發(fā)布時間：2022-05-08 17:49

　　為滿足45 nm及其以下節(jié)點光刻技術(shù)對照明系統(tǒng)的需求,將深紫外光刻照明系統(tǒng)的光束整形單元所采用的微反射鏡陣列（MMA）作為關(guān)鍵器件,以實現(xiàn)滿足光源-掩模聯(lián)合優(yōu)化（SMO）技術(shù)需求的任意照明光源。根據(jù)MMA結(jié)構(gòu)參數(shù)和加工制造調(diào)整特性,分析MMA角度誤差類型。在此基礎(chǔ)上,利用蒙特卡羅公差分析法模擬實際加工制造調(diào)整的過程,通過分析微反射鏡角度誤差對曝光結(jié)果的影響,制定了滿足曝光要求的角度公差。結(jié)果顯示,當MMA在正交方向上的角度調(diào)整公差和加工角度公差分別在（±0.04°,±0.06°）、（±0.04°,±0.04°）范圍內(nèi)時,系統(tǒng)曝光得到的特征尺寸誤差（CDE）在98.1%的置信概率下小于0.33 nm。 

【文章頁數(shù)】：7 頁

【文章目錄】：
1 引 言
2 深紫外光刻照明系統(tǒng)的光束整形單元
3 MMA的角度公差分析
    3.1 MMA角度誤差類型
    3.2 光刻照明光源模式的評價函數(shù)
    3.3 MMA公差分析方法
4 光刻仿真結(jié)果與分析
    4.1 理想角度下的曝光仿真結(jié)果
    4.2 角度誤差下的曝光仿真結(jié)果
5 結(jié) 論



本文編號：3652101