基于磁二色效應(yīng)的光發(fā)射電子顯微鏡磁成像技術(shù)是研究薄膜磁疇結(jié)構(gòu)的一種重要研究手段,具有空間分辨率高、可實(shí)時成像以及對表面信息敏感等優(yōu)點(diǎn).以全固態(tài)深紫外激光（波長為177.3 nm;能量為7.0 eV）為激發(fā)光源的光發(fā)射電子顯微技術(shù)相比于傳統(tǒng)的光發(fā)射電子顯微鏡磁成像技術(shù)（以同步輻射光源或汞燈為激發(fā)源）,擺脫了大型同步輻射光源的限制;同時又解決了當(dāng)前閾激發(fā)研究中由于激發(fā)光源能量低難以實(shí)現(xiàn)光電子直接激發(fā)的技術(shù)難題,在實(shí)驗(yàn)室條件下實(shí)現(xiàn)了高分辨磁成像.本文首先對最新搭建的深紫外激光-光發(fā)射電子顯微鏡系統(tǒng)做了簡單介紹.然后結(jié)合超高真空分子束外延薄膜沉積技術(shù),成功實(shí)現(xiàn)了L10-FePt垂直磁各向異性薄膜的磁疇觀測,其空間分辨率高達(dá)43.2 nm,與利用X射線作為激發(fā)源的光發(fā)射電子顯微鏡磁成像技術(shù)處于同一量級,為后續(xù)開展高分辨磁成像提供了便利.最后,重點(diǎn)介紹了在該磁成像技術(shù)方面取得的一些最新研究成果:通過引入Cr的納米"臺階",成功設(shè)計出FePt的（001）與（111）雙取向外延薄膜;并在"臺階"區(qū)域使用線偏振態(tài)深紫外激光觀測到了磁線二色襯度,其強(qiáng)度為圓二色襯度的4.6倍.上述研究結(jié)果表明:深紫外激光-... 

【文章來源】：物理學(xué)報. 2020,69(09)北大核心EISCICSCD

【文章頁數(shù)】：14 頁

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]PEEM/LEEM技術(shù)在兩維原子晶體表面物理化學(xué)研究中的應(yīng)用[J]. 寧艷曉,傅強(qiáng),包信和.  物理化學(xué)學(xué)報. 2016(01)
[2]深紫外激光光發(fā)射電子顯微鏡（PEEM）[J]. 曹凝,傅強(qiáng),包信和.  中國科學(xué)院院刊. 2012(01)
[3]同步輻射X射線磁二色性在自旋電子學(xué)研究中的應(yīng)用[J]. 吳義政.  物理. 2010(06)



本文編號：3106865