基于65nm CMOS工藝集成電路標(biāo)準(zhǔn)單元單粒子效應(yīng)加固技術(shù)研究
發(fā)布時(shí)間:2021-04-06 00:37
我國(guó)航天航空事業(yè)正在飛速發(fā)展,航天器對(duì)于高性能且具有抗輻射能力的集成電路(integrated circuits,簡(jiǎn)稱ICs)的需求十分迫切。隨著半導(dǎo)體工藝的不斷進(jìn)步,器件尺寸不斷減小,節(jié)點(diǎn)電容和工作電壓不斷降低,時(shí)鐘頻率不斷上升,單粒子效應(yīng)(Single Event Effect,簡(jiǎn)稱SEE)已逐漸成為空間集成電路發(fā)生軟錯(cuò)誤的主要原因。因此,在納米工藝下對(duì)SEE的研究十分重要。本文針對(duì)65nm CMOS體硅工藝,研究了單管受到粒子轟擊時(shí)的SEE的物理機(jī)理,并對(duì)加固技術(shù)的優(yōu)缺點(diǎn)進(jìn)行了分析,然后結(jié)合電路設(shè)計(jì)和版圖設(shè)計(jì),提出了反相器鏈、鎖存器和SRAM單元加固結(jié)構(gòu)。本文主要取得了如下幾個(gè)方面的研究成果:(1)研究了N阱摻雜濃度發(fā)生變化時(shí)對(duì)單粒子瞬態(tài)(Single Event Transient,簡(jiǎn)稱SET)效應(yīng)的影響,發(fā)現(xiàn)在適當(dāng)范圍內(nèi)增加N阱的摻雜濃度,可以減弱PMOS管受到粒子轟擊后產(chǎn)生的雙極放大效應(yīng),從而增強(qiáng)PMOS管的抗輻射能力,這為工藝加固提供了一定的理論依據(jù)。對(duì)于針對(duì)單管進(jìn)行加固的隔離技術(shù),當(dāng)截止的PMOS受到粒子轟擊,使用隔離技術(shù)可以有效地抑制雙極放大效應(yīng),在PMOS漏極產(chǎn)生的...
【文章來(lái)源】:安徽大學(xué)安徽省 211工程院校
【文章頁(yè)數(shù)】:141 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
圖1.2太空中的輻射環(huán)境??Fig.?1.2?The?radiation?environment?in?space??
電路中的存儲(chǔ)狀態(tài)發(fā)生改變,邏輯電平出現(xiàn)翻轉(zhuǎn),但是器件或者電路本身??沒(méi)有發(fā)生毀壞,常見的軟錯(cuò)誤有SET,?SEU等。各種單粒子效應(yīng)的類型和錯(cuò)誤??機(jī)制如圖1.3所示。???單粒子燒毀??(Single?Event?Burnout,?SEB)???單粒子?xùn)糯???—(Single?Event?Gate?Rupture,?SEGR)??'?C硬錯(cuò)誤)一??單粒子位移損傷??(Single?Particle?Displacement?Damage*?SPDI))??^??單粒子位硬錯(cuò)誤??/?\?(Single?Hard?Error,?SHE)??粒\?「???^?-??單粒子功能中斷??效?(Single?Event?Functional?interrupt,?SEFI)??\應(yīng)??單粒子翻轉(zhuǎn)??\?J?(Single?Event?Upset,?SEU)????單粒子閂鎖??(Single?Event?Latchup,SEL)??-*單粒子多位翻轉(zhuǎn)????(Multiple?Bit?Upset,?MBU)????單粒子擾動(dòng)??(Single?Event?Disturb???SED)???單粒子快速反向??(Single?Event?Snapback
單粒子效應(yīng)于1970年首次被發(fā)現(xiàn),自此太空中、軍用乃至商用的電子線路??中的單粒子效應(yīng)日益受到人們的重視t15]。半導(dǎo)體材料受到高能粒子轟擊后,會(huì)??發(fā)生電離輻射,電離輻射將以兩種方式產(chǎn)生電荷,圖1.4顯示了電離輻射的詳細(xì)??過(guò)程tl6]。??第一是直接電離,由高能粒子直接電離產(chǎn)生電荷,這主要由重離子誘發(fā)產(chǎn)生。??重離子是指其核電荷數(shù)大于或等于2的離子。??在帶電粒子轟擊半導(dǎo)體材料并且穿過(guò)半導(dǎo)體材料的過(guò)程中,其能量逐漸損??失,并且沿著其運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)電離出電子-空穴對(duì)。高能粒子在半導(dǎo)體材料中運(yùn)動(dòng)??軌跡的長(zhǎng)短稱為入射深度。通過(guò)將粒子轟擊的目標(biāo)材料的密度進(jìn)行歸一化,用線??性能量傳輸(Linear?Energy?Transfer,簡(jiǎn)稱LET)表示帶電粒子在穿過(guò)半導(dǎo)體材??6??
