為了解決光學(xué)元件表面的顆粒污染問題,在單發(fā)次激光干式清洗的基礎(chǔ)上,提出了氣流置換系統(tǒng)輔助的激光清洗方法,使用波長為355nm的Nd∶YAG激光器,針對鍍?nèi)苣z-凝膠SiO₂薄膜熔石英光學(xué)表面粒徑為1μm～50μm的典型SiO₂顆粒污染物,進行了理論分析和清洗實驗,取得了可用于激光清洗的工藝參量。結(jié)果表明,對于鍍?nèi)苣z-凝膠膜熔石英樣品的單發(fā)激光干式清洗,最佳激光能量密度為2.29J/cm²,與未鍍膜石英的激光清洗工藝參量存在一定差異;在最佳工藝參量下,單發(fā)次激光清洗對于粒徑1μm以上的SiO₂顆粒清洗效果明顯,移除率可達82.96%;當(dāng)污染密度過高時會導(dǎo)致清洗效果的減弱及對基底的損傷,而氣流置換系統(tǒng)輔助的激光清洗方法可進一步增強對光學(xué)表面顆粒污染的去除效果。該研究對大型高功率固體激光裝置中的光學(xué)元件在線清洗及清洗裝備的設(shè)計具有重要的研究意義與實用價值。

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【文章目錄】：
引 言
1 理論分析
    1.1 顆粒吸附力
    1.2 干式激光清洗移除過程
2 實驗過程
3 實驗結(jié)果與討論
    3.1 單發(fā)激光清洗
    3.2 氣流置換輔助的激光清洗實驗
4 結(jié) 論



本文編號：3851252