全集成高密度單光子雪崩二極管陣列探測(cè)器研究
發(fā)布時(shí)間:2021-06-28 19:38
蓋革模式下的單光子雪崩二極管(SPAD)陣列兼具單光子信號(hào)探測(cè)和皮秒量級(jí)的時(shí)間相關(guān)性,現(xiàn)在已經(jīng)開始應(yīng)用于一些重要的科學(xué)領(lǐng)域,例如物理學(xué),化學(xué),生物學(xué),航天學(xué)等。在與現(xiàn)代納米CMOS工藝相結(jié)合的設(shè)計(jì)和制造中,能夠在一整塊芯片上直接集成光子探測(cè)器、單元電路和外圍讀出電路等。在應(yīng)用于高速弱光環(huán)境下的探測(cè)時(shí),需要著力提高器件性能、減小噪聲、提高芯片集成度。本文在SMIC 0.18μm工藝下設(shè)計(jì)了一個(gè)128×128的全集成高密度單光子雪崩二極管陣列探測(cè)器。第一,設(shè)計(jì)了一種采用虛擬保護(hù)環(huán)結(jié)構(gòu)和淺溝槽隔離的SPAD器件,使有源區(qū)直徑降到5μm,整個(gè)器件直徑降到11μm以下,觀察其電場(chǎng)分布和摻雜濃度分布,雪崩電壓,內(nèi)部場(chǎng)強(qiáng)分布,證明了其適合小尺寸的設(shè)計(jì)。并且這種結(jié)構(gòu)能夠避免重?fù)诫s引起的帶帶隧穿和暗計(jì)數(shù)率,材料缺陷引起的后脈沖,能夠減少邊緣效應(yīng)同時(shí)將耗盡層的位置拉低,增加雪崩區(qū)深度,提高光子的探測(cè)效率。第二,設(shè)計(jì)了一個(gè)高度集成的像素單元電路,包括能夠在3.5 ns內(nèi)完成淬滅復(fù)位電路和一種超小規(guī)模的模擬計(jì)數(shù)電路,這個(gè)方案能夠很好的折中速率和占用面積的影響,在電容取到150 fF時(shí)采用對(duì)數(shù)計(jì)數(shù)可達(dá)到105數(shù)...
【文章來(lái)源】:南京郵電大學(xué)江蘇省
【文章頁(yè)數(shù)】:77 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
CMOS-APS圖像傳感器陣列圖
(a) (b)(c) (d)圖3.3 多種SPAD保護(hù)環(huán)結(jié)構(gòu)(a) 0.35 μm P-tub保護(hù)環(huán)結(jié)構(gòu);(b) 0.18 μm P阱保護(hù)環(huán)結(jié)構(gòu);(c) 第三種:0.18 μm STI/p阱保護(hù)環(huán)結(jié)構(gòu);(d)第四種:0.8 μm 虛擬保護(hù)環(huán)結(jié)構(gòu)第二種是隔離的 p 阱區(qū)用作一個(gè)保護(hù)環(huán),它們是在緊挨著的 n 阱區(qū)的地方橫向擴(kuò)散形成,在這種0.18 μm CMOS工藝下,在n阱中放置擴(kuò)散的 p 阱是不符合工藝規(guī)則的[33]。這里是利用深n阱把襯底和 SPAD 有源區(qū)隔離,而且它也是和MOS管一致,襯底接地后,高壓只能施加到 SPAD 陽(yáng)極,所以會(huì)在陰極上產(chǎn)生大量的寄生電容。由于擴(kuò)散保護(hù)環(huán)的存在,也會(huì)限制 SPADs 之間的距離和較小填充因子(Fill Factor,F(xiàn)F)。第三種是在深亞微米(DSM
(b)結(jié)構(gòu)和(a)結(jié)構(gòu)有些相似,但是這里將p阱的寬度縮小到STI里面而不是直接拉伸到STI上,這樣在STI和P阱之間形成一個(gè)虛擬保護(hù)環(huán),阻止表面場(chǎng)強(qiáng)過(guò)高,而且這種結(jié)構(gòu)面積也是最小的,直徑能夠達(dá)到12μm,而(a)結(jié)構(gòu)的直徑需要達(dá)到20μm以上。圖3.4給出的SPAD版圖設(shè)計(jì)示意圖,采用的都是圓形外觀的中心對(duì)稱設(shè)計(jì)。共同點(diǎn)是這兩種結(jié)構(gòu)的都使用了STI作為防止邊緣擊穿和表面場(chǎng)強(qiáng)過(guò)高的保護(hù)環(huán),并且都是替換掉普通的n阱,利用高能離子注入深n阱。深n阱是深亞微米工藝所特有的,它可以將器件與襯底隔離開,器件內(nèi)部的濃度分布隨著深度而增加,從而解決噪聲耦合問(wèn)題和閂鎖效應(yīng)問(wèn)題。用于SPAD結(jié)構(gòu)中,由于深n阱在靠近表面的位置其摻雜濃度較低,可以將耗盡區(qū)拉低到深n阱和p阱交界處。(a)(b)圖 3.4:SPAD 的兩種優(yōu)化結(jié)構(gòu)和 SMIC 0.18 μm 下的版圖形狀