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]The effect of P+ deep well doping on SET pulse propagation[J]. QIN JunRui*,CHEN ShuMing,LIU BiWei,LIU FanYu & CHEN JianJun School of Computer Science,National University of Defense Technology,Changsha 410073,China. Science China(Technological Sciences). 2012(03)
[2]基于RHBD技術(shù)的深亞微米抗輻射SRAM電路的研究[J]. 王一奇,趙發(fā)展,劉夢(mèng)新,呂蔭學(xué),趙博華,韓鄭生. 半導(dǎo)體技術(shù). 2012(01)
[3]空間輻射環(huán)境概述[J]. 李桃生,陳軍,王志強(qiáng). 輻射防護(hù)通訊. 2008(02)
[4]模擬電路的單粒子瞬時(shí)效應(yīng)[J]. 陳盤訓(xùn),周開明. 核技術(shù). 2006(03)
[5]單粒子效應(yīng)對(duì)衛(wèi)星空間運(yùn)行可靠性影響[J]. 王長(zhǎng)河. 半導(dǎo)體情報(bào). 1998(01)
博士論文
[1]SRAM存儲(chǔ)器抗單粒子翻轉(zhuǎn)加固設(shè)計(jì)技術(shù)研究[D]. 郭靖.哈爾濱工業(yè)大學(xué) 2015
[2]微納級(jí)SRAM器件單粒子效應(yīng)理論模擬研究[D]. 耿超.中國(guó)科學(xué)院研究生院(近代物理研究所) 2014
[3]集成電路單粒子效應(yīng)建模與加固方法研究[D]. 劉必慰.國(guó)防科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2009
碩士論文
[1]基于體硅CMOS工藝的SRAM單元SEU加固研究[D]. 陳子洋.安徽大學(xué) 2018
[2]65nm體硅CMOS工藝下SRAM單元抗輻照加固方法研究[D]. 肖松松.安徽大學(xué) 2018
[3]SRAM存儲(chǔ)單元抗單粒子翻轉(zhuǎn)研究[D]. 丁朋輝.安徽大學(xué) 2017
[4]基于65NM體硅CMOS工藝SRAM 6管單元抗輻射加固技術(shù)的研究[D]. 李國(guó)慶.安徽大學(xué) 2016
[5]納米集成電路單粒子瞬變中電荷收集機(jī)理及加固方法研究[D]. 林子壬.國(guó)防科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2013
[6]三模冗余系統(tǒng)中的同步研究[D]. 袁果.西南交通大學(xué) 2008
本文編號(hào):3120409
【文章來(lái)源】:安徽大學(xué)安徽省 211工程院校
【文章頁(yè)數(shù)】:141 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
圖1.2太空中的輻射環(huán)境??Fig.?1.2?The?radiation?environment?in?space??
