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PZT壓電薄膜體聲波諧振器制備研究

發(fā)布時間:2020-11-20 03:19
   隨著無線通訊技術(shù)的高速發(fā)展,通訊終端多功能化(如GPS導航、數(shù)據(jù)傳輸?shù)?的市場需求日異強烈,以及星載、機載、彈載等電子系統(tǒng)對元器件體積、功耗等因素的嚴格要求,研制具有高Q值、微型化、集成化特點的高性能頻率器件成為無線通訊發(fā)展的關(guān)鍵部分。提出一種基于PZT壓電效應薄膜體聲波諧振器,對高性能頻率器件的發(fā)展具有重要的意義。論文深入討論了薄膜體聲波諧振器的工作機制,詳細地闡述了FBAR器件基本電學等效模型及建模方法,借助ADS電學仿真、Comsol有限元仿真,研究了壓電材料厚度及種類,電極材料種類及形狀,諧振區(qū)域面積等物理結(jié)構(gòu)對FBAR阻抗特性的影響。基于仿真結(jié)果優(yōu)化設(shè)計了器件尺寸,最優(yōu)尺寸下分析諧振中心區(qū)域壓電層的位移分布,結(jié)合PZT壓電薄膜應變范圍,論證器件結(jié)構(gòu)可行性,結(jié)合MEMS加工工藝,確定器件加工技術(shù)路線,完成版圖設(shè)計。采用sol-gel技術(shù)完成了PZT壓電薄膜晶圓級異質(zhì)集成,得到了成膜致密、取向性良好、厚度均勻的壓電薄膜,最優(yōu)匹配了FBAR器件的材料屬性要求。采用MEMS體硅、平面加工工藝完成了薄膜體聲波諧振器基礎(chǔ)芯片制備,針對支撐層釋放工藝成品率低的技術(shù)瓶頸,創(chuàng)新性地提出了TMAH氣相刻蝕方法,實現(xiàn)體硅加工的高均勻性、低粗糙度的陣列平面一體化刻蝕,解決了高質(zhì)量薄膜釋放濕法刻蝕技術(shù)難題。最后,自主搭建測試平臺初步完成原型樣機S參數(shù)測試實驗。實驗結(jié)果表明,基礎(chǔ)芯片串聯(lián)諧振頻率f_s=1.147GHz,并聯(lián)諧振頻率f_p=1.209GHz,帶寬為62MHz,器件機電耦合系數(shù)k~2_(tff)=12.65%,與仿真結(jié)果差距較小,得到了較滿意的實驗結(jié)果。
【學位單位】:中北大學
【學位級別】:碩士
【學位年份】:2018
【中圖分類】:TN751.2
【部分圖文】:

器件,體聲波


圖 1.1 FBAR器件相對于傳統(tǒng)器件的性能優(yōu)勢膜體聲波諧振器的國內(nèi)外研究動態(tài)世紀60年代初期,為了拔高石英晶振的工作頻段, 體聲波 器件應運而生ewell制成了第一個固體裝配型諧振器[8],該器件采用了布拉格反射層結(jié)構(gòu)加工工藝水平的限制,只是個實驗室的概念,未能實現(xiàn)商業(yè)化應用。壓電器的概念是1980年由三個研究小組各自獨立提出的[9]。最早提出的背腔刻撐層一般由一層p型摻雜的Si、SiO2或Si3N4充當,壓電材料為ZnO,電極t。襯底采用(100)取向的Si,利用Si的各向異性刻蝕將壓電振蕩堆漏出,為自停止層完成刻蝕。20世紀90年代,聲表面波器件(SAW)加工工藝逐漸AW的濾波器和雙工器逐漸被廣泛應用于無線通信系統(tǒng),成為主要的頻率器BAR性能尚不足以與SAW相比,這種情況在20世紀末未發(fā)生改變。美國麻

麻省理工學院,諧振器


微系統(tǒng)實驗室采用硅刻蝕技術(shù)和鍵合技術(shù),構(gòu)造出壓電薄膜懸空的密封腔,得到了基模中心頻率為1.35GHz、品質(zhì)因數(shù)為540、機電耦合系數(shù)為6.4%、插損為3dB的AlN薄膜體聲波諧振器(如圖1.2),并在集成電路中得到首次應用[12]。(a)器件結(jié)構(gòu)圖 (b)器件集成電路圖1.2 麻省理工學院AlN諧振器結(jié)構(gòu)及應用圖近年來,全球參與FBAR研究的機構(gòu)眾多,企業(yè)單位如美國的Motorola公司,德國的 EPCOS公司,芬蘭的 Nokia公司,日本的 Fujutsu公司,韓國的 Samsung公司等;學術(shù)單位如美國麻省理工學院

氣體傳感,功能拓展,無線通信,新工藝


該結(jié)構(gòu)明顯地提高了諧振器的性能[19]。藝探索方面主要針對諧振頻率的精確控制、材料改性、新穎器S工藝集成性的增強、牢固可靠的封裝技術(shù)等問題。新加坡微電通過引入SiO2和Si3N4保護層(如圖1.3),成功地解決了當使用犧牲層時壓電層AlN和Mo電極之間的粘附問題,以及刻蝕氣問題,進一步提高了FBAR器件與CMOS工藝的兼容性[20];Kim諧振器制備工藝步驟多的問題,創(chuàng)新性提出了使用Mg作為犧牲大簡化了工藝過程[21];天津大學的龐慰和張浩教授課題組研究AR傳感器,并對體聲波的液相響應進行了分析,并通過分子單現(xiàn)了器件的可調(diào)諧性,其頻率移動高達20 MHz[22];清華大學次在柔性基底上實現(xiàn)了AlN基FBAR器件的制備[23],經(jīng)過數(shù)次彎好的諧振性能(如圖1.3),這對柔性無線電子器件的發(fā)展具有
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本文編號:2890862

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