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]InGaAs單光子探測(cè)器傳感檢測(cè)與淬滅方式[J]. 鄭麗霞,吳金,張秀川,涂君虹,孫偉鋒,高新江. 物理學(xué)報(bào). 2014(10)
[2]基于CMOS工藝的單光子雪崩二極管的蓋革模式仿真[J]. 王成,孟麗婭,王慶祥,閆旭亮. 半導(dǎo)體技術(shù). 2014(04)
[3]一種硅基雪崩光電探測(cè)器的研究[J]. 徐佳,楊虹. 數(shù)字技術(shù)與應(yīng)用. 2014(01)
[4]1kbit鐵電存儲(chǔ)器電路設(shè)計(jì)技術(shù)研究[J]. 張德凱,徐建龍,任天令. 半導(dǎo)體技術(shù). 2012(11)
[5]格雷碼在焦平面CMOS讀出電路中的應(yīng)用[J]. 祝曉笑,劉昌舉,蔣永富. 半導(dǎo)體光電. 2009(04)
[6]8通道10b的R-C混合式SAR ADC的設(shè)計(jì)[J]. 裴曉敏. 現(xiàn)代電子技術(shù). 2008(09)
[7]G-APD陣列——一種具有單光子靈敏度的三維成像探測(cè)器[J]. 龔?fù)? 激光技術(shù). 2007(05)
[8]通訊波段單光子探測(cè)器的研制[J]. 劉云,韓正甫,吳青林,戴逸民,郭光燦. 量子光學(xué)學(xué)報(bào). 2007(01)
[9]硅雪崩光電二極管單光子探測(cè)器[J]. 梁創(chuàng),aphy.iphy.ac.cn,廖靜,梁冰,吳令安. 光子學(xué)報(bào). 2000(12)
博士論文
[1]基于InGaAs/InP單光子雪崩二極管的紅外單光子探測(cè)研究[D]. 周鵬.哈爾濱工業(yè)大學(xué) 2010
碩士論文
[1]低功耗模數(shù)轉(zhuǎn)換器的研究與設(shè)計(jì)[D]. 李現(xiàn)坤.南京郵電大學(xué) 2014
[2]面向三維成像的單光子雪崩二極管及像素電路的研究[D]. 周曉亞.湘潭大學(xué) 2013
[3]一種高速度高密度的單光子雪崩二極管探測(cè)器的研究與設(shè)計(jì)[D]. 趙菲菲.南京郵電大學(xué) 2013
[4]1.8V低功耗8KS/S12位R-C逐次逼近ADC的設(shè)計(jì)[D]. 孫婧瑤.哈爾濱工業(yè)大學(xué) 2011
[5]一種高優(yōu)值CMOS圖像傳感器讀出電路的設(shè)計(jì)[D]. 劉曉磊.華中科技大學(xué) 2011
[6]一種高精度逐次逼近模數(shù)轉(zhuǎn)換器的研究與設(shè)計(jì)[D]. 喬高帥.上海交通大學(xué) 2010
[7]320×256紅外焦平面讀出電路研究[D]. 陳彥宇.電子科技大學(xué) 2008
本文編號(hào):3254927
【文章來(lái)源】:南京郵電大學(xué)江蘇省
【文章頁(yè)數(shù)】:77 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
CMOS-APS圖像傳感器陣列圖
(a) (b)(c) (d)圖3.3 多種SPAD保護(hù)環(huán)結(jié)構(gòu)(a) 0.35 μm P-tub保護(hù)環(huán)結(jié)構(gòu);(b) 0.18 μm P阱保護(hù)環(huán)結(jié)構(gòu);(c) 第三種:0.18 μm STI/p阱保護(hù)環(huán)結(jié)構(gòu);(d)第四種:0.8 μm 虛擬保護(hù)環(huán)結(jié)構(gòu)第二種是隔離的 p 阱區(qū)用作一個(gè)保護(hù)環(huán),它們是在緊挨著的 n 阱區(qū)的地方橫向擴(kuò)散形成,在這種0.18 μm CMOS工藝下,在n阱中放置擴(kuò)散的 p 阱是不符合工藝規(guī)則的[33]。這里是利用深n阱把襯底和 SPAD 有源區(qū)隔離,而且它也是和MOS管一致,襯底接地后,高壓只能施加到 SPAD 陽(yáng)極,所以會(huì)在陰極上產(chǎn)生大量的寄生電容。由于擴(kuò)散保護(hù)環(huán)的存在,也會(huì)限制 SPADs 之間的距離和較小填充因子(Fill Factor,F(xiàn)F)。第三種是在深亞微米(DSM
