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次級電子不平衡對典型器件輻射效應的影響研究

發(fā)布時間:2022-07-11 17:56
  吸收劑量是輻射效應研究中最重要的物理量,器件參數(shù)隨吸收劑量的變化規(guī)律是效應研究的依據(jù)。由于電子元器件尺寸小,無法直接測量器件內部吸收劑量。目前輻射效應試驗采用測量輻照試驗元器件所在位置處的輻射劑量,由此代替電子元器件靈敏區(qū)域的吸收劑量的方法。由于輻照試驗中器件輻射敏感區(qū)上面的封裝材料和下方的基底層都較薄。這種情況下由于元器件敏感區(qū)不滿足次級電子平衡條件,敏感區(qū)實際接受的吸收劑量,可能會小于在滿足次級電子平衡條件下測量的標稱劑量,這會造成對器件輻射損傷的過低估計。因此,在電子元器件總劑量效應輻照試驗中,研究次級電子不平衡對器件實際接受的吸收劑量的影響,評估其對輻射效應研究造成的誤差有多大是十分必要的。本論文選擇雙列直插塑料封裝的CC4069六反相器作為研究的元器件,采用高分辨劑量測量方法,測量了輻照試驗模型中器件靈敏層的吸收劑量,采用蒙特卡洛方法分析了器件吸收劑量與標稱劑量的差異,結合輻射效應敏感參數(shù)閾電壓的測量,分析評估了不滿足次級電子平衡條件對CC4069反相器敏感區(qū)吸收劑量和輻射效應的影響程度。研究結果可為電子元器件輻射效應研究、輻射加固驗證提供準確的基準數(shù)據(jù),對于提高電子元器件輻... 

【文章頁數(shù)】:51 頁

【學位級別】:碩士

【文章目錄】:
摘要
Abstract
第一章 緒論
    1.1 研究背景及意義
    1.2 國內外研究現(xiàn)狀
    1.3 本文研究目的和主要內容
第二章 MOS器件輻射效應概述
    2.1 空間輻射環(huán)境
    2.2 空間輻射效應
    2.3 MOS器件的總劑量效應及損傷機理
        2.3.1 MOS器件總劑量效應的損傷機理
        2.3.2 總劑量效應對MOS器件的影響
            1. 閾電壓漂移
            2. 跨導降低
            3. 靜態(tài)漏電流增大
第三章 試驗裝置和測試分析方法
    3.1 輻照裝置及其劑量場測量
        3.1.1 輻照裝置
        3.1.2 輻照源的劑量場測量
    3.2 電子元器件總劑量效應測試方法和裝置
        3.2.1 試驗器件
        3.2.2 試驗器件總劑量效應參數(shù)測量
        3.2.3 小體積高分辨率劑量測量系統(tǒng)
    3.3 試驗器件結構吸收劑量蒙特卡洛計算工具
第四章 CC4069器件的輻射效應測試與分析
    4.1 輻照試驗
    4.2 閾電壓漂移變化規(guī)律
    4.3 器件劑量試驗測量
第五章 CC4069器件結構劑量的蒙特卡洛分析
    5.1 CC4069器件結構吸收劑量的蒙特卡洛分析
    5.2 CC4069反相器閾電壓漂移規(guī)律曲線的修正
第六章 總結與展望
    6.1 工作總結
    6.2 工作創(chuàng)新點
    6.3 展望
參考文獻
在讀期間發(fā)表論文
致謝


【參考文獻】:
期刊論文
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[2]硅基MOS器件的電離輻照效應分析[D]. 李一天.西安電子科技大學 2010
[3]MOS器件總劑量輻射加固技術研究[D]. 譚開洲.電子科技大學 2001



本文編號:3658619

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