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高光效大功率藍(lán)光InGaN/GaN LED芯片制造及其漏電機(jī)理研究

發(fā)布時間:2021-12-12 07:28
  大功率發(fā)光二極管(Light Emitting Diodes,LEDs)因具有電光轉(zhuǎn)換效率高、節(jié)能環(huán)保、壽命長、體積小等優(yōu)點(diǎn)而開始大規(guī)模用于照明領(lǐng)域。目前,白光LED主要通過藍(lán)光LED芯片激發(fā)黃色熒光粉原理實(shí)現(xiàn)。因此,藍(lán)光LED芯片性能的提升,對提高照明效率,節(jié)省能源起著至關(guān)重要的作用。目前,藍(lán)光LED性能已經(jīng)得得了很大的提升,藍(lán)寶石襯底大功率藍(lán)光LED芯片的發(fā)光效率能夠達(dá)到140~180 lm/W,但仍然存在光提取效率偏低、大電流下出現(xiàn)電流聚集現(xiàn)象而導(dǎo)致“效率下降”、漏電流過大等亟待解決的關(guān)鍵科學(xué)問題。而且大功率LED芯片技術(shù)主要被幾家國外公司壟斷,國內(nèi)LED芯片制造企業(yè)生產(chǎn)的大功率LED芯片質(zhì)量與國際領(lǐng)先水平仍存在一定的差距。本課題以大功率InGaN/GaN藍(lán)光LED芯片為研究對象,采用理論分析、仿真計(jì)算和實(shí)驗(yàn)研究的手段,研究LED微納光學(xué)結(jié)構(gòu)和電極結(jié)構(gòu)優(yōu)化設(shè)計(jì)對LED芯片光電性能的積極影響,并探析了 LED芯片漏電流形成機(jī)理及漏電流大小對LED可靠性的影響。主要研究內(nèi)容包括如下幾個方面:(1)通過分析光子在LED結(jié)構(gòu)中的傳輸性質(zhì),確定了提高LED光提取效率的基本思路;趲缀喂鈱W(xué)... 

【文章來源】:武漢大學(xué)湖北省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁數(shù)】:136 頁

【學(xué)位級別】:博士

【部分圖文】:

高光效大功率藍(lán)光InGaN/GaN LED芯片制造及其漏電機(jī)理研究


圖I-1藍(lán)光LED芯片激發(fā)黃色熒光粉產(chǎn)生白光原理圖

示意圖,正向電壓,外加電壓,原理


光效很低。雙異質(zhì)(Doubleheterostmcture,DH)結(jié)構(gòu)的出現(xiàn)解決了?LED??光效偏低的根本問題,使LED能夠真正得到實(shí)際應(yīng)用。雙異質(zhì)結(jié)構(gòu)一般由寬帶??隙的p型和n型半導(dǎo)體材料和插入其中的一薄層窄帶隙材料組成,如圖1-3所??示。寬帶隙的p型和n型半導(dǎo)體材料分別作為空穴和電子產(chǎn)生層,而窄帶隙材料??則作為載流子限制層。過剩載流子分別從兩個方向注入有源層,然后在窄帶隙材??料中復(fù)合,所以此層材料往往又稱為有源層。此時,發(fā)光區(qū)域由有源區(qū)厚度確定,??而不是載流子擴(kuò)散長度。顯然,把有源層變薄是增加輻射復(fù)合概率的有效措施。??當(dāng)有源層的厚度降低到晶體電子的德布羅意波長可比的尺度時,載流子會被量子??限域,這種結(jié)構(gòu)即為量子阱(QuantumWell,QW)結(jié)構(gòu)。為進(jìn)一步提升光效,現(xiàn)??今多采用多量子阱(Multiple?Quantum?Well,MQW)結(jié)構(gòu)。??r??????????????導(dǎo)帶?????光子??n型寬禁帶?窄禁帶p型寬禁帶??”?Ejrp??〇〇〇〇〇L^b〇〇〇〇〇〇〇〇?價帶??00000?〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇??〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇??圖1-3雙異質(zhì)結(jié)發(fā)光原理示意圖??1.2.2?LED發(fā)展歷史??1907年

示意圖,發(fā)光原理,雙異質(zhì)結(jié),示意圖


。隙的p型和n型半導(dǎo)體材料和插入其中的一薄層窄帶隙材料組成,如圖示。寬帶隙的p型和n型半導(dǎo)體材料分別作為空穴和電子產(chǎn)生層,而窄帶則作為載流子限制層。過剩載流子分別從兩個方向注入有源層,然后在窄料中復(fù)合,所以此層材料往往又稱為有源層。此時,發(fā)光區(qū)域由有源區(qū)厚度而不是載流子擴(kuò)散長度。顯然,把有源層變薄是增加輻射復(fù)合概率的有當(dāng)有源層的厚度降低到晶體電子的德布羅意波長可比的尺度時,載流子會限域,這種結(jié)構(gòu)即為量子阱(QuantumWell,QW)結(jié)構(gòu)。為進(jìn)一步提升光

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
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[3]側(cè)壁粗化提高GaN基發(fā)光二極管出光效率的研究[J]. 李曉瑩,朱麗虹,鄧彪,張玲,劉維翠,曾凡明,劉寶林.  廈門大學(xué)學(xué)報(自然科學(xué)版). 2015(03)
[4]硅基板和銅基板垂直結(jié)構(gòu)GaN基LED變溫變電流發(fā)光性能的研究[J]. 黃斌斌,熊傳兵,張超宇,黃基鋒,王光緒,湯英文,全知覺,徐龍權(quán),張萌,王立,方文卿,劉軍林,江風(fēng)益.  物理學(xué)報. 2014(21)
[5]Enhancement in light output power of LEDs with reflective current blocking layer and backside hybrid reflector[J]. ZHOU ShengJun,FANG Fang,CAO Bin,LIU Sheng,DING Han.  Science China(Technological Sciences). 2013(06)
[6]利用結(jié)構(gòu)函數(shù)分析功率型LED的熱特性[J]. 張海兵,呂毅軍,陳煥庭,李開航,高玉琳,陳忠,陳國龍.  光電子.激光. 2009(04)
[7]MOCVD生長的p型GaN薄膜中Mg摻雜的優(yōu)化與分析(英文)[J]. 張曉敏,王彥杰,楊子文,廖輝,陳偉華,李丁,李睿,楊志堅(jiān),張國義,胡曉東.  半導(dǎo)體學(xué)報. 2008(08)
[8]GaN基材料及其外延生長技術(shù)研究[J]. 劉一兵,黃新民,劉國華.  微納電子技術(shù). 2008(03)
[9]p型氮化鎵退火及發(fā)光二極管研究[J]. 邢艷輝,韓軍,劉建平,牛南輝,鄧軍,沈光地.  固體電子學(xué)研究與進(jìn)展. 2007(02)
[10]鈍化處理對GaN基LED反向漏電流特性的改善[J]. 薛松,韓彥軍,羅毅.  半導(dǎo)體光電. 2006(02)

博士論文
[1]一種新型氮化鎵基發(fā)光二極管芯片的分析及制備研究[D]. 汪沛.華中科技大學(xué) 2011



本文編號:3536258

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