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高性能硅基微流道優(yōu)化方法研究

發(fā)布時(shí)間:2023-10-15 18:04
  采用激光刻蝕工藝制備了硅基微流道散熱器,通過半導(dǎo)體微細(xì)加工技術(shù)將薄膜溫度傳感器集成到微流道內(nèi)部。通過實(shí)驗(yàn)測(cè)試了不同流量以及不同加熱功率下,激光刻蝕微流道和深反應(yīng)離子刻蝕微流道的散熱能力。結(jié)果表明,微流道內(nèi)壁的粗糙表面能降低熱阻,在相同條件下比深反應(yīng)離子刻蝕微流道小一半。集成在微流道散熱器內(nèi)部的薄膜溫度傳感器能準(zhǔn)確、實(shí)時(shí)捕獲微流道內(nèi)的溫度變化,真實(shí)地反映了微流道的溫度分布特性,為優(yōu)化微流道設(shè)計(jì)提供了新的技術(shù)途徑。

【文章頁數(shù)】:6 頁


本文編號(hào):3854396

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