PZT壓電薄膜體聲波諧振器制備研究
【學位單位】:中北大學
【學位級別】:碩士
【學位年份】:2018
【中圖分類】:TN751.2
【部分圖文】:
圖 1.1 FBAR器件相對于傳統(tǒng)器件的性能優(yōu)勢膜體聲波諧振器的國內(nèi)外研究動態(tài)世紀60年代初期,為了拔高石英晶振的工作頻段, 體聲波 器件應運而生ewell制成了第一個固體裝配型諧振器[8],該器件采用了布拉格反射層結(jié)構(gòu)加工工藝水平的限制,只是個實驗室的概念,未能實現(xiàn)商業(yè)化應用。壓電器的概念是1980年由三個研究小組各自獨立提出的[9]。最早提出的背腔刻撐層一般由一層p型摻雜的Si、SiO2或Si3N4充當,壓電材料為ZnO,電極t。襯底采用(100)取向的Si,利用Si的各向異性刻蝕將壓電振蕩堆漏出,為自停止層完成刻蝕。20世紀90年代,聲表面波器件(SAW)加工工藝逐漸AW的濾波器和雙工器逐漸被廣泛應用于無線通信系統(tǒng),成為主要的頻率器BAR性能尚不足以與SAW相比,這種情況在20世紀末未發(fā)生改變。美國麻
微系統(tǒng)實驗室采用硅刻蝕技術(shù)和鍵合技術(shù),構(gòu)造出壓電薄膜懸空的密封腔,得到了基模中心頻率為1.35GHz、品質(zhì)因數(shù)為540、機電耦合系數(shù)為6.4%、插損為3dB的AlN薄膜體聲波諧振器(如圖1.2),并在集成電路中得到首次應用[12]。(a)器件結(jié)構(gòu)圖 (b)器件集成電路圖1.2 麻省理工學院AlN諧振器結(jié)構(gòu)及應用圖近年來,全球參與FBAR研究的機構(gòu)眾多,企業(yè)單位如美國的Motorola公司,德國的 EPCOS公司,芬蘭的 Nokia公司,日本的 Fujutsu公司,韓國的 Samsung公司等;學術(shù)單位如美國麻省理工學院
該結(jié)構(gòu)明顯地提高了諧振器的性能[19]。藝探索方面主要針對諧振頻率的精確控制、材料改性、新穎器S工藝集成性的增強、牢固可靠的封裝技術(shù)等問題。新加坡微電通過引入SiO2和Si3N4保護層(如圖1.3),成功地解決了當使用犧牲層時壓電層AlN和Mo電極之間的粘附問題,以及刻蝕氣問題,進一步提高了FBAR器件與CMOS工藝的兼容性[20];Kim諧振器制備工藝步驟多的問題,創(chuàng)新性提出了使用Mg作為犧牲大簡化了工藝過程[21];天津大學的龐慰和張浩教授課題組研究AR傳感器,并對體聲波的液相響應進行了分析,并通過分子單現(xiàn)了器件的可調(diào)諧性,其頻率移動高達20 MHz[22];清華大學次在柔性基底上實現(xiàn)了AlN基FBAR器件的制備[23],經(jīng)過數(shù)次彎好的諧振性能(如圖1.3),這對柔性無線電子器件的發(fā)展具有
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