本文介紹了ZnSe晶體的制備方法及其重要應(yīng)用背景,系統(tǒng)地總結(jié)了化學(xué)氣相沉積法（CVD）制備ZnSe過程中產(chǎn)生的各類缺陷,包括云霧、孔洞和微裂紋、夾雜、分層和胞狀物。采用SEM、體視顯微鏡、金相顯微鏡、傅里葉光譜儀等方法對缺陷進(jìn)行了表征。結(jié)合國內(nèi)外文獻(xiàn)和檢測結(jié)果,對各類缺陷可能的產(chǎn)生機(jī)理及抑制方法進(jìn)行了闡述與分析。 

【文章來源】：人工晶體學(xué)報. 2020,49(01)北大核心

【文章頁數(shù)】：6 頁

【文章目錄】：
0 引言
1 反應(yīng)機(jī)理
2 缺陷的種類及產(chǎn)生機(jī)理分析
    2.1 云霧
    2.2 孔洞和微裂紋
    2.3 夾雜
    2.4 分層
    2.5 胞狀物
3 小結(jié)


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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本文編號：3031209