碳納米管/銅納米線陣列熱界面材料研究
發(fā)布時間:2021-12-11 20:54
隨著電子設備中功率密度的快速增加,熱管理成為了維持可靠性和性能的關鍵問題。散熱功率不足會使得電子器件溫度升高并縮短器件壽命。芯片和散熱器接觸表面之間由于粗糙產(chǎn)生的空氣間隙阻礙了從芯片到散熱器的熱傳遞,這是熱傳遞過程中熱阻最大的部分。熱界面材料(TIM)用于替換接觸表面之間的空氣隙以增強熱傳導。垂直排列的碳納米管(CNT)陣列和銅納米線是很有前景新型熱界面材料中,因為它們具有高機械順應性和高內(nèi)在熱導率。一些先前的工作表明,與目標表面直接干接觸的碳納米管陣列具有很低的接觸熱導率,這是散熱路徑中主要的熱阻。本研究對碳納米管陣列做了垂向的壓力實驗,并使用電子顯微鏡(SEM)和原子力顯微鏡(AFM)對其側(cè)面和頂部進行表征,得到了陣列加載時的變形規(guī)律。使用相敏瞬態(tài)熱反射(PSTTR)技術,本實驗測量碳納米管陣列和銅(Cu)鍍層表面在不同壓力下的接觸熱導率,證明了接觸壓力是優(yōu)化碳納米管陣列熱界面材料熱性能的關鍵因素之一。實驗結(jié)果表明,Cu-CNT陣列接觸熱導率對表面變形具有很強的依賴性,并且隨著接觸壓力從0.05增加到0.15MPa而具有一個數(shù)量級的增加。此外,壓力在達到0.15MPa后對接觸熱阻的...
【文章來源】:中國科學技術大學安徽省 211工程院校 985工程院校
【文章頁數(shù)】:68 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖1.2基于納米線/納米管陣列的熱界面材料??
圖2.1化學氣相沉積系統(tǒng)的實物裝置??化學氣相沉積系統(tǒng)主要由高溫管式爐和四路氣體(氬氣,濕潤氬氣,乙烯,??氫氣)質(zhì)量流量控制器構(gòu)成,如圖2.1所示。將準備好的基底放入加熱爐的石英??管中,打開氬氣通道(1000?seem),在氬氣沖洗干凈管道內(nèi)的空氣后(1?2分鐘),??開始加熱反應爐。在反應爐溫度達到600°C打開氫氣(80?seem)及水(10?seem)和復??10??
時間控制為10分鐘和15分鐘,得到的碳納米管陣列的高度分別為200微米和??500微米。之后關掉其它三路氣源,只保留氬氣作為保護氣讓反應爐慢慢降至室??溫,圖2.2是碳納米管陣列生長流程圖。??^?At?(?200sccm?)?^??Q>?H2(80sccm)?H20(100pfxn)??3??->??2?7?C2H4(80sccm)????<?^??〇:?RoomT?l/Heating?Growth?Cooling\?^??0?15??Time?(min)??圖2.2碳納米管陣列生長流程圖??2.1.3碳納米管陣列表征??使用電子顯微鏡(SEM)觀察制得的垂向碳納米管陣列如圖2.3所示,該陣??列高度為200微米,單根碳管直徑平均為10-20納米。由陣列上表面的SEM圖??可以看到,碳納米管的頂部相互纏繞形成了致密的頂棚。該頂層的形成原因是單??根碳納米管的頂部由于范德華力而相互靠近進而相互纏繞,這種纏繞使得上表面??的形貌十分復雜和無序,粗糙度較大。??11??
【參考文獻】:
期刊論文
[1]不同制造工藝銅箔電爆驅(qū)動飛片能力[J]. 郭菲,付秋菠,王窈,王猛,黃輝,沈瑞琪. 含能材料. 2015(08)
[2]單根一維TiO2納米線的電子輸運性能[J]. 孫嵐,左娟,賴躍坤,聶茶庚,林昌健. 物理化學學報. 2007(10)
[3]3ω方法及其在納米材料器件表征中的應用[J]. 豐平,王太宏. 物理學報. 2003(09)
碩士論文
[1]基于3ω法體塊和薄膜材料熱物性的研究[D]. 鄧玉杰.南京大學 2016
[2]基于模板法電沉積制備鈷納米線及其相穩(wěn)定性[D]. 李成.上海交通大學 2013
[3]基于適體的癌細胞檢測及碳納米管復合材料生物相容性研究[D]. 潘春鋒.湖南大學 2009
本文編號:3535384
【文章來源】:中國科學技術大學安徽省 211工程院校 985工程院校
【文章頁數(shù)】:68 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖1.2基于納米線/納米管陣列的熱界面材料??
圖2.1化學氣相沉積系統(tǒng)的實物裝置??化學氣相沉積系統(tǒng)主要由高溫管式爐和四路氣體(氬氣,濕潤氬氣,乙烯,??氫氣)質(zhì)量流量控制器構(gòu)成,如圖2.1所示。將準備好的基底放入加熱爐的石英??管中,打開氬氣通道(1000?seem),在氬氣沖洗干凈管道內(nèi)的空氣后(1?2分鐘),??開始加熱反應爐。在反應爐溫度達到600°C打開氫氣(80?seem)及水(10?seem)和復??10??
時間控制為10分鐘和15分鐘,得到的碳納米管陣列的高度分別為200微米和??500微米。之后關掉其它三路氣源,只保留氬氣作為保護氣讓反應爐慢慢降至室??溫,圖2.2是碳納米管陣列生長流程圖。??^?At?(?200sccm?)?^??Q>?H2(80sccm)?H20(100pfxn)??3??->??2?7?C2H4(80sccm)????<?^??〇:?RoomT?l/Heating?Growth?Cooling\?^??0?15??Time?(min)??圖2.2碳納米管陣列生長流程圖??2.1.3碳納米管陣列表征??使用電子顯微鏡(SEM)觀察制得的垂向碳納米管陣列如圖2.3所示,該陣??列高度為200微米,單根碳管直徑平均為10-20納米。由陣列上表面的SEM圖??可以看到,碳納米管的頂部相互纏繞形成了致密的頂棚。該頂層的形成原因是單??根碳納米管的頂部由于范德華力而相互靠近進而相互纏繞,這種纏繞使得上表面??的形貌十分復雜和無序,粗糙度較大。??11??
【參考文獻】:
期刊論文
[1]不同制造工藝銅箔電爆驅(qū)動飛片能力[J]. 郭菲,付秋菠,王窈,王猛,黃輝,沈瑞琪. 含能材料. 2015(08)
[2]單根一維TiO2納米線的電子輸運性能[J]. 孫嵐,左娟,賴躍坤,聶茶庚,林昌健. 物理化學學報. 2007(10)
[3]3ω方法及其在納米材料器件表征中的應用[J]. 豐平,王太宏. 物理學報. 2003(09)
碩士論文
[1]基于3ω法體塊和薄膜材料熱物性的研究[D]. 鄧玉杰.南京大學 2016
[2]基于模板法電沉積制備鈷納米線及其相穩(wěn)定性[D]. 李成.上海交通大學 2013
[3]基于適體的癌細胞檢測及碳納米管復合材料生物相容性研究[D]. 潘春鋒.湖南大學 2009
本文編號:3535384
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