應(yīng)用于納米激光的GaAs納米線制備工藝研究
發(fā)布時(shí)間:2021-05-09 02:14
納米激光,是指由納米線等納米光電材料作為諧振腔,在光激發(fā)或電激發(fā)下發(fā)射出的激光。發(fā)射納米激光的激光器的尺寸往往只有數(shù)百微米甚至幾十微米,直徑更是達(dá)到納米量級,是未來薄膜顯示、集成光學(xué)、光計(jì)算、信息存儲和納米分析等領(lǐng)域中的重要組成部分,在工業(yè)、軍事、醫(yī)療等方面具有重要應(yīng)用前景。砷化鎵(GaAs)納米線/納米線陣列作為一種一維直接帶隙半導(dǎo)體光電材料,既具有一維光電材料高表面積-體積比、量子尺寸效應(yīng)、結(jié)晶度好等特點(diǎn),又保留了GaAs體材料高的載流子遷移率、高電子飽和速率以及高的發(fā)光效率等優(yōu)勢,是制備納米激光器的首選光電材料。由于納米激光在發(fā)光以及集成等方面的需求,因此對GaAs納米線/納米線陣列的垂直度、密度、結(jié)晶質(zhì)量以及光學(xué)性能提出了要求。本文主要開展了GaAs納米線制備工藝研究,通過對制備工藝中襯底處理工藝以及生長工藝的設(shè)計(jì)以及實(shí)驗(yàn)研究,得到了最佳工藝流程。按照最佳工藝流程制備出GaAs納米線/納米線陣列,并對其形貌、物性進(jìn)行表征。主要研究內(nèi)容包括如下:(1)采用分子束外延(MBE)自催化工藝制備GaAs納米線,為滿足納米激光的應(yīng)用要求,提高納米線垂直度、密度、結(jié)晶質(zhì)量以及光學(xué)性能,我們...
【文章來源】:長春理工大學(xué)吉林省
【文章頁數(shù)】:67 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
ABSTRACT
第1章 緒論
1.1 引言
1.2 GaAs納米線生長工藝以及納米激光器發(fā)展現(xiàn)狀
1.2.1 GaAs基納米激光器發(fā)展現(xiàn)狀
1.2.2 GaAs納米線制備發(fā)展現(xiàn)狀
1.3 本論文的研究目的及意義
1.4 本論文開展的工作
第2章 高性能GaAs納米線制備工藝設(shè)計(jì)與表征測試
2.1 高性能GaAs納米線制備工藝設(shè)計(jì)
2.1.1 高性能GaAs納米線制備工藝中襯底處理工藝設(shè)計(jì)
2.1.2 高性能GaAs納米線制備工藝中生長工藝設(shè)計(jì)
2.2 GaAs納米線測試表征技術(shù)
2.2.1 掃描電子顯微鏡
2.2.2 X射線衍射(XRD)儀
2.2.3 拉曼(Raman)光譜儀
2.2.4 高分辨透射式電子顯微鏡(HRTEM)
2.2.5 光致發(fā)光(PL)光譜儀
2.3 本章小結(jié)
第3章 襯底前期處理對納米線垂直度、密度提高作用研究
3.1 襯底超聲處理對納米線垂直度、密度影響研究
3.2 HF刻蝕濃度對納米線垂直度、密度提高作用研究
3.3 自然氧化時(shí)間對納米線垂直度、密度提高作用研究
3.4 本章小結(jié)
第4章 生長工藝參數(shù)對GaAs納米線物性調(diào)控研究
4.1 Ga droplet形貌對納米線密度、垂直度調(diào)控作用研究
4.2 V/III束流比對納米線垂直度調(diào)控作用研究
4.3 生長溫度對納米線的形貌、物性調(diào)控作用研究
4.4 本章小結(jié)
第5章 GaAs納米線/納米線結(jié)構(gòu)以及光學(xué)性質(zhì)研究
5.1 GaAs納米線/納米線陣列制備及形貌表征
5.2 GaAs納米線/納米線陣列結(jié)構(gòu)研究
5.3 GaSb納米線/納米線陣列光學(xué)性能研究
5.4 本章小結(jié)
第6章 論文總結(jié)與未來展望
參考文獻(xiàn)
附錄 攻讀碩士學(xué)位期間發(fā)表論文與研究成果清單
致謝
