采用直流反應(yīng)磁控濺射與高溫退火工藝大批量制備了膜厚為200 nm、400 nm及800 nm的2英寸藍(lán)寶石基氮化鋁模板,并對(duì)高溫退火前后不同膜厚模板使用各種表征手段進(jìn)行對(duì)比分析。結(jié)果表明:采用磁控濺射制備膜厚為200 nm的模板經(jīng)高溫退火后晶體質(zhì)量得到顯著提升,退火前后整片(0002)面和(10-12)面高分辨率X射線衍射搖擺曲線半高寬分別從632～658 arcsec和2 580～2 734 arcsec下降至70.9～84.5 arcsec和273.6～341.6 arcsec;模板5μm×5μm區(qū)域內(nèi)均方根粗糙度小于1 nm;紫外波段260～280 nm吸收系數(shù)為14～20 cm^-1;高溫退火前后拉曼圖譜E₂(high)聲子模特征峰半高寬從13.5 cm^-1降至5.2 cm^-1,峰位從656.6 cm^-1移動(dòng)至657.6 cm^-1,表明氮化鋁模板內(nèi)的拉應(yīng)力經(jīng)高溫退火后得到釋放,接近無(wú)應(yīng)力狀態(tài)。

【文章頁(yè)數(shù)】：7 頁(yè)

【文章目錄】：
0 引 言
1 實(shí) 驗(yàn)
2 結(jié)果與討論
    2.1 高分辨率X射線衍射儀(HRXRD)測(cè)試分析
    2.2 原子力顯微鏡(AFM)測(cè)試分析
    2.3 分光光度計(jì)測(cè)試分析
    2.4 拉曼光譜儀(Raman)測(cè)試分析
3 結(jié) 論



本文編號(hào)：3869628