透鏡陣列
        4.2.1 設(shè)計(jì)原理
        4.2.2 模擬仿真
    4.3 自由曲面隨機(jī)微透鏡陣列
        4.3.1 設(shè)計(jì)原理
        4.3.2 模擬仿真
    4.4 偏差影響
    4.5 本章小結(jié)
第五章 總結(jié)與展望
    5.1 工作總結(jié)
    5.2 未來(lái)展望
參考文獻(xiàn)
致謝
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本文編號(hào)：3873079