GaN基雙勢壘多諧RTD器件的研究
發(fā)布時間:2020-12-07 21:46
隨著III族氮化物材料和納米量子器件的發(fā)展,基于GaN的共振隧穿二極管(RTD)越來越受到人們的關(guān)注,因為它比基于GaAs的共振隧穿二極管具有更好的性能,如更寬的直接帶隙,更大的帶偏移,更高的峰值電子速度,以及更高的臨界擊穿電壓和熱穩(wěn)定性。本文在對GaN的晶體結(jié)構(gòu)、極化效應(yīng)以及在獲得NDR特性的詳細研究基礎(chǔ)上,選擇初始晶面為a面的GaN作為襯底以及AlGaN/GaN/AlGaN的雙勢壘單阱(DBS)材料結(jié)構(gòu),從而在較低偏置電壓范圍內(nèi)獲得多諧共振隧穿特性,即具有多個NDR特性,并把這種RTD定義為多諧RTD。目前國內(nèi)外對多諧RTD的報道并不多,本文研究的多諧RTD可用于面向純量子邏輯電路方面的應(yīng)用。本文以GaN基雙勢壘多諧RTD為研究對象,并用Slivaco TCAD軟件對所設(shè)計的多諧RTD的器件結(jié)構(gòu)進行仿真。本文重點研究了對稱雙勢壘和非對稱雙勢壘結(jié)構(gòu)對多諧RTD特性的影響。在對稱結(jié)構(gòu)中,仿真結(jié)果表明,由于量子尺寸效應(yīng)的存在,勢阱寬度的改變主要影響多諧RTD負阻區(qū)個數(shù)的變化,所以可以根據(jù)對多諧RTD負阻區(qū)個數(shù)的需求,選擇合適的勢阱寬度;勢壘厚度和勢壘高度的改變影響多諧RTD峰谷電流值、峰...
【文章來源】:杭州電子科技大學(xué)浙江省
【文章頁數(shù)】:72 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖2.2不同類型的RTD能帶結(jié)構(gòu)示意圖??
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不會降到0,而是降到一個最低值,電流從峰值降到谷值,從而表現(xiàn)出負微分電阻(NDR)??特性。??第四階段,如圖2.4.d所示,當E^Er^koT時,由發(fā)射極到集電極方向的共振隧穿現(xiàn)象再??次增強,電流又會隨著電壓的增大而增大。??——?——??Pfl?Eh-3Kf!??^?E〇??^??—L-i?—?Ec?、??Er-3K.T?????Ec?????????一??\???a.第一階段?b.第二階段??K??Ef-3K-T?二___^??—__^?p?\??Ec?^?E(?^?\??v.?Eft?_??、Li^:?\??c.第三階段?d.第四階段??圖2.4?RTD隧穿過程的不同階段??2.3?RTD的特性??由RTD的隨穿過程可知,對雙勢壘單勢阱結(jié)構(gòu)的RTD的兩端加不同的偏壓時,其電流??是變化的,其I-V特性曲線示意圖如圖2.5所示。??I/A?I/A??A/?1/1/??Voltage/V?Vollage/V??圖2.5丨-V特性曲線示意圖?圖2.6理想的丨-V特性曲線??由圖2.5可以看出,當外加偏壓為零時,其電流也為零,對應(yīng)圖中的A點。隨著外加偏??壓的增大,發(fā)生共振隧穿效應(yīng),電流也增大,對應(yīng)圖中的B點。當基態(tài)能級等于發(fā)射區(qū)導(dǎo)帶??底能級,電流達到最大,對應(yīng)圖中的C點。隨后共振隧穿消失,電流減小,對應(yīng)圖中的D點。??直到達到谷值,對應(yīng)圖中的E點。電流隨電壓的增大而逐漸減小,這是呈現(xiàn)的特性就是共振??隧穿器件非常重要的一個特性一一負微分電阻特性(NDR)
【參考文獻】:
期刊論文
[1]A GaN/InGaN/AlGaN MQW RTD for versatile MVL applications with improved logic stability[J]. Haipeng Zhang,Qiang Zhang,Mi Lin,Weifeng Lü,Zhonghai Zhang,Jianling Bai,Jian He,Bin Wang,Dejun Wang. Journal of Semiconductors. 2018(07)
