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基于透射電鏡晶格圖像數(shù)字云紋的應(yīng)變測(cè)量方法

發(fā)布時(shí)間:2020-09-15 13:59
   微納米尺度下應(yīng)力/應(yīng)變測(cè)量方法是實(shí)驗(yàn)力學(xué)研究的重要方向之一。近年來(lái)發(fā)展了多種具有不同空間分辨率的微納米實(shí)驗(yàn)力學(xué)新方法。其中,顯微拉曼光譜法已成為微米尺度力學(xué)行為的有效實(shí)驗(yàn)手段;在納米尺度下,已有研究將SPM、SEM、TEM的高分辨能力與光測(cè)力學(xué)的測(cè)量理論相結(jié)合,實(shí)現(xiàn)了具有納米乃至亞納米分辨率的全場(chǎng)變形測(cè)量。然而,在十納米到百納米之間這個(gè)過(guò)渡尺度量級(jí)上,尚缺少一種有效的實(shí)驗(yàn)手段,這使得在跨尺度的實(shí)驗(yàn)力學(xué)分析中,納觀尺度與微觀尺度的實(shí)驗(yàn)分析結(jié)果時(shí)常難以建立量化的關(guān)聯(lián)。本文提出一種通過(guò)量化幾何轉(zhuǎn)角實(shí)現(xiàn)應(yīng)變測(cè)量的數(shù)字云紋新方法RST。該方法以高分辨透射電鏡獲取的晶格圖像為基礎(chǔ),通過(guò)傅立葉變換-反傅里葉變換,將晶格圖像生成三個(gè)不同傾角的TEM柵。以已知應(yīng)變狀態(tài)位置獲取的TEM柵為參考柵,以所需測(cè)量位置獲得的TEM柵為試件柵,分別對(duì)傾角接近的參考柵與試件柵進(jìn)行邏輯運(yùn)算,得到各傾角柵對(duì)應(yīng)的數(shù)字云紋圖像;趲缀卧萍y法的基本原理,建立參考柵與試件柵二者之間柵線傾角的變化(即柵線轉(zhuǎn)角θ)、該柵線轉(zhuǎn)角所對(duì)應(yīng)幾何云紋條紋的傾角與柵線間距變化(即柵線法向應(yīng)變分量)之間的解析關(guān)系。計(jì)量TEM柵線轉(zhuǎn)角與幾何云紋條紋的傾角φ,將其代入以上關(guān)系得到試件柵位置上三個(gè)不同方向的正應(yīng)變,從而實(shí)現(xiàn)面內(nèi)應(yīng)變各分量的解耦測(cè)量。通過(guò)開(kāi)展單向、雙向、剛體轉(zhuǎn)動(dòng)的驗(yàn)證實(shí)驗(yàn),本文證明了RST方法的準(zhǔn)確性并排除了剛體轉(zhuǎn)對(duì)測(cè)量的影響。本文將RST方法應(yīng)用于硅鍺固溶合金多層異質(zhì)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)與MOS管結(jié)構(gòu)橫截面樣品的應(yīng)變分析,并將測(cè)量結(jié)果與顯微拉曼分析數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)比。結(jié)果顯示,RST方法能夠以十納米量級(jí)的空間分辨,定量給出面內(nèi)應(yīng)變?nèi)齻(gè)分量的細(xì)節(jié)信息。
【學(xué)位單位】:天津大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位年份】:2018
【中圖分類(lèi)】:TN16;TP391.41
【部分圖文】:

格圖,透射電子顯微術(shù),成像原理,高分辨


第二章 RST 的理論與技術(shù)基礎(chǔ)所使用方法中所用到的原理,其中包括高分角幾何云紋測(cè)量應(yīng)變、數(shù)字云紋算法、TEM格圖像的柵線提取微術(shù)是一種研究晶體內(nèi)部結(jié)構(gòu)的有效方法。以直接觀測(cè)樣品的晶體結(jié)構(gòu)和原子排列信息射電鏡以達(dá)到了亞亞納米的空間分辨能力,體及礦物質(zhì)等多種領(lǐng)域的研究。子顯微術(shù)的成像原理是相位襯度成像,如圖性結(jié)構(gòu)可被視為一個(gè)周期性的勢(shì)場(chǎng),當(dāng)電子;诓6笮栽,電子束也可被視為面波的振幅,但對(duì)波的相位有調(diào)節(jié)作用。當(dāng)品結(jié)構(gòu)的周期性信息時(shí),透射電子束和若干品的高分辨像[80]。

柵線,云紋


圖 2-2 TEM 晶格圖像的柵線提取[81](a) 單晶硅在(111)晶面的高分辨 TEM 圖像;(b) 圖(a)傅立葉變換后的衍射圖像;(c) 反傅立葉變換得到的 g1, g2和 g3方向的柵線圖Figure 2-2 grating patterns from TEM lattice image[81](a) High resolution TEM image of c-Si on (111) crystal plane; (b) Fourier transform image of (a);(c) grating patterns in g1, g2and g3directions, respectively, achieved by anti-Fourier transform2.2 轉(zhuǎn)角幾何云紋原理所有云紋測(cè)量技術(shù)的基本元素都是柵線。兩組柵線疊合在一起產(chǎn)生的云紋條紋會(huì)隨著柵線幾何形狀的微小改變而發(fā)生宏觀移動(dòng),云紋法就是通過(guò)測(cè)量條紋的移動(dòng)量來(lái)分析物體的位移場(chǎng)。柵線是物體變形信息的載體,因此選用合適的柵線可以方便快捷地提取出物體的變形信息。兩柵線疊加后,其中一個(gè)柵線節(jié)距增加或者減小會(huì)導(dǎo)致兩者相互遮擋光線,從而形成云紋。當(dāng)兩組柵線是平行時(shí)會(huì)形成與柵線平行的云紋,當(dāng)兩個(gè)柵線有相對(duì)轉(zhuǎn)角時(shí)依然能夠形成云紋,即轉(zhuǎn)角云紋。圖 2-3 給出了平行云紋和轉(zhuǎn)角云紋的示意圖。

云紋,轉(zhuǎn)角,柵線


格圖像的柵線提取[81](a) 單晶硅在(111)晶面的高分辨 TEM 圖換后的衍射圖像;(c) 反傅立葉變換得到的 g1, g2和 g3方向的Figure 2-2 grating patterns from TEM lattice image[81]tion TEM image of c-Si on (111) crystal plane; (b) Fourier transfotterns in g1, g2and g3directions, respectively, achieved by anti-Fo何云紋原理測(cè)量技術(shù)的基本元素都是柵線。兩組柵線疊合在一起幾何形狀的微小改變而發(fā)生宏觀移動(dòng),云紋法就是通物體的位移場(chǎng)。柵線是物體變形信息的載體,因此選地提取出物體的變形信息。兩柵線疊加后,其中一個(gè)致兩者相互遮擋光線,從而形成云紋。當(dāng)兩組柵線是云紋,當(dāng)兩個(gè)柵線有相對(duì)轉(zhuǎn)角時(shí)依然能夠形成云紋,平行云紋和轉(zhuǎn)角云紋的示意圖。

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本文編號(hào):2819052

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