為實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)光纖光柵的精確制作,圍繞整體曝光法分析了光束平行度和截面光強(qiáng)分布對(duì)光柵刻制的影響,設(shè)計(jì)了一套光束擴(kuò)束系統(tǒng),使用Zemax軟件對(duì)擴(kuò)束后的光束平行度和截面光強(qiáng)進(jìn)行了仿真分析和優(yōu)化,并進(jìn)行了光束平行度對(duì)光柵刻制的影響實(shí)驗(yàn),驗(yàn)證了理論分析結(jié)果。 

【文章來(lái)源】：海軍工程大學(xué)學(xué)報(bào). 2020,32(05)北大核心

【文章頁(yè)數(shù)】：6 頁(yè)

【部分圖文】：

非平行光刻制光纖光柵示意圖

相位掩模板后光強(qiáng)分布可由公式I(x,z)=|E(x,z)|2計(jì)算得到。由于零級(jí)衍射光能量較小,光柵刻制主要利用±1級(jí)衍射光干涉條紋對(duì)光纖進(jìn)行曝光。僅考慮±1級(jí)衍射光時(shí),計(jì)算得到的非平行光入射時(shí)相位掩模板后光強(qiáng)分布如圖2所示。通過(guò)對(duì)相位掩模板后光強(qiáng)分布分析可知,干涉條紋方向與入射光方向保持一致。在掩模板后表面±1級(jí)干涉條紋周期為ΛPM/2,設(shè)距離掩模板后表面h處干涉條紋周期為Λ,根據(jù)相似三角形原理可得

設(shè)相位掩模板周期為1 063.54 nm,纖芯有效折射率為1.456,光柵長(zhǎng)度為40 mm,可計(jì)算出非平行光下布拉格波長(zhǎng)漂移量隨光束半發(fā)散角變化情況,具體如圖3所示�？梢钥闯�,光柵布拉格波長(zhǎng)漂移量隨光束半發(fā)散角增加而線性增加,光纖距相位掩模板距離越遠(yuǎn),漂移量越大。光束非平行入射除了對(duì)光柵布拉格波長(zhǎng)產(chǎn)生影響外,還會(huì)造成光柵條紋的傾斜,這將導(dǎo)致光柵纖芯前向模和后向模間的耦合作用降低,增加纖芯模與包層模和輻射模之間的耦合,對(duì)光柵光譜譜形和反射率造成不利影響。

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]分布反饋式光纖激光水聽(tīng)器拖曳線列陣實(shí)驗(yàn)研究[J]. 唐波,黃俊斌,顧宏?duì)N,毛欣.  光子學(xué)報(bào). 2017(04)
[2]分布反饋光纖激光器模式特性分析[J]. 徐團(tuán)偉,李芳,劉育梁,劉麗輝.  中國(guó)激光. 2007(10)
[3]低摻雜鉺纖上分布反饋布拉格光纖激光器的制作[J]. 劉海濤,陳建平,陳向飛,姜典杰,黃俊斌.  中國(guó)激光. 2006(07)
[4]相位掩膜板移動(dòng)法制作DFB光纖激光器[J]. 朱清,陳小寶,陳建平,彭剛定.  光纖與電纜及其應(yīng)用技術(shù). 2006(01)
[5]紫外寫(xiě)入法制造光纖光柵對(duì)光源時(shí)空相干性的要求[J]. 陶振寧,吳德明.  光電子·激光. 2000(03)



本文編號(hào)：3363875