(b)結(jié)構(gòu)和(a)結(jié)構(gòu)有些相似,但是這里將p阱的寬度縮小到STI里面而不是直接拉伸到STI上,這樣在STI和P阱之間形成一個(gè)虛擬保護(hù)環(huán),阻止表面場(chǎng)強(qiáng)過(guò)高,而且這種結(jié)構(gòu)面積也是最小的,直徑能夠達(dá)到12μm,而(a)結(jié)構(gòu)的直徑需要達(dá)到20μm以上。圖3.4給出的SPAD版圖設(shè)計(jì)示意圖,采用的都是圓形外觀的中心對(duì)稱設(shè)計(jì)。共同點(diǎn)是這兩種結(jié)構(gòu)的都使用了STI作為防止邊緣擊穿和表面場(chǎng)強(qiáng)過(guò)高的保護(hù)環(huán),并且都是替換掉普通的n阱,利用高能離子注入深n阱。深n阱是深亞微米工藝所特有的,它可以將器件與襯底隔離開,器件內(nèi)部的濃度分布隨著深度而增加,從而解決噪聲耦合問(wèn)題和閂鎖效應(yīng)問(wèn)題。用于SPAD結(jié)構(gòu)中,由于深n阱在靠近表面的位置其摻雜濃度較低,可以將耗盡區(qū)拉低到深n阱和p阱交界處。(a)(b)圖 3.4:SPAD 的兩種優(yōu)化結(jié)構(gòu)和 SMIC 0.18 μm 下的版圖形狀
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]InGaAs單光子探測(cè)器傳感檢測(cè)與淬滅方式[J]. 鄭麗霞,吳金,張秀川,涂君虹,孫偉鋒,高新江. 物理學(xué)報(bào). 2014(10)
[2]基于CMOS工藝的單光子雪崩二極管的蓋革模式仿真[J]. 王成,孟麗婭,王慶祥,閆旭亮. 半導(dǎo)體技術(shù). 2014(04)
[3]一種硅基雪崩光電探測(cè)器的研究[J]. 徐佳,楊虹. 數(shù)字技術(shù)與應(yīng)用. 2014(01)
[4]1kbit鐵電存儲(chǔ)器電路設(shè)計(jì)技術(shù)研究[J]. 張德凱,徐建龍,任天令. 半導(dǎo)體技術(shù). 2012(11)
[5]格雷碼在焦平面CMOS讀出電路中的應(yīng)用[J]. 祝曉笑,劉昌舉,蔣永富. 半導(dǎo)體光電. 2009(04)
[6]8通道10b的R-C混合式SAR ADC的設(shè)計(jì)[J]. 裴曉敏. 現(xiàn)代電子技術(shù). 2008(09)
[7]G-APD陣列——一種具有單光子靈敏度的三維成像探測(cè)器[J]. 龔?fù)? 激光技術(shù). 2007(05)
[8]通訊波段單光子探測(cè)器的研制[J]. 劉云,韓正甫,吳青林,戴逸民,郭光燦. 量子光學(xué)學(xué)報(bào). 2007(01)
[9]硅雪崩光電二極管單光子探測(cè)器[J]. 梁創(chuàng),aphy.iphy.ac.cn,廖靜,梁冰,吳令安. 光子學(xué)報(bào). 2000(12)
博士論文
[1]基于InGaAs/InP單光子雪崩二極管的紅外單光子探測(cè)研究[D]. 周鵬.哈爾濱工業(yè)大學(xué) 2010
碩士論文
[1]低功耗模數(shù)轉(zhuǎn)換器的研究與設(shè)計(jì)[D]. 李現(xiàn)坤.南京郵電大學(xué) 2014
[2]面向三維成像的單光子雪崩二極管及像素電路的研究[D]. 周曉亞.湘潭大學(xué) 2013
[3]一種高速度高密度的單光子雪崩二極管探測(cè)器的研究與設(shè)計(jì)[D]. 趙菲菲.南京郵電大學(xué) 2013
[4]1.8V低功耗8KS/S12位R-C逐次逼近ADC的設(shè)計(jì)[D]. 孫婧瑤.哈爾濱工業(yè)大學(xué) 2011
[5]一種高優(yōu)值CMOS圖像傳感器讀出電路的設(shè)計(jì)[D]. 劉曉磊.華中科技大學(xué) 2011
[6]一種高精度逐次逼近模數(shù)轉(zhuǎn)換器的研究與設(shè)計(jì)[D]. 喬高帥.上海交通大學(xué) 2010
[7]320×256紅外焦平面讀出電路研究[D]. 陳彥宇.電子科技大學(xué) 2008
本文編號(hào):3254927
本文鏈接:http://sikaile.net/kejilunwen/dianzigongchenglunwen/3254927.html
最近更新
教材專著