光學(xué)減反膜元件是激光系統(tǒng)中極其重要的器件之一,如何提高減反膜的抗激光損傷閾值成為關(guān)注的一個(gè)熱點(diǎn)。漸變折射率薄膜具有提高激光損傷閾值且實(shí)現(xiàn)寬帶減反的特點(diǎn)。采用PECVD技術(shù)制備的漸變折射率薄膜具有折射率連續(xù)變化范圍大,制造精度較高等獨(dú)特的優(yōu)點(diǎn),近年來(lái)在激光薄膜的前沿研究中展現(xiàn)了巨大的應(yīng)用潛能。本文重點(diǎn)探索漸變膜系減反膜與激光損傷閾值之間的變化規(guī)律。首先通過(guò)仿真技術(shù)進(jìn)行不同的減反膜系設(shè)計(jì)并進(jìn)行優(yōu)化;其次,采用PECVD技術(shù)在K9玻璃上沉積不同漸變減反膜系（多層梯度漸變膜系和相應(yīng)的坡度漸變膜系）完成樣片制備,使樣片平均透過(guò)率在450～750nm波段不低于99%;最后進(jìn)行了激光損傷閾值測(cè)量,研究不同漸變膜系減反膜的激光損傷閾值變化規(guī)律。獲得的主要結(jié)論如下:（1）通過(guò)選擇合適的基礎(chǔ)膜系,并結(jié)合一定的優(yōu)化方法,獲得了三種滿足設(shè)計(jì)要求的漸變膜系減反膜。漸變膜系1:G/H1→H/L/A、漸變膜系2:G/0.48H2/L1→H/1.31L1/A、漸變膜系 3:G/L1/L/H3→H/L1/A,其中 nL=1.46,nL1=1.4,nH=1.96,nH1=1.7,nH2=1.85,nH3=1.75。三種漸... 

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【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

PECVD-1201型等離子體反應(yīng)器設(shè)備實(shí)物圖

法是非破壞性測(cè)量，通過(guò)觀測(cè)薄膜反射所產(chǎn)生的橢圓偏振光計(jì)算出薄膜的折射率和幾何厚度。橢圓偏振光法不僅可以高幾何厚度，還可測(cè)量薄膜的偏振特性、散射特性、各向異性和始階段的結(jié)構(gòu)）。同時(shí)由于其厚度的分辨在亞單原子層（亞埃下，或者氣體和液體環(huán)境，橢偏儀被用于等離子體、化學(xué)氣相。的變角度寬光譜橢偏儀的型號(hào)是 M-2000UI，是由 J.A.WOOL測(cè)的多個(gè)光學(xué)特性參數(shù)，如折射率、厚度及消光系數(shù)等。其測(cè)490 個(gè)波長(zhǎng)點(diǎn)，測(cè)量誤差為△、Ψ≤0.2°，重復(fù)性為△、Ψ≤0.0化。它主要由光源、起偏器、檢偏器、接收器及計(jì)算機(jī)等部意圖分別如圖 2.3、2.4 所示。光源一般是激光，經(jīng)起偏器后是一個(gè) 1/4 波片后，兩束光發(fā)生了 90°相位的變化，因此形成了反射光變成線偏振光，令其透過(guò)第二個(gè)偏振器即檢偏器用于倍增管探測(cè)器進(jìn)行的。旋轉(zhuǎn)起偏器和檢偏器直到消光就能確

圖 2.4 M-2000UI 型橢偏儀的原理圖射光譜測(cè)試方法量原理是利用分光光度計(jì)測(cè)定制定光譜范圍內(nèi)透射光強(qiáng)與入可以測(cè)量光學(xué)薄膜的諸多特性，如吸收、透過(guò)率、反射率等掃描法。透射率測(cè)量的準(zhǔn)確性及精度與多種因素有關(guān)，如光徑的大小、測(cè)試厚度、斜入射的偏振效應(yīng)、光度計(jì)的光譜分一個(gè)細(xì)致而復(fù)雜的過(guò)程。的實(shí)際要求，本文的透射光譜測(cè)量采用分光光度計(jì)的型號(hào)是5~3200nm，測(cè)量波長(zhǎng)精度 U-V 區(qū)：≤0.2nm，NIR 區(qū)域：≤1.寬的光譜范圍內(nèi)做到自動(dòng)掃描和自動(dòng)記錄，分光光度計(jì)采用雙被測(cè)試樣，稱為測(cè)試光束；另一束光不透過(guò)被測(cè)試樣，稱為探測(cè)器交替地接收后，并進(jìn)行直接對(duì)比而得到透過(guò)率。

【參考文獻(xiàn)】：
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碩士論文
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[9]光學(xué)介質(zhì)薄膜的激光損傷特性研究[D]. 李榮.西安工業(yè)大學(xué) 2010
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本文編號(hào)：3653654