通過結(jié)合HF酸洗和微分干涉差顯微成像對(duì)兩組拋光元件的亞表面損傷進(jìn)行直接觀測和分析。結(jié)果顯示微分干涉差顯微成像相比于傳統(tǒng)的明場成像具有更好的分辨率,可以更有效檢測HF酸洗后暴露的各種淺塑性亞表面損傷。對(duì)兩組拋光元件的亞表面損傷的對(duì)比分析發(fā)現(xiàn)熔石英元件在拋光中會(huì)產(chǎn)生大量的亞表面損傷,這些亞表面損傷絕大多數(shù)是淺塑性的劃痕和坑,僅有少量的脆性斷裂損傷,較大的拋光顆粒會(huì)產(chǎn)生更多更嚴(yán)重的亞表面損傷,并且這些亞表面損傷被表面沉積層所掩蓋,表面粗糙度不能反映亞表面損傷的嚴(yán)重程度。
【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)方法
2 結(jié)果和討論
3 結(jié)論

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