光刻技術(shù)是目前平面半導(dǎo)體器件加工制造中的重要技術(shù)之一。相比于傳統(tǒng)掩膜光刻,激光直寫技術(shù)擁有無需掩膜,加工靈活,對基底表面平整度要求較低的優(yōu)勢。目前,激光直寫技術(shù)主要應(yīng)用于集成電路制造,材料表面處理與刻蝕,衍射光學(xué)元件加工,微納原型器件制作等領(lǐng)域。除了提高激光直寫空間分辨率與效率、豐富其功能并拓展其應(yīng)用領(lǐng)域外,小型化也是激光直寫技術(shù)發(fā)展的重要方向之一�，F(xiàn)有的商業(yè)化大尺度激光直寫儀器雖然較為成熟,但價格昂貴,軟硬件相對固化,難以根據(jù)用戶需求進(jìn)行快速的升級。與之對應(yīng)的小型桌面式激光直寫系統(tǒng),占地面積小,價格相對低廉,特別適合于微米尺度的電子與光電子單元原型器件的制作,材料的表面處理,以及微流控芯片加工等中小尺度器件的實驗室制備�；诖四康�,本文研究制作了一套基于籠式系統(tǒng)的小型紫外激光直寫系統(tǒng),系統(tǒng)具有易于組裝調(diào)試、靈活多用等優(yōu)勢。論文主要包括:首先,論文從光刻技術(shù)的研究背景出發(fā),進(jìn)而簡要介紹了激光直寫技術(shù)的基本原理、優(yōu)勢與發(fā)展歷程,在此基礎(chǔ)上,提出了本文的研究思路與研究目的;其次,討論了激光直寫技術(shù)實現(xiàn)的主要基本原理;然后,介紹了我們利用籠式系統(tǒng)開發(fā)的小型激光直寫系統(tǒng),包括系統(tǒng)硬件與軟件設(shè)計... 

【文章來源】：電子科技大學(xué)四川省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁數(shù)】：66 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

各類光刻方式示意圖及阿斯麥的TWINSCANNXE:3400B圖（

力和工藝寬容度，出現(xiàn)了激光直寫機。術(shù)的發(fā)展歷程于上世紀(jì) 80 年代提出，特點是單點曝光。目，光學(xué)微透鏡加工，微機械制造，光學(xué)檢測，已經(jīng)開發(fā)出各種各樣的激光直寫專用設(shè)備。后各種光波段的激光器相繼誕生。1983 年，Knop 在二維直角坐標(biāo)下利用激光束在光刻膠寬度達(dá)到了 20 μm[31]，這是第一篇有關(guān)激光自動化和電工研究所 V. P. Koronkevich 等人刻膠的半導(dǎo)體或金屬上制作掩膜，然后使用989 年德國海德堡大學(xué)的 C. Rensch 等人提出型光刻機，最小線寬可達(dá) 1 μm，掃描精度達(dá)光直寫發(fā)展步入高峰期。從研制高精密的設(shè)激光直寫技術(shù)的應(yīng)用拓展到更多的領(lǐng)域[35-38

激光在 Y 方向進(jìn)行掃描，用位移平段距離后，光線掃過的區(qū)域是具有掃描。激光直寫機利用光偏轉(zhuǎn)器實移臺走完一段距離后，光線掃過的掃描。 和 M. Takai 等人，利用激光熱分解厚度的銀線，并發(fā)現(xiàn)銀線寬度隨激光學(xué)研究所的 P. Langlois 等人對比了l Elements，DOE）的制作方法：電微細(xì)加工。其中激光直寫技術(shù)制作96%[43]。同年德國愛爾蘭根-紐倫堡大于制作了微光學(xué)元件，合成了全息150 mm，定位精度為亞微米級[44]。ter，先在基片上生長金屬薄膜，利用氧化處理，之后對金屬進(jìn)行刻蝕形

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]MoS2二維晶體的可控制備的研究[J]. 葉黎,黃嘉曜,鄭曉武,周偉鵬,徐海濤.  化學(xué)工程與裝備. 2018(02)
[2]激光超衍射加工機理與研究進(jìn)展[J]. 張心正,夏峰,許京軍.  物理學(xué)報. 2017(14)
[3]基于飛秒激光直寫的三維高定向碳納米管組裝[J]. 龍婧,熊偉,劉瑩,蔣立佳,周云申,李大衛(wèi),姜瀾,陸永楓.  中國激光. 2017(01)
[4]生物激光打印技術(shù)及其應(yīng)用[J]. 陳燕平,楊如松,柳瓏,魏立安,馮瑩,向洋.  激光與光電子學(xué)進(jìn)展. 2016(04)
[5]摩爾定律的過去、現(xiàn)在和未來[J]. 戴錦文,繆小勇.  電子與封裝. 2015(10)
[6]基于飛秒激光直寫光纖光柵的摻鐿光纖激光器[J]. 朱學(xué)華,潘玉寨.  強激光與粒子束. 2011(04)
[7]印制電路板的發(fā)展及前景[J]. 傅莉.  電腦與電信. 2010(05)
[8]納秒激光刻蝕玻璃基質(zhì)鉻薄膜直寫微光柵結(jié)構(gòu)[J]. 張恒,周云,周雷,陳林森.  光子學(xué)報. 2009(02)
[9]激光刻蝕法制備Pd納米顆粒及其光譜特性初探[J]. 丁麗,郭浩,張建奇,張燕珂,賀廷超,莫育俊.  光譜學(xué)與光譜分析. 2008(09)
[10]采用DMD并行輸入的激光干涉直寫方法[J]. 吳智華,周小紅,魏國軍,邵潔,陳林森.  激光與紅外. 2008(05)

博士論文
[1]曲面激光直寫系統(tǒng)與關(guān)鍵技術(shù)研究[D]. 羅劍波.浙江大學(xué) 2012
[2]影響直角坐標(biāo)激光直寫曝光質(zhì)量的若干關(guān)鍵技術(shù)研究[D]. 張山.哈爾濱工業(yè)大學(xué) 2010
[3]曲面激光直接寫入技術(shù)[D]. 謝永軍.中國科學(xué)院研究生院（長春光學(xué)精密機械與物理研究所） 2004
[4]激光直寫光刻技術(shù)研究[D]. 李鳳有.中國科學(xué)院研究生院（長春光學(xué)精密機械與物理研究所） 2002

碩士論文
[1]基于微反射鏡的激光直寫系統(tǒng)中關(guān)鍵技術(shù)的研究[D]. 王國慶.上海交通大學(xué) 2012
[2]基于DMD高分辨率激光直寫系統(tǒng)設(shè)計與實現(xiàn)[D]. 陸亞聰.蘇州大學(xué) 2007



本文編號：3302670