LDO單粒子閂鎖效應(yīng)及維持電流的特性研究
發(fā)布時(shí)間:2021-02-16 17:54
針對(duì)一種LDO,研究了重離子Cl、Ge輻照觸發(fā)的單粒子閂鎖(SEL)效應(yīng)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,輸入1.8 V時(shí),SEL電流范圍為850~950 mA;輸入3.3 V時(shí),SEL電流范圍為6.2~6.4 mA。隨著限制電流值的增高,退出SEL的時(shí)間逐漸增大,最終無法退出。該LDO的SEL維持電流范圍為350~400 mA,可通過正常工作電流和允許的中斷時(shí)間來選擇合適的限制電流值。
【文章來源】:微電子學(xué). 2020,50(01)北大核心
【文章頁數(shù)】:5 頁
【部分圖文】:
Cl離子輻照下1#樣品負(fù)載輸出電流曲線
圖1 Cl離子輻照下1#樣品負(fù)載輸出電流曲線對(duì)不同離子下的SEL電流進(jìn)行對(duì)比。1.8 V輸入電壓時(shí),Cl離子、Ge離子輻照下,SEL電流分別為862 mA、852 mA。3.3 V輸入電壓時(shí),Cl離子、Ge離子輻照下,SEL電流分別為6.2 mA、6.3 mA。這表明,器件的SEL電流變化很小,即Cl離子、Ge離子對(duì)SEL電流的影響不明顯。
由圖1至圖3可以看出,3.3 V輸入電壓時(shí),SEL電流增大了12.5倍,1.8 V輸入電壓時(shí),SEL電流的增大倍數(shù)超過1 000。這表明,在不同供電電壓下,SEL電流值的差異很大。LDO芯片的電路圖如圖4所示。VIN端(為3.3 V)與1個(gè)運(yùn)算放大器的輸入端相接致使該電路呈現(xiàn)高阻態(tài),有很強(qiáng)的電流限制作用。在發(fā)生SEL效應(yīng)時(shí),SEL電流的增加值較小。然而,在與VLDOIN端(為1.8 V)連接的區(qū)域電路中,在發(fā)生SEL效應(yīng)時(shí),SEL電流急劇增大。
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]0.18 μm CMOS器件SEL仿真和設(shè)計(jì)[J]. 李燕妃,吳建偉,謝儒彬,洪根深. 電子與封裝. 2017(02)
[2]復(fù)雜數(shù)字電路中的單粒子效應(yīng)建模綜述[J]. 吳馳,畢津順,滕瑞,解冰清,韓鄭生,羅家俊,郭剛,劉杰. 微電子學(xué). 2016(01)
[3]微小衛(wèi)星單粒子閂鎖防護(hù)技術(shù)研究[J]. 張昊,王新升,李博,周開興,陳德祥. 紅外與激光工程. 2015(05)
[4]不同工藝尺寸CMOS器件單粒子閂鎖效應(yīng)及其防護(hù)方法[J]. 陳睿,余永濤,董剛,上官士鵬,封國強(qiáng),韓建偉,馬英起,朱翔. 強(qiáng)激光與粒子束. 2014(07)
[5]SRAM K6R4016V1D單粒子閂鎖及防護(hù)試驗(yàn)研究[J]. 余永濤,封國強(qiáng),陳睿,上官士鵬,韓建偉. 原子能科學(xué)技術(shù). 2012(S1)
[6]180nm CMOS工藝下SEL敏感性關(guān)鍵影響因素[J]. 秦軍瑞,陳書明,陳建軍,梁斌,劉必慰. 國防科技大學(xué)學(xué)報(bào). 2011(03)
[7]基于COTS的空間信息處理系統(tǒng)單粒子閉鎖保護(hù)技術(shù)實(shí)現(xiàn)[J]. 李毅,李瑞,黃影,劉東,張春元. 宇航學(xué)報(bào). 2007(05)
