為深入理解挖掘ArF準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)運(yùn)轉(zhuǎn)機(jī)制,進(jìn)而獲得ArF準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)設(shè)計(jì)優(yōu)化的理論及方向性指導(dǎo),文章基于流體模型,以氣體高壓放電等離子體深紫外激光輻射過程為主要研究對象,研究了放電抽運(yùn)ArF準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)的動力學(xué)特性,分析了不同緩沖氣體中, ArF準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)極板間電壓、電流、光子數(shù)密度變化趨勢及電子數(shù)密度空間分布情況,討論了光電離在系統(tǒng)放電過程中的重要作用.結(jié)果表明, Ne作為緩沖氣體時(shí),電子耗盡層及陰極鞘層寬度更小,放電更加穩(wěn)定.在Ne中添加雜質(zhì)氣體Xe,可以通過光電離加速放電區(qū)域的擴(kuò)展,減小電子耗盡層及陰極鞘層的寬度,降低放電發(fā)生的閾值電壓,提高放電穩(wěn)定性. 

【文章頁數(shù)】：8 頁

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]ArF準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)的能量效率特性[J]. 王倩,趙江山,羅時(shí)文,左都羅,周翊.  物理學(xué)報(bào). 2016(21)
[2]放電泵浦ArF準(zhǔn)分子激光動力學(xué)模擬與參數(shù)分析[J]. 羅時(shí)文,左都羅,王新兵.  強(qiáng)激光與粒子束. 2015(08)
[3]Formation of Large-Volume High-Pressure Plasma in Triode-Configuration Discharge Devices[J]. 江超,王又青.  Plasma Science and Technology. 2006(02)



本文編號：3688871