針對極紫外光刻照明系統(tǒng)中一塊小尺寸反射鏡大入射角帶寬的需求,采用Si層有效厚度與公轉速度關系式和多層膜周期厚度與公轉速度關系式,完成了寬帶Mo/Si多層膜設計膜系的制備工作。在磁控濺射鍍膜機上制備了一系列不同周期厚度和G值（Mo層厚度與多層膜周期厚度的比值）的Mo/Si多層膜規(guī)整膜系,并利用掠入射X射線反射譜表征,分別得到多層膜周期厚度、Mo層有效厚度和Si層有效厚度與公轉速度的關系式以及多層膜界面粗糙度。采用Levenberg-Marquardt算法完成了寬帶膜系設計,設計結果為在16.8°~24.8°范圍內R=42%±1%。根據Mo/Si多層膜周期厚度和Si層有效厚度與公轉速度的對應關系制備所設計的膜系,并對其極紫外波段反射率進行測量,實驗結果為在16.8°~24.8°范圍內R=41.2%~43.0%,實驗結果與設計結果吻合得很好,進一步的制備誤差反演分析表明實驗結果與設計結果之間的細微偏差主要來自Mo/Si多層膜G值及界面粗糙度標定過程中的系統(tǒng)誤差。 

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【文章目錄】：
1引言
2Mo/Si多層膜膜層有效厚度與公轉速度關系式的標定
3寬帶Mo/Si多層膜的設計及容差分析
4寬帶Mo/Si多層膜的制備與測試分析
5結論


【參考文獻】：
期刊論文
[1]濺射法制備多層膜沉積速率的標定[J]. 張立超.  光學精密工程. 2010(12)



本文編號：3654391