批間控制廣泛應用于半導體制造業(yè)。在現(xiàn)代晶圓生產(chǎn)工廠中,一臺設備同時生產(chǎn)加工不同類型產(chǎn)品的混合生產(chǎn)模式已經(jīng)是一種常態(tài)。單一線程批間控制方法由于數(shù)據(jù)反饋不及時,量少產(chǎn)品信息缺乏,會導致產(chǎn)品不良率的顯著增加,非線程批間控制策略為解決該問題提供了一種有效的方法。本文在非線程批間控制的框架下,對混合制程的狀態(tài)估計及其控制器設計方法展開研究,其主要研究內(nèi)容如下:（1）針對非線程批間控制中,模型的狀態(tài)觀測矩陣存在缺秩的問題,提出一種基于ANOVA模型和貝葉斯估計理論的狀態(tài)估計法。該方法結(jié)合晶圓生產(chǎn)過程中常見的IMA（1,1）擾動,利用輸出殘差項,構(gòu)建狀態(tài)觀測矩陣,采用貝葉斯估計法更新機臺與產(chǎn)品的相對狀態(tài)向量,進而調(diào)整制程的輸入,使系統(tǒng)輸出接近最優(yōu)。該方法避免了狀態(tài)矩陣的逆運算,提高了算法的運算效率。此外,對該算法的計算復雜度進行了分析。最后通過數(shù)值仿真實驗和逆向工程仿真,驗證了貝葉斯狀態(tài)估計法的有效性。（2）針對批間控制和晶圓自身生產(chǎn)特性造成的測量時延問題,提出了一種基于EM_EWMA的測量時延估計方法。根據(jù)期望最大化（EM）算法,構(gòu)造關于測量時延的似然函數(shù),設置系統(tǒng)收斂條件,通... 

【文章來源】：江蘇大學江蘇省

【文章頁數(shù)】：129 頁

【學位級別】：博士

【部分圖文】：

混合產(chǎn)品生產(chǎn)測量時延示意圖

圖 3.5 批間控制的時延形式Fig. 3.5 The form of metrology delay in RtR control次測得晶圓品質(zhì)數(shù)據(jù)為 ( )ty t - τ；但若11t tτ τ-+ < ，得到及時測量，則取 ( ) ( )11t ty t τ y t τ-- = - - 作為第 t量時延做如下假設： $ D N*，使得 " t N*都有tτ ￡ D成立. 則稱 D 為為正整數(shù)集合。在第 t 批次的測量時延為 {1 ,2, , ,}tτ d D，結(jié)合量時延的擾動估計式為： ( ) ( )( ( ))t ta t = a t - τ - λ T - y t - τ批次的測量時延 τ=d 的概率為 ( )( )p d = P τ = d，


本文編號：3446801