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280nm AlGaN基半導體激光器有源區(qū)結(jié)構的仿真研究

發(fā)布時間:2022-10-06 17:33
  在過去的數(shù)年間,以碳化硅和氮化鎵為代表的第三代半導體材料,因其具有禁帶寬度大、飽和遷移率高和抗輻射能力強等優(yōu)良特性,在微電子和光電領域引發(fā)外界大量關注。其中作為直接帶隙半導體材料的氮化鎵基材料,因具有更高的發(fā)光效率,在光學器件制作中應用廣泛。如發(fā)光二極管(LED)、激光二極管(LD)、紫外探測器等。而且通過調(diào)節(jié)其合金組分,可以實現(xiàn)禁帶寬度0.77ev(InN)-6.28eV(AlN)連續(xù)可調(diào),從而覆蓋所有可見光的波長范圍。隨著技術的不斷革新,現(xiàn)階段已成功制備多種波段的發(fā)光二極管和激光器件。近幾年來,人們對于研究相對不太成熟的紫外AlGaN基半導體激光二極管(UV-LD)的興趣大大增強。作為一種高強度光源,AlGaN基深紫外半導體激光器在生物試劑檢測,高密度光學數(shù)據(jù)存儲,紫外天文學,光刻,醫(yī)療殺菌和化學/生物分析方面都有著重要應用。然而,由于外延生長技術方面的限制難以獲得高質(zhì)量的AlGaN材料;以及Mg摻雜劑的高活化能,導致的有限的P型摻雜效率;相對較低的空穴注入和大量電子泄露導致的激光器發(fā)光效率不太令人滿意等問題阻礙了AlGaN深紫外激光器的優(yōu)越性能;谝陨现T多原因,本文對AlGaN... 

【文章頁數(shù)】:73 頁

【學位級別】:碩士

【文章目錄】:
摘要
Abstract
1 緒論
    1.1 研究背景概述
    1.2 國內(nèi)外研究現(xiàn)狀
        1.2.1 半導體激光器研究現(xiàn)狀
        1.2.2 紫外半導體激光器研究現(xiàn)狀
    1.3 深紫外半導體激光器面臨的問題
    1.4 論文結(jié)構與內(nèi)容簡介
2 深紫外半導體激光器原理及器件性能
    2.1 半導體激光器工作原理
        2.1.1 粒子數(shù)反轉(zhuǎn)分布
        2.1.2 諧振腔
        2.1.3 增益與閾值條件
    2.2 材料性質(zhì)
        2.2.1 Ⅲ族氮化物半導體材料的基本性質(zhì)
        2.2.2 極化效應
        2.2.3 AlGaN材料特性
    2.3 激光器主要特性
        2.3.1 閾值特性
        2.3.2 P-I特性
        2.3.3 發(fā)射波長
        2.3.4 激光束的空間分布
    2.4 本章小結(jié)
3 模擬理論及參數(shù)設定
    3.1 仿真環(huán)境介紹
    3.2 器件模擬理論基礎
    3.3 能帶結(jié)構模型
    3.4 極化模型
    3.5 載流子的遷移率模型
    3.6 折射率計算模型
    3.7 載流子復合模型
    3.8 本章小結(jié)
4 280nm深紫外半導體激光器結(jié)構設計
    4.1 有源區(qū)結(jié)構設計
        4.1.1 組分選取
        4.1.2 量子阱個數(shù)優(yōu)化
        4.1.3 阱寬和壘厚度設計優(yōu)化
    4.2 腔長的設計
    4.3 器件整體結(jié)構設計與輸出特性
        4.3.1 器件整體結(jié)構設計
        4.3.2 器件輸出特性
    4.4 本章小結(jié)
5 一種改進型的 280nm AlGaN基深紫外半導體激光器
    5.1 問題分析
    5.2 結(jié)構設計
    5.3 輸出特性分析
    5.4 本章小結(jié)
6 總結(jié)與展望
    6.1 本文總結(jié)
    6.2 展望
參考文獻
個人簡歷、在校期間發(fā)表的學術論文與研究成果
致謝


【參考文獻】:
期刊論文
[1]量子阱層和壘層具有不同Al組分的270/290/330nm AlGaN基深紫外LED光電性能[J]. 王福學,葉煊超.  發(fā)光學報. 2017(01)
[2]中科院半導體所研制出GaN基紫外激光器[J].   軍民兩用技術與產(chǎn)品. 2017(01)
[3]InGaN/GaN量子阱壘層和阱層厚度對GaN基激光器性能的影響及機理[J]. 周梅,趙德剛.  物理學報. 2016(07)
[4]全球氮化鎵激光器材料及器件研究現(xiàn)狀[J]. 劉建平,楊輝.  新材料產(chǎn)業(yè). 2015(10)
[5]2μm半導體激光器有源區(qū)量子阱數(shù)的優(yōu)化設計[J]. 安寧,劉國軍,李占國,李輝,席文星,魏志鵬,馬曉輝.  紅外與激光工程. 2015(07)
[6]低功率980nm波長半導體激光器驅(qū)動電路設計[J]. 董陽,陳海燕,程昌彥,黃春雄.  現(xiàn)代電子技術. 2014(13)
[7]GaN基光柵外腔半導體激光器研究進展[J]. 姚真瑜,呂雪芹,張保平.  微納電子技術. 2013(10)
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博士論文
[1]AIGaN基紫外LED關鍵制備技術的研究[D]. 王書昶.東南大學 2015
[2]AlGaN基深紫外LED的MOCVD外延生長[D]. 李洋.華中科技大學 2015
[3]InGaN/GaN多量子阱的結(jié)構及其光學特性的研究[D]. 王繪凝.山東大學 2014
[4]Ⅲ族氮化物半導體外延層薄膜的生長與表征研究[D]. 王黨會.西安電子科技大學 2013

碩士論文
[1]極化效應對近紫光LED影響的數(shù)值模擬與分析[D]. 代穎.沈陽工業(yè)大學 2016
[2]AlGaN基深紫外LED器件結(jié)構的模擬研究[D]. 張敏.華中科技大學 2015
[3]氮化鎵基發(fā)光二極管光電特性的仿真模擬[D]. 楊凱.大連理工大學 2013
[4]量子點激光器閾值電流特性及深中心的研究[D]. 孫麗芹.曲阜師范大學 2013
[5]1.47μm半導體激光器結(jié)構設計與模擬[D]. 陳為波.長春理工大學 2013
[6]大功率GaN基多量子阱結(jié)構藍光LED性能優(yōu)化設計[D]. 雷亮.揚州大學 2012
[7]GaN材料的極化特性研究[D]. 杜坤.西安電子科技大學 2011
[8]氮化鎵LED中極化效應的理論模擬[D]. 王強.山東大學 2011
[9]半導體激光器的研究與設計[D]. 宋照華.中國地質(zhì)大學(北京) 2010
[10]980nm光纖光柵半導體激光器的特性研究[D]. 孫婷婷.長春理工大學 2009



本文編號:3687080

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