[2]子阱及非對稱勢壘對GaN RTD電學(xué)特性的影響[J]. 蘇娟,譚為,高博. 太赫茲科學(xué)與電子信息學(xué)報. 2017(05)
[3]Piezoelectric polarization and quantum size effects on the vertical transport in AlGaN/GaN resonant tunneling diodes[J]. Dakhlaoui H,Almansour S. Chinese Physics B. 2016(06)
[4]太赫茲通信技術(shù)研究進展[J]. 顧立,譚智勇,曹俊誠. 物理. 2013(10)
[5]InP材料體系RTD的研制[J]. 高金環(huán),楊瑞霞,武一賓,賈科進,商耀輝,張磊,楊克武. 電子器件. 2007(04)
[6]共振隧穿二極管(RTD)的物理模型——共振隧穿器件講座(3)[J]. 郭維廉. 微納電子技術(shù). 2006(04)
[7]共振隧穿器件概述——共振隧穿器件講座(1)[J]. 郭維廉. 微納電子技術(shù). 2005(09)
[8]共振隧穿器件及其集成技術(shù)發(fā)展趨勢和最新進展[J]. 郭維廉,牛萍娟,苗長云. 微納電子技術(shù). 2005(07)
[9]共振隧穿二極管[J]. 郭維廉,梁惠來,張世林,牛萍娟,毛陸虹,趙振波,郝景臣,魏碧華,張豫黔,宋婉華,楊中月. 微納電子技術(shù). 2002(05)
[10]GaN的極性特征、測量及應(yīng)用[J]. 劉寶林. 半導(dǎo)體光電. 2002(02)
博士論文
[1]高性能AlGaN/GaN異質(zhì)結(jié)材料的MOCVD生長與特性研究[D]. 倪金玉.西安電子科技大學(xué) 2009
本文編號:2903946
【文章來源】:杭州電子科技大學(xué)浙江省
【文章頁數(shù)】:72 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖2.2不同類型的RTD能帶結(jié)構(gòu)示意圖??
??2.2.a、2.2.b)和帶間隧穿(如圖2.2c),其中帶內(nèi)隧穿又可分為空穴型和電子型兩種。??…??j?l——...r1:'inni???門?「??.?????j??-?4??—??H?|?[?廣 ̄一?? ̄J ̄I????a.空穴型帶內(nèi)隧穿?b.電子型帶內(nèi)隧穿?c.帶間隧穿??圖2.2不同類型的RTD能帶結(jié)構(gòu)示意圖??2.2?RTD的工作原理??量子力學(xué)理論表明,當量子阱的寬度近似于德布羅意波長時,阱中的一個能量E將發(fā)生??量子化[561,形成束縛態(tài)能級如圖2.3所示。由圖2.3可以看出,這時形成的束縛態(tài)能級是分立??的并且是不連續(xù)的。????1量子化???能級??發(fā)射區(qū)?|?DBS區(qū)?|?集電區(qū)??^1?S?7T1?nVTTVTTX??圖2.3共振隧穿能帶結(jié)構(gòu)圖??量子阱中的能級能量為:??,2?2/?\2??盡=士?f=?…?(2.1)??^?L]V?^??能量間隔為:??A^(n+1),??=?En+l?-En=^J-f\?[(n?+1)2?-?n2?]?(2.2)??2m?\LW)??發(fā)生共振隧穿的條件為:??E?=?E0+-^t-?(Ec<E<Ef)?(2.3)??2m??[2?7*{E0?-Ec)]^?<?<?[2m*{Ef?-Ec)]^?(2.4)??式中,A是簡約普朗克常數(shù),是電子有效質(zhì)量,LW為量子阱寬度,E〇為基態(tài)能級能量,??Ec為發(fā)射區(qū)導(dǎo)帶底能級,EF為費米能級,kxy為隧穿時xy方向的動量。由式(2.1)和式(2.2)??可知
