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Zr 4+ 取代對(duì)Ba(Mg 1/3 Nb 2/3 )O 3 :Eu 3+ 熒光粉結(jié)構(gòu)和熒光特性的影響

發(fā)布時(shí)間:2022-01-10 08:52
  采用固相法制備了不同Zr4+取代量的(Ba0.97Eu0.03)(Mg(1–x)/3Nb2(1–x)/3Zrx)O3熒光粉,研究了Zr4+取代量對(duì)熒光粉的晶體結(jié)構(gòu)以及熒光特性的影響規(guī)律。隨著Zr4+取代量的增加,當(dāng)x=0.05時(shí),體系發(fā)生了從六方相到立方相的轉(zhuǎn)變,發(fā)光行為有所減弱;當(dāng)x>0.05時(shí),體系為立方相,Zr4+的引入使BO6八面體扭轉(zhuǎn)程度增強(qiáng),能級(jí)簡(jiǎn)并消除,B—O成鍵范圍變大,基質(zhì)對(duì)近紫外光區(qū)域的光吸收增強(qiáng),來(lái)源于基質(zhì)的電荷遷移帶強(qiáng)度增加,增強(qiáng)了對(duì)Eu3+的敏化作用,使稀土Eu3+在近紫外與藍(lán)光區(qū)域的激發(fā)與發(fā)射均得到增強(qiáng)。Zr4+取代后,熒光粉的色坐標(biāo)由從(0.658,0.342)移動(dòng)到(0.642,0.358),是一種適用于近紫外(395 nm) LED芯片激發(fā)的紅... 

【文章來(lái)源】:硅酸鹽學(xué)報(bào). 2020,48(09)北大核心EICSCD

【文章頁(yè)數(shù)】:8 頁(yè)

【部分圖文】:

Zr 4+ 取代對(duì)Ba(Mg 1/3 Nb 2/3 )O 3 :Eu 3+ 熒光粉結(jié)構(gòu)和熒光特性的影響


立方BMZxN的鈣鈦礦晶體模型

衍射圖,熒光粉,體系


為了分析Zr4+取代量對(duì)B位有序度的影響,對(duì)低角度XRD譜進(jìn)行了分析(如圖2b所示)。從圖2b可以看到,當(dāng)x=0時(shí),在2θ=17.7°處出現(xiàn)了代表1:2有序結(jié)構(gòu)的超晶格衍射峰;隨著Zr4+的加入,x=0.5時(shí),在18.8°處出現(xiàn)代表1:1有序的衍射峰;x>0.5時(shí),超晶格衍射峰消失,1:1有序的衍射峰逐漸增強(qiáng)。隨著Zr4+取代量的增加,BMZxN:Eu體系發(fā)生了從1:2有序結(jié)構(gòu)(x=0.00)、1:2有序結(jié)構(gòu)與1:1有序結(jié)構(gòu)共存(x=0.05)到1:1有序結(jié)構(gòu)(x=0.10、0.15)的轉(zhuǎn)換,這與Zhang等研究結(jié)果一致[13]。同時(shí),x=0.05時(shí),2θ=115°附近的(420)的衍射峰的劈裂現(xiàn)象消失,樣品從六方相轉(zhuǎn)變?yōu)榱⒎较,隨著Zr4+含量的增加體系的1:1有序度逐漸增加。為了進(jìn)一步的分析BMZxN:Eu體系的晶體結(jié)構(gòu)隨Zr4+取代量增加的變化情況,對(duì)其XRD數(shù)據(jù)進(jìn)行了Rietveld全譜擬合。圖3a~圖3d為BMZxN:Eu樣品的XRD精修衍射圖,表1為體系精修的參數(shù)和晶胞參數(shù)。精修結(jié)果的加權(quán)方差因子Rwp和方差因子Rp均在允許誤差范圍內(nèi)。當(dāng)x=0.05時(shí),體系發(fā)生了從六方相到立方相的轉(zhuǎn)變,晶胞參數(shù)逐漸增大,層間的B1—O、B2—O鍵長(zhǎng)均增加,層與層之間的B—O鍵長(zhǎng)之間的差值也逐漸增大,導(dǎo)致體系的1:1有序度逐漸增加,層間的八面體扭轉(zhuǎn)程度增大。晶體結(jié)構(gòu)發(fā)生轉(zhuǎn)變的原因主要是Zr4+(0.072 nm)部分取代了B位的Mg2+(0.072 nm)和Nb5+(0.064 nm)后,陽(yáng)離子之間的庫(kù)侖排斥力減少,B1—O和B2—O的鍵長(zhǎng)差異通過(guò)氧離子產(chǎn)生位移來(lái)調(diào)整,使得體系從1:2有序結(jié)構(gòu)逐漸轉(zhuǎn)變成1:1有序結(jié)構(gòu),八面體扭轉(zhuǎn)程度增大[14]。

密度圖,熒光粉,圖譜,擬合


BMZxN(x=0.05,0.10,0.15)的B位離子分波態(tài)密度圖和B位離子、氧離子總態(tài)密度圖如圖4所示。從圖4a可以看出,BMZxN體系中Fermi能級(jí)附近成鍵主要由B位離子的d軌道和p軌道電子做出貢獻(xiàn)。隨著Zr4+取代量的增加,–5~0 eV范圍的d、p軌道態(tài)密度重疊增大。從圖4b可以看到,隨著Zr4+取代量的增加,費(fèi)米能級(jí)附近–7~–2 eV范圍的電子分波態(tài)密度的重疊變寬,成鍵能量范圍變寬,共價(jià)鍵性增強(qiáng),電子產(chǎn)生躍遷幾率增大,增強(qiáng)了紫外光區(qū)光吸收。圖4 不同Zr4+取代量的Ba(Mg(1–x)/3Nb2(1–x)/3Zrx)O3的態(tài)密度圖

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
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本文編號(hào):3580419

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