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基于IR與U CEON (T)的IGBT結溫測量方法對比分析

發(fā)布時間:2022-01-20 05:10
  紅外(IR)探測法與小電流飽和壓降UCEON(T)法是兩種目前常用的絕緣柵雙極型晶體管(IGBT)結溫測量方法,兩種方法得到的結溫存在區(qū)別與聯(lián)系。針對此問題,此處首先對兩種測量方法的基本原理及技術要點進行闡述;然后對基于UCEON(T)法的測溫曲線進行標定;最后通過直流脈沖測試對兩種結溫測試結果進行對比分析。結果表明,IGBT芯片表面的溫度分布存在明顯的非均勻特性,隨著采樣點數(shù)量的逐漸增多,UCEON(T)法的溫度測量結果更加趨近于IR探測法測得的芯片表面平均溫度。 

【文章來源】:電力電子技術. 2020,54(09)北大核心CSCD

【文章頁數(shù)】:3 頁

【部分圖文】:

基于IR與U CEON (T)的IGBT結溫測量方法對比分析


圖1結溫標定曲線??Fig.?1?Junction?temperature?calibration?curve??585??45??2??4??J??0.??

電路圖,結溫,電流,電路


alibration?curve??對圖中數(shù)據(jù)進行最小二乘法擬合,從而可得??到f與i/ffiON的定量關系為:??7'=-423.44Uqbn+241.52?(2)??3.2兩種測溫方法的對比分析??為進一步對上述兩種測溫方法進行分析,搭??建了?IGBT結溫測試平臺。測試過程保持DUT處??于常導通狀態(tài),通過水冷板為DUT進行散熱。并??通過Labview控制功率電流源輸出直流脈沖序??列,在此次測試中設置電流為5?0?A,加熱與冷卻??時間均為2?s,測試原理及載荷如圖2所示。??0.1A//A??50?A??(b>電流?荷??圖2?IGBT結溫測試電路與電流栽荷??Fig.?2?IGBT?junction?temperature?test?circuit?and?current?load??139??2測溫原理與技術要點??2.1?IR探測法??IR探測法的基本原理是熱輻射。因此,通過??IR探測法測溫時,首先需要拆除IGBT模塊的封??裝外殼,并去除芯片表面的硅膠。物體IR輻射能??量的大小及其按波長的分布與物體表面溫度存在??對應關系。因此,通過測量物體自身的輻射能量,??可以計算其表面溫度|41。??與其他光學測溫法類似,在通過IR探測法對??IGBT結溫進行測量時同樣需要進行校準,其中的??一個關鍵要點是對測溫表面發(fā)射率(的統(tǒng)一。(是??指物體表面輻射出的能量與相同溫度的黑體輻射??能量的比率。對此,此處采用己知(的絕緣黑漆((=??0.97)均勻噴涂IGBT芯片。由于附著黑漆極薄,故??可認為黑漆溫度即為芯片表面溫度。完成校準后,??將m攝像儀鏡頭聚焦測溫區(qū)域,可實現(xiàn)對IG

表面溫度分布,芯片,溫度分布,降溫曲線


?Vol.54,?No.9??September?2020??通過小電流源為DUT提供恒定的0.1?A測試??電流,并對DUT的導通壓降^>^進行采集,此時??得到的數(shù)據(jù)同時包含DUT在50?A電流等級下壓??降和A下的熱敏壓降t/_.1A。在測試??條件下,t/cE0N50A接近2?V,而不超過1?V,??借此可通過數(shù)據(jù)篩選的方法去除的數(shù)據(jù)??點,進而通過式(2)得到DUT的降溫曲線。??同時,按照上述的方法,在測試過程中利用高??速IR攝像儀對DUT的結溫進行實時采集,圖3??左側為第一個脈沖結束時刻G=3?s)芯片表面的溫??度分布情況。由溫度分布云圖可知,芯片中心溫度??為70?邊角溫度為51.5?T。整體來看,芯片表面??的溫度分布存在顯著的不均勻性,具體表現(xiàn)為由??幾何中心向邊緣遞減的趨勢。此外,由于鍵合引線??的遮擋,也無法精確獲取完整的芯片表面溫度。為??便于與法的測量結果相對比,根據(jù)芯片??的溫度分布特點,在芯片表面設置了一系列溫度??參考點,如圖3右側所示。??圖3芯片表面溫度分布(t=3?s)??Fig.?3?Temperature?distribution?on?chip?surface?(i=3?s)??其中,點1代表芯片幾何中心位置;點2 ̄5代??表高溫位置;點6 ̄13則代表低溫位置。分別計算??圖3右側中3個區(qū)域的平均溫度r,,raveI_5及raveW3,??并與t/cEo^r)法測得的降溫曲線7^,進行對比,如??圖4所示。??t/s??圖4測溫結果的對比??Fig.?4?Comparison?of?temperature?measurement?results?

【參考文獻】:
期刊論文
[1]非平穩(wěn)工況下功率半導體器件結溫管理技術綜述[J]. 周雒維,王博,張益,諶思.  中國電機工程學報. 2018(08)
[2]IGBT結溫及溫度場分布探測研究[J]. 陳明,胡安,唐勇,汪波.  電力電子技術. 2011(07)



本文編號:3598231

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