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]表面硫鈍化對GaAs材料光響應(yīng)特性的影響[J]. 夏寧,方鉉,容天宇,王登魁,房丹,唐吉龍,王新偉,王曉華,李永峰,姚斌,魏志鵬. 中國激光. 2018(06)
[2]納米等離子體激光器研究進(jìn)展[J]. 趙青,黃小平,林恩,焦蛟,梁高峰,陳濤. 光電工程. 2017(02)
[3]GaAs納米線及GaAs/InxGa1-xAs/GaAs納米線徑向異質(zhì)結(jié)構(gòu)的無催化選區(qū)生長的實(shí)驗(yàn)研究[J]. 崔建功,張霞,顏鑫,李軍帥,黃永清,任曉敏. 物理學(xué)報(bào). 2014(13)
本文編號:3176415
【文章來源】:長春理工大學(xué)吉林省
【文章頁數(shù)】:67 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
ABSTRACT
第1章 緒論
1.1 引言
1.2 GaAs納米線生長工藝以及納米激光器發(fā)展現(xiàn)狀
1.2.1 GaAs基納米激光器發(fā)展現(xiàn)狀
1.2.2 GaAs納米線制備發(fā)展現(xiàn)狀
1.3 本論文的研究目的及意義
1.4 本論文開展的工作
第2章 高性能GaAs納米線制備工藝設(shè)計(jì)與表征測試
2.1 高性能GaAs納米線制備工藝設(shè)計(jì)
2.1.1 高性能GaAs納米線制備工藝中襯底處理工藝設(shè)計(jì)
2.1.2 高性能GaAs納米線制備工藝中生長工藝設(shè)計(jì)
2.2 GaAs納米線測試表征技術(shù)
2.2.1 掃描電子顯微鏡
2.2.2 X射線衍射(XRD)儀
2.2.3 拉曼(Raman)光譜儀
2.2.4 高分辨透射式電子顯微鏡(HRTEM)
2.2.5 光致發(fā)光(PL)光譜儀
2.3 本章小結(jié)
第3章 襯底前期處理對納米線垂直度、密度提高作用研究
3.1 襯底超聲處理對納米線垂直度、密度影響研究
3.2 HF刻蝕濃度對納米線垂直度、密度提高作用研究
3.3 自然氧化時(shí)間對納米線垂直度、密度提高作用研究
3.4 本章小結(jié)
第4章 生長工藝參數(shù)對GaAs納米線物性調(diào)控研究
4.1 Ga droplet形貌對納米線密度、垂直度調(diào)控作用研究
4.2 V/III束流比對納米線垂直度調(diào)控作用研究
4.3 生長溫度對納米線的形貌、物性調(diào)控作用研究
4.4 本章小結(jié)
第5章 GaAs納米線/納米線結(jié)構(gòu)以及光學(xué)性質(zhì)研究
5.1 GaAs納米線/納米線陣列制備及形貌表征
5.2 GaAs納米線/納米線陣列結(jié)構(gòu)研究
5.3 GaSb納米線/納米線陣列光學(xué)性能研究
5.4 本章小結(jié)
第6章 論文總結(jié)與未來展望
參考文獻(xiàn)
附錄 攻讀碩士學(xué)位期間發(fā)表論文與研究成果清單
致謝
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]表面硫鈍化對GaAs材料光響應(yīng)特性的影響[J]. 夏寧,方鉉,容天宇,王登魁,房丹,唐吉龍,王新偉,王曉華,李永峰,姚斌,魏志鵬. 中國激光. 2018(06)
[2]納米等離子體激光器研究進(jìn)展[J]. 趙青,黃小平,林恩,焦蛟,梁高峰,陳濤. 光電工程. 2017(02)
[3]GaAs納米線及GaAs/InxGa1-xAs/GaAs納米線徑向異質(zhì)結(jié)構(gòu)的無催化選區(qū)生長的實(shí)驗(yàn)研究[J]. 崔建功,張霞,顏鑫,李軍帥,黃永清,任曉敏. 物理學(xué)報(bào). 2014(13)
本文編號:3176415
本文鏈接:http://sikaile.net/kejilunwen/dianzigongchenglunwen/3176415.html
最近更新
教材專著