電路中的存儲(chǔ)狀態(tài)發(fā)生改變,邏輯電平出現(xiàn)翻轉(zhuǎn),但是器件或者電路本身??沒(méi)有發(fā)生毀壞,常見的軟錯(cuò)誤有SET,?SEU等。各種單粒子效應(yīng)的類型和錯(cuò)誤??機(jī)制如圖1.3所示。???單粒子燒毀??(Single?Event?Burnout,?SEB)???單粒子?xùn)糯???—(Single?Event?Gate?Rupture,?SEGR)??'?C硬錯(cuò)誤)一??單粒子位移損傷??(Single?Particle?Displacement?Damage*?SPDI))??^??單粒子位硬錯(cuò)誤??/?\?(Single?Hard?Error,?SHE)??粒\?「???^?-??單粒子功能中斷??效?(Single?Event?Functional?interrupt,?SEFI)??\應(yīng)??單粒子翻轉(zhuǎn)??\?J?(Single?Event?Upset,?SEU)????單粒子閂鎖??(Single?Event?Latchup,SEL)??-*單粒子多位翻轉(zhuǎn)????(Multiple?Bit?Upset,?MBU)????單粒子擾動(dòng)??(Single?Event?Disturb???SED)???單粒子快速反向??(Single?Event?Snapback
單粒子效應(yīng)于1970年首次被發(fā)現(xiàn),自此太空中、軍用乃至商用的電子線路??中的單粒子效應(yīng)日益受到人們的重視t15]。半導(dǎo)體材料受到高能粒子轟擊后,會(huì)??發(fā)生電離輻射,電離輻射將以兩種方式產(chǎn)生電荷,圖1.4顯示了電離輻射的詳細(xì)??過(guò)程tl6]。??第一是直接電離,由高能粒子直接電離產(chǎn)生電荷,這主要由重離子誘發(fā)產(chǎn)生。??重離子是指其核電荷數(shù)大于或等于2的離子。??在帶電粒子轟擊半導(dǎo)體材料并且穿過(guò)半導(dǎo)體材料的過(guò)程中,其能量逐漸損??失,并且沿著其運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)電離出電子-空穴對(duì)。高能粒子在半導(dǎo)體材料中運(yùn)動(dòng)??軌跡的長(zhǎng)短稱為入射深度。通過(guò)將粒子轟擊的目標(biāo)材料的密度進(jìn)行歸一化,用線??性能量傳輸(Linear?Energy?Transfer,簡(jiǎn)稱LET)表示帶電粒子在穿過(guò)半導(dǎo)體材??6??
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]The effect of P+ deep well doping on SET pulse propagation[J]. QIN JunRui*,CHEN ShuMing,LIU BiWei,LIU FanYu & CHEN JianJun School of Computer Science,National University of Defense Technology,Changsha 410073,China. Science China(Technological Sciences). 2012(03)
[2]基于RHBD技術(shù)的深亞微米抗輻射SRAM電路的研究[J]. 王一奇,趙發(fā)展,劉夢(mèng)新,呂蔭學(xué),趙博華,韓鄭生. 半導(dǎo)體技術(shù). 2012(01)
[3]空間輻射環(huán)境概述[J]. 李桃生,陳軍,王志強(qiáng). 輻射防護(hù)通訊. 2008(02)
[4]模擬電路的單粒子瞬時(shí)效應(yīng)[J]. 陳盤訓(xùn),周開明. 核技術(shù). 2006(03)
[5]單粒子效應(yīng)對(duì)衛(wèi)星空間運(yùn)行可靠性影響[J]. 王長(zhǎng)河. 半導(dǎo)體情報(bào). 1998(01)
博士論文
[1]SRAM存儲(chǔ)器抗單粒子翻轉(zhuǎn)加固設(shè)計(jì)技術(shù)研究[D]. 郭靖.哈爾濱工業(yè)大學(xué) 2015
[2]微納級(jí)SRAM器件單粒子效應(yīng)理論模擬研究[D]. 耿超.中國(guó)科學(xué)院研究生院(近代物理研究所) 2014
[3]集成電路單粒子效應(yīng)建模與加固方法研究[D]. 劉必慰.國(guó)防科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2009
碩士論文
[1]基于體硅CMOS工藝的SRAM單元SEU加固研究[D]. 陳子洋.安徽大學(xué) 2018
[2]65nm體硅CMOS工藝下SRAM單元抗輻照加固方法研究[D]. 肖松松.安徽大學(xué) 2018
[3]SRAM存儲(chǔ)單元抗單粒子翻轉(zhuǎn)研究[D]. 丁朋輝.安徽大學(xué) 2017
[4]基于65NM體硅CMOS工藝SRAM 6管單元抗輻射加固技術(shù)的研究[D]. 李國(guó)慶.安徽大學(xué) 2016
[5]納米集成電路單粒子瞬變中電荷收集機(jī)理及加固方法研究[D]. 林子壬.國(guó)防科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2013
[6]三模冗余系統(tǒng)中的同步研究[D]. 袁果.西南交通大學(xué) 2008
本文編號(hào):3120409
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