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半絕緣GaAs的歐姆接觸電極材料Ag/Co摻雜的非晶碳膜制備與檢測

發(fā)布時(shí)間:2020-12-19 15:24
  穩(wěn)定的歐姆接觸對半導(dǎo)體器件的正常工作起到至關(guān)重要的作用.目前市場上主要采用金/金鍺鎳合金作為n型GaAs的電極材料,工藝復(fù)雜,成本高昂.本文研究了一種新型的、廉價(jià)的適用于半絕緣GaAs的歐姆接觸電極材料Ag/Co摻雜的非晶碳膜及其制備過程,以便于讀者對半導(dǎo)體器件的制備工藝和流程有所了解. 

【文章來源】:大學(xué)物理. 2017年06期 北大核心

【文章頁數(shù)】:4 頁

【部分圖文】:

半絕緣GaAs的歐姆接觸電極材料Ag/Co摻雜的非晶碳膜制備與檢測


Ag/a-C:Co電極結(jié)構(gòu)及光電測試示意圖

拉曼光譜圖,拉曼光譜,活動(dòng)模式,半絕緣GaAs


姆薔Ы?構(gòu).非晶碳在1580cm-1處有一個(gè)拉曼活動(dòng)模式對應(yīng)C=C鍵的伸縮振動(dòng)峰(G峰),在1350cm-1處還有一個(gè)二次拉曼活動(dòng)模式對應(yīng)K區(qū)邊界環(huán)的呼吸振動(dòng)(D峰)[11].圖2中的拉曼光譜證實(shí)了其無定型碳結(jié)構(gòu),其中D峰在1365cm-1,G峰在1595cm-1,D峰和G峰的強(qiáng)度比ID/IG≈0.96.Tamor等在大量實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)基礎(chǔ)上統(tǒng)計(jì)獲得了非晶碳膜中SP3組分和帶隙與ID/IG的關(guān)系曲線[12].根據(jù)其統(tǒng)計(jì)規(guī)律并結(jié)合測定的實(shí)驗(yàn)結(jié)果,我們推測a-C:Co薄膜中SP3組分約45%,帶隙約為1.0~1.5eV.圖2a-C:Co薄膜的拉曼光譜2.2Ag/a-C:Co電極的歐姆接觸測試如圖3所示,為對所制備電極采用數(shù)字源表、光源使用紅光激光二極管測得的有無光照下的I-V曲線圖.兩者的I-V曲線皆具有很好的線性和對稱關(guān)系,證實(shí)了電極與半絕緣GaAs之間為歐姆接觸.圖3半絕緣GaAs的光照與無光照下的I-V曲線以上實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象的物理原因可以解釋為:突變異質(zhì)結(jié)的接觸電勢差VD可用下式[13]表示:

曲線,半絕緣GaAs,無光,光照


C鍵的伸縮振動(dòng)峰(G峰),在1350cm-1處還有一個(gè)二次拉曼活動(dòng)模式對應(yīng)K區(qū)邊界環(huán)的呼吸振動(dòng)(D峰)[11].圖2中的拉曼光譜證實(shí)了其無定型碳結(jié)構(gòu),其中D峰在1365cm-1,G峰在1595cm-1,D峰和G峰的強(qiáng)度比ID/IG≈0.96.Tamor等在大量實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)基礎(chǔ)上統(tǒng)計(jì)獲得了非晶碳膜中SP3組分和帶隙與ID/IG的關(guān)系曲線[12].根據(jù)其統(tǒng)計(jì)規(guī)律并結(jié)合測定的實(shí)驗(yàn)結(jié)果,我們推測a-C:Co薄膜中SP3組分約45%,帶隙約為1.0~1.5eV.圖2a-C:Co薄膜的拉曼光譜2.2Ag/a-C:Co電極的歐姆接觸測試如圖3所示,為對所制備電極采用數(shù)字源表、光源使用紅光激光二極管測得的有無光照下的I-V曲線圖.兩者的I-V曲線皆具有很好的線性和對稱關(guān)系,證實(shí)了電極與半絕緣GaAs之間為歐姆接觸.圖3半絕緣GaAs的光照與無光照下的I-V曲線以上實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象的物理原因可以解釋為:突變異質(zhì)結(jié)的接觸電勢差VD可用下式[13]表示:

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]LED照亮世界——2014年度諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)介紹[J]. 胡曉東.  大學(xué)物理. 2015(02)
[2]非晶碳膜中sp~2和sp~3相的檢測方法[J]. 魯占靈,張兵臨,姚寧,楊仕娥,樊志琴.  材料導(dǎo)報(bào). 2006(06)
[3]歐姆接觸中接觸電阻率的計(jì)算[J]. 甄聰棉,李秀玲,潘成福,聶向富,王印月.  大學(xué)物理. 2005(06)



本文編號:2926133

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