二維電子及光電子半導(dǎo)體材料的物性模擬與優(yōu)化設(shè)計(jì)
【學(xué)位單位】:吉林大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【學(xué)位年份】:2019
【中圖分類(lèi)】:TN304;TQ133.53
【部分圖文】:
吉林大學(xué)博士論文該式中,E 是能量, 是約化普朗克常數(shù), 表示費(fèi)米速度,而 和代表波矢在 x 和 y 軸方向上的分量。由于能量與波矢成線性相關(guān),該處電穴的有效質(zhì)量均為零,意味著材料具有很高的電子移動(dòng)速度。六個(gè)頂點(diǎn)處空穴都被稱為狄拉克費(fèi)米子,對(duì)應(yīng)的六個(gè)頂點(diǎn)被稱為狄拉克點(diǎn)[25]。
.2 石墨烯(a)原子結(jié)構(gòu)和(b)能帶圖,右側(cè)為狄拉克錐的放大圖管石墨烯材料具有眾多優(yōu)異的物理性質(zhì),但其帶隙接近零的問(wèn)題限子器件領(lǐng)域的應(yīng)用,雖然通過(guò)施加電場(chǎng)[31–36]和化學(xué)修飾[37,38]等方法小的帶隙,但遠(yuǎn)未達(dá)到實(shí)現(xiàn)應(yīng)用的范圍。二硫化鉬材料維過(guò)渡金屬硫族化合物(TMDCs)是一類(lèi)新興二維半導(dǎo)體材料,優(yōu)質(zhì)使其在納米電子學(xué)、納米級(jí)的傳感和驅(qū)動(dòng)等領(lǐng)域的應(yīng)用成為可能制成了晶體管[39]以及單層結(jié)構(gòu)中出現(xiàn)的強(qiáng)光致發(fā)光現(xiàn)象[40,41],吸引 TMDCs 材料的極大興趣。923 年,Linus Pauling 確定了最初的 TMDCs 結(jié)構(gòu)[42]。到上世紀(jì)六十經(jīng)發(fā)現(xiàn)大約 60 種過(guò)渡金屬硫族化合物材料,其中至少 40 種是層狀材
1.3 (a)單層 2H 相、1T 相和 1T’相 TMDCs 的原子結(jié)構(gòu)示意圖。層內(nèi)砌形式和晶格基矢如圖中所示。(b)已知的過(guò)渡金屬硫族化合物結(jié)構(gòu)和性質(zhì)c)能帶結(jié)構(gòu)隨層數(shù)的變化情況,箭頭表示間接或直接帶隙躍遷的路徑[40]。(層 H 相二硫化鉬結(jié)構(gòu)的能帶示意圖,在 K 和 K’點(diǎn)產(chǎn)生劈裂,其中的橙色色分別表示自旋向上和自旋向下[46]。TMDCs 中不同組合形式下的結(jié)構(gòu)多樣性豐富了材料的電子特性。2H 相化鉬、二硒化鉬和二硒化鎢都是半導(dǎo)體材料,均可應(yīng)用在半導(dǎo)體電子設(shè)備 相二硫化鉬結(jié)構(gòu)從體相到單層的能帶演化過(guò)程如圖 1.3c 所示[40,41],價(jià)帶帶底的位置隨著厚度的減小而發(fā)生變化,并且出現(xiàn)間接 直接帶隙的轉(zhuǎn)變中,體相和單層的帶隙分別為 0.88 eV 和 1.71 eV。價(jià)帶頂和導(dǎo)帶底位于兩價(jià)的高對(duì)稱點(diǎn)(K 和 K'),位于布里淵區(qū)的六個(gè)頂角位置,該現(xiàn)象廣泛存層 2H 相 TMDCs 材料和石墨烯材料中,具有重要的谷電子學(xué)研究?jī)r(jià)值。
【相似文獻(xiàn)】
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本文編號(hào):2859505
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