[8]基于LDO限流技術(shù)的輻射閂鎖防護(hù)技術(shù)[J]. 張偉功,蔣軒祥,唐雪寒,郝躍. 西安電子科技大學(xué)學(xué)報(bào). 2004(04)
[9]衛(wèi)星器件DC/DC抗單粒子效應(yīng)的研究[J]. 賈霞. 航天器環(huán)境工程. 2004(01)
本文編號(hào):3036721
【文章來源】:微電子學(xué). 2020,50(01)北大核心
【文章頁數(shù)】:5 頁
【部分圖文】:
Cl離子輻照下1#樣品負(fù)載輸出電流曲線
圖1 Cl離子輻照下1#樣品負(fù)載輸出電流曲線對(duì)不同離子下的SEL電流進(jìn)行對(duì)比。1.8 V輸入電壓時(shí),Cl離子、Ge離子輻照下,SEL電流分別為862 mA、852 mA。3.3 V輸入電壓時(shí),Cl離子、Ge離子輻照下,SEL電流分別為6.2 mA、6.3 mA。這表明,器件的SEL電流變化很小,即Cl離子、Ge離子對(duì)SEL電流的影響不明顯。
由圖1至圖3可以看出,3.3 V輸入電壓時(shí),SEL電流增大了12.5倍,1.8 V輸入電壓時(shí),SEL電流的增大倍數(shù)超過1 000。這表明,在不同供電電壓下,SEL電流值的差異很大。LDO芯片的電路圖如圖4所示。VIN端(為3.3 V)與1個(gè)運(yùn)算放大器的輸入端相接致使該電路呈現(xiàn)高阻態(tài),有很強(qiáng)的電流限制作用。在發(fā)生SEL效應(yīng)時(shí),SEL電流的增加值較小。然而,在與VLDOIN端(為1.8 V)連接的區(qū)域電路中,在發(fā)生SEL效應(yīng)時(shí),SEL電流急劇增大。
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]0.18 μm CMOS器件SEL仿真和設(shè)計(jì)[J]. 李燕妃,吳建偉,謝儒彬,洪根深. 電子與封裝. 2017(02)
[2]復(fù)雜數(shù)字電路中的單粒子效應(yīng)建模綜述[J]. 吳馳,畢津順,滕瑞,解冰清,韓鄭生,羅家俊,郭剛,劉杰. 微電子學(xué). 2016(01)
[3]微小衛(wèi)星單粒子閂鎖防護(hù)技術(shù)研究[J]. 張昊,王新升,李博,周開興,陳德祥. 紅外與激光工程. 2015(05)
[4]不同工藝尺寸CMOS器件單粒子閂鎖效應(yīng)及其防護(hù)方法[J]. 陳睿,余永濤,董剛,上官士鵬,封國強(qiáng),韓建偉,馬英起,朱翔. 強(qiáng)激光與粒子束. 2014(07)
[5]SRAM K6R4016V1D單粒子閂鎖及防護(hù)試驗(yàn)研究[J]. 余永濤,封國強(qiáng),陳睿,上官士鵬,韓建偉. 原子能科學(xué)技術(shù). 2012(S1)
[6]180nm CMOS工藝下SEL敏感性關(guān)鍵影響因素[J]. 秦軍瑞,陳書明,陳建軍,梁斌,劉必慰. 國防科技大學(xué)學(xué)報(bào). 2011(03)
[7]基于COTS的空間信息處理系統(tǒng)單粒子閉鎖保護(hù)技術(shù)實(shí)現(xiàn)[J]. 李毅,李瑞,黃影,劉東,張春元. 宇航學(xué)報(bào). 2007(05)
[8]基于LDO限流技術(shù)的輻射閂鎖防護(hù)技術(shù)[J]. 張偉功,蔣軒祥,唐雪寒,郝躍. 西安電子科技大學(xué)學(xué)報(bào). 2004(04)
[9]衛(wèi)星器件DC/DC抗單粒子效應(yīng)的研究[J]. 賈霞. 航天器環(huán)境工程. 2004(01)
本文編號(hào):3036721
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