不會降到0,而是降到一個最低值,電流從峰值降到谷值,從而表現(xiàn)出負微分電阻(NDR)??特性。??第四階段,如圖2.4.d所示,當E^Er^koT時,由發(fā)射極到集電極方向的共振隧穿現(xiàn)象再??次增強,電流又會隨著電壓的增大而增大。??——?——??Pfl?Eh-3Kf!??^?E〇??^??—L-i?—?Ec?、??Er-3K.T?????Ec?????????一??\???a.第一階段?b.第二階段??K??Ef-3K-T?二___^??—__^?p?\??Ec?^?E(?^?\??v.?Eft?_??、Li^:?\??c.第三階段?d.第四階段??圖2.4?RTD隧穿過程的不同階段??2.3?RTD的特性??由RTD的隨穿過程可知,對雙勢壘單勢阱結(jié)構(gòu)的RTD的兩端加不同的偏壓時,其電流??是變化的,其I-V特性曲線示意圖如圖2.5所示。??I/A?I/A??A/?1/1/??Voltage/V?Vollage/V??圖2.5丨-V特性曲線示意圖?圖2.6理想的丨-V特性曲線??由圖2.5可以看出,當外加偏壓為零時,其電流也為零,對應(yīng)圖中的A點。隨著外加偏??壓的增大,發(fā)生共振隧穿效應(yīng),電流也增大,對應(yīng)圖中的B點。當基態(tài)能級等于發(fā)射區(qū)導(dǎo)帶??底能級,電流達到最大,對應(yīng)圖中的C點。隨后共振隧穿消失,電流減小,對應(yīng)圖中的D點。??直到達到谷值,對應(yīng)圖中的E點。電流隨電壓的增大而逐漸減小,這是呈現(xiàn)的特性就是共振??隧穿器件非常重要的一個特性一一負微分電阻特性(NDR)
【參考文獻】:
期刊論文
[1]A GaN/InGaN/AlGaN MQW RTD for versatile MVL applications with improved logic stability[J]. Haipeng Zhang,Qiang Zhang,Mi Lin,Weifeng Lü,Zhonghai Zhang,Jianling Bai,Jian He,Bin Wang,Dejun Wang. Journal of Semiconductors. 2018(07)
[2]子阱及非對稱勢壘對GaN RTD電學(xué)特性的影響[J]. 蘇娟,譚為,高博. 太赫茲科學(xué)與電子信息學(xué)報. 2017(05)
[3]Piezoelectric polarization and quantum size effects on the vertical transport in AlGaN/GaN resonant tunneling diodes[J]. Dakhlaoui H,Almansour S. Chinese Physics B. 2016(06)
[4]太赫茲通信技術(shù)研究進展[J]. 顧立,譚智勇,曹俊誠. 物理. 2013(10)
[5]InP材料體系RTD的研制[J]. 高金環(huán),楊瑞霞,武一賓,賈科進,商耀輝,張磊,楊克武. 電子器件. 2007(04)
[6]共振隧穿二極管(RTD)的物理模型——共振隧穿器件講座(3)[J]. 郭維廉. 微納電子技術(shù). 2006(04)
[7]共振隧穿器件概述——共振隧穿器件講座(1)[J]. 郭維廉. 微納電子技術(shù). 2005(09)
[8]共振隧穿器件及其集成技術(shù)發(fā)展趨勢和最新進展[J]. 郭維廉,牛萍娟,苗長云. 微納電子技術(shù). 2005(07)
[9]共振隧穿二極管[J]. 郭維廉,梁惠來,張世林,牛萍娟,毛陸虹,趙振波,郝景臣,魏碧華,張豫黔,宋婉華,楊中月. 微納電子技術(shù). 2002(05)
[10]GaN的極性特征、測量及應(yīng)用[J]. 劉寶林. 半導(dǎo)體光電. 2002(02)
博士論文
[1]高性能AlGaN/GaN異質(zhì)結(jié)材料的MOCVD生長與特性研究[D]. 倪金玉.西安電子科技大學(xué) 2009
本文編